【課題】低損失を実現するために誘電特性に優れ、８５０℃以下の低温焼成で銀導体の拡散を抑制可能な緻密なセラミック基板を得るためのグリーンシート用セラミック粉末を提供するものである。
【解決手段】ガラス粉末および無機フィラーを含有するグリーンシート用セラミック粉末であって、前記ガラス粉末が、酸化物を基準として、４〜１９重量％の酸化シリコンと、１６〜２１重量％の酸化アルミナと、３１〜３４重量％の酸化ホウ素と、２２〜３９重量％の酸化カルシウムと、１〜６重量％の酸化バリウムと、０．２〜１．０重量％の酸化マグネシウムと、０．５〜３重量％の酸化亜鉛と、０〜１．５重量％の酸化ジルコニウムまたは酸化チタンの少なくとも一方とからなり全体で１００重量％であり、前記酸化マグネシウム、前記酸化カルシウムおよび前記酸化バリウムの合計が２９．０〜４０．２重量％としたものである。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ配線上に絶縁層を形成しても、焼成時にガラス中に発泡が生じ難く、また低温で焼成可能であり、しかも熱的安定性が良好であり、焼成時にガラスに失透が発生し難い表面平滑性が良好な絶縁層形成材料を提供する。
【解決手段】絶縁層形成材料は、ガラス粉末と無機酸化物粉末を含有する絶縁層形成材料において、（１）ガラス粉末の含有量が７０〜９９．９質量％、無機酸化物粉末の含有量が０．１〜２０質量％であり、（２）ガラス粉末が、ガラス組成として、モル％で、ＺｎＯ １５〜４５％、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜４５％、ＳｉＯ_２ ５〜２５％を含有し、（３）無機酸化物粉末が、Ｃｕおよび／またはＦｅを含有する。 （もっと読む）

金属ペーストをシリコンウエハに前面グリッド電極パターンとして塗布して焼成し、種グリッドカソードを形成する工程と、次に、シリコンウエハをＬＩＰ法にかける工程とによるシリコンウエハの前面のグリッドカソードの製造方法であって、金属ペーストが、有機ビヒクルと、（ａ）ニッケル、銅および銀からなる群から選択される少なくとも１種の導電性金属粉末９０〜９８重量％と、（ｂ）ＰｂＯ ４７．５〜６４．３重量％、ＳｉＯ₂ ２３．８〜３２．２重量％、Ａｌ₂Ｏ₃ ３．９〜５．４重量％、ＴｉＯ₂ ２．８〜３．８重量％およびＢ₂Ｏ₃ ６．９〜９．３重量％を含有するガラスフリットからなる群から選択される少なくとも１種のガラスフリット０．２５〜８重量％とを含む無機含有量とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】第１物質からなるコアおよび第２物質からなるシェルを含むコア−シェル微細構造を有し、第１物質の相対誘電定数が第２物質の相対誘電定数より大きい誘電物質用焼結物質およびその製造方法を提供する。
【解決手段】誘電物質用焼結物質は、ＬｉとＴｉがドープされたＮｉＯ、ＬｉとＡｌがドープされたＮｉＯ、ＣｕＯ、ペロプスカイト構造のＡＣｕ₃Ｔｉ₄Ｏ₁₂、およびＲＥ_2-yＡ’_yＮｉＯ₄よりなる群から選ばれる物質から構成される分散相と、焼結助剤からなる連続相とを含み、前記Ａは０＜ｘ＜１であり、前記ＲＥはＬａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、ＧｄまたはＣｅであり、前記Ａ’はＣａ、ＳｒまたはＢａであり、０＜ｙ＜２である。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ配線上に絶縁層を形成しても、焼成時にガラス中に発泡が生じ難く、また低温で焼成可能であり、しかも熱的安定性が良好であり、焼成時にガラスに失透が発生し難い絶縁層形成用ガラス組成物および絶縁層形成材料を創案することにより、発泡が少なく、且つ表面平滑性が良好な絶縁層を形成し、蛍光表示管等の高輝度化や高精細化に寄与すること。
【解決手段】本発明の絶縁層形成用ガラス組成物は、ガラス組成として、モル％で、ＺｎＯ １５〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜４５％、ＳｉＯ_２ ５〜２５％、ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３（ＣｕＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３の合量） ０．１〜１５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 発光素子が実装されている基板上の複雑な三次元形状に対応したガラス封止部を、周辺の部材へ与えるダメージが少ない状態で、簡易に量産性良く形成する。
【解決手段】一対の電極を有する発光素子１２と、発光素子が搭載される基板１１と、基板に設けられ、発光素子の電極に電気的に接続される基板電極と、発光素子を封止したガラス封止部１６ａと、を有する発光装置であって、ガラス封止部は、基板上で発光素子の周辺部に供給された粉体ガラスあるいはそれと他の材料からなる封止材料が融着されてなり、封止材料を構成する全粒子中の一次粒子の割合が２０％〜１００％の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】 原料ガスとして高純度酸素を使用したときに問題となるオゾン濃度の低下を回避する。
【解決手段】 一対の電極間にオゾン発生用の放電空隙を形成するために、一対の電極に接して誘電体が配置されたオゾン発生装置用放電セルにおいて、前記誘電体の体積抵抗率を１０¹⁴Ω・ｃｍ以上とする。前記誘電体の表面に、オゾン濃度の低下を防止するための機能膜として、体積抵抗率が１０⁶ Ω・ｃｍ以上、１０¹³Ω・ｃｍ以下である低抵抗層を形成する。 （もっと読む）

本発明は、シリコン半導体デバイスおよび光起電力セルの導電性ペースト中に有用なガラス組成物に関する。本発明のガラスは、８〜２６重量％のＳｉＯ₂；０〜９重量％のＢ₂Ｏ₃；０−１７重量％のＦ；４７〜７５重量％のＢｉを含む。
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【課題】耐久性に優れ且つ酸化チタンの結晶を高確率に有する複合体の製造方法、及びこの製造方法で製造される複合体を含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供すること。
【解決手段】複合体の製造方法は、得られるガラス体が酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を１５．０〜９０．０％、Ｐ_２Ｏ_５成分を１０．０〜８５．０％含有するように調製された原料組成物を溶融しガラス化することで、ガラス体を作製するガラス化工程と、ガラス体を粉砕して粉砕ガラスを作製する粉砕工程と、粉砕ガラスを基材上に配置した後に加熱し焼成を行う焼成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス釉薬が表面に設けられた琺瑯やタイルにインクジェット印刷でき、500℃以上の温度で焼成された時に、インクとガラス釉薬成分との化学反応によって、高い明度と彩度が発現するＣＭＹＫ4色の水性遷移金属塩インクとガラス釉薬成分で構成するインクセットを提供する。
【解決手段】琺瑯やタイルのガラス釉薬成分にチタン、アンチモン、或いはニオブ酸化物の少なくとも１種類を０．１−１０％含有させることによって、遷移金属塩のアミン中和水溶液からなるシアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）及びブラック（Ｋ）インク４原色と焼成時に化学反応させ、インクの発色を高明度、高彩度にする。 （もっと読む）