本発明は、触媒の存在下に、少なくとも２個のニトリル基を有するオリゴニトリルを水素化するための方法であって、この触媒は、水素化を開始する前に、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、炭酸アンモニウム塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類金属炭酸水素塩、アンモニウム炭酸水素塩、アルカリ土類金属オキソ炭酸塩、アルカリ金属カルボン酸塩、アルカリ土類金属カルボン酸塩、アンモニウムカルボン酸塩、アルカリ金属リン酸二水素塩、アルカリ土類金属リン酸二水素塩、アルカリ金属リン酸水素塩、アルカリ土類金属リン酸水素塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ土類金属リン酸塩、及びアンモニウムリン酸塩、アルカリ金属酢酸塩、アルカリ土類金属酢酸塩、アンモニウム酢酸塩、アルカリ金属ギ酸塩、アルカリ土類金属ギ酸塩、アンモニウムギ酸塩、アルカリ金属シュウ酸塩、アルカリ土類金属シュウ酸塩、及びアンモニウムシュウ酸塩から選ばれる化合物Ａと接触させることにより前処理されていることを特徴とするオリゴニトリルを水素化するための方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、第一級又は第二級アミンとアクリル酸誘導体との反応によるβ−アミノプロピオン酸誘導体の製造方法であって、
（ｉ）第１の第一級又は第二級アミンを有用アミンとして提供し、アクリル酸誘導体と反応させ、その際有用生成物として第１のβ−アミノプロピオン酸誘導体及びその他に未反応アクリル酸誘導体を含有する反応混合物が得られ、
（ｉｉ）前記反応混合物中に含有される未反応アクリル酸誘導体を捕捉アミンとしての第２の第二級アミンと実質的に完全に第２のβ−アミノプロピオン酸誘導体へと反応させ、その際有用生成物としての第１のβ−アミノプロピオン酸誘導体、第２のβ−アミノプロピオン酸誘導体及び未反応第二級アミンを含有する反応混合物が得られる、
第一級又は第二級アミンとアクリル酸誘導体との反応によるβ−アミノプロピオン酸誘導体の製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】アンチモンや砒素を含有せず、メタノール等のアルコールに対して良好な溶解性を持つ近赤外線吸収化合物、さらにその近赤外線吸収化合物を用いて作製した耐光性等の耐性に優れた赤外線吸収フィルターを提供する。
【解決手段】下記式（１）で示されるジイモニウム化合物、及びこれを用いて得られる近赤外線吸収フイルター。


（式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈は水素原子又は置換基を有していても良い脂肪族炭化水素残基を、Ｒ₉及びＲ₁₀はハロゲン原子を有していても良い脂肪族炭化水素残基をそれぞれ表す。また環Ａ及びＢはさらに置換基を有していてもよい。） （もっと読む）

ロイコトリエンＡ４加水分解酵素（ＬＴＡ４Ｈ）阻害剤、これらを含有させた組成物、そしてそれらをＬＴＡ４Ｈ酵素活性を阻害して炎症および炎症状態を治療、予防または阻害する目的で用いる方法。 （もっと読む）

以下の一般式（ＩＶａ）〜（ＩＶｄ）
【化１】


［式中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ、ｍ、ｎ及びｏは、明細書に記載の意味を有する］
で表される二官能性アンモニウムニトリルを、以下の式（ＩＩＩａ）〜（ＩＩＩｄ）
【化２】


で表される化合物と、次式（Ｖ）



で表される化合物との反応により製造する改善された方法が特許請求される。
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二官能性アンモニウムニトリルの製造方法が特許請求される。この方法は、ジハロゲンアルキル化合物もしくはジハロゲンアリール化合物を、極性非プロトン性溶剤中でジアルキルアミノアセトニトリルと反応させることからなる。 （もっと読む）

式（Ｉ）の抗菌化合物が提供されている：同様に、それらの立体異性体、薬学的に受容可能な塩、エステルおよびプロドラッグ；このような化合物を含有する薬学的組成物；このような化合物を投与することにより細菌感染を治療する方法；および該化合物の調製方法が提供されている。本発明は、新規化合物、該化合物を含有する薬学的組成物、ＵＤＰ−３−Ｏ−（Ｒ−３−ヒドロキシデカノイル）−Ｎ−アセチルグルコサミンデアセチラーゼ（ＬｐｘＣ）を阻害する方法、およびグラム陰性菌感染を治療する方法を提供する。
【化１６９】

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【課題】 環境の変化、特に湿度に対して比較的安定した導電性を樹脂に付与できる新規な四級塩を提供すること。
【解決手段】 式（１）で表される四級塩に関する。式（１）：
【化１】


［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３はアルキル基又は式（２）：
【化２】


（式中、Ｒ^４は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍは１又は２である。）で表されるアルキルオキシアルキル基を示す。但し、Ｒ^１〜Ｒ^３のうちいずれか一つは他の二つと異なる。ｎは１〜３を示す。］
【図面】 なし （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤｏＦ）の拡大を可能とするレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記構造式で示されるエチレンジアミン誘導体のような塩基化合物を含んでなるレジスト材料。


さらに、このレジスト材料を基板上に塗布する工程と、得られた塗膜を加熱処理する工程と、該加熱処理された膜をフォトマスクを介して波長３００ｎｍ以下の高エネルギー線もしくは電子線で露光する工程と、必要に応じて露光された膜を加熱処理する工程と、現像液を用いて現像する工程とを含むパターン形成方法。 （もっと読む）

副甲状腺ホルモンの放出の促進に、例えば増加したカルシウム枯渇もしくは再吸収が関連するまたは骨形成の刺激および骨中へのカルシウム定着が望ましい骨状態の予防または処置に有用な、式Ｉ
【化１】


〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＹは明細書で定義の通りである。〕
の化合物、またはそれらの薬学的に許容されかつ開裂可能なエステルもしくは酸付加塩。
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