【課題】触媒として使用した遷移金属錯体による、還元反応生成物の光学純度低下を抑制すること。
【解決手段】遷移金属錯体を用いて還元反応を行なった反応液に含窒素化合物を添加した後、反応溶媒回収及び／又は蒸留を行なう還元反応生成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ＣＯＭＴ阻害作用を有する新規な化合物を提供する。
【解決手段】 一般式（Ｉ）：
【化１】


〔式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ水素、低級アシル、低級アルコキシカルボニル等であり；Ｒ^３は置換されてもよいアリール基または置換されてもよいヘテロアリール基であり；Ｒ^４はハロゲン、ハロ低級アルキル、低級アシル、置換されてもよいアリールカルボニル、低級アルコキシカルボニル等であり〕で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩、それを含有する医薬組成物およびそれらの用途を提供する。本発明の化合物は優れたＣＯＭＴ阻害作用を有するので、パーキンソン病等の治療または予防剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】置換テトラゾールの調製のための方法、及び新しい反応物質および新しいテトラゾール誘導体の提供。
【解決手段】式Ｒ−ＣＮの化合物を式（Ｒ１）（Ｒ２）Ｍ−Ｎ３（ＩＩｂ）（ここでＲは有機残基であり；Ｒ１およびＲ２は互いに別個に脂肪族残基、脂環式残基、ヘテロ脂環式残基；脂環式−脂肪族残基；ヘテロ脂環式−脂肪族残基；炭素環式または複素環式芳香族残基；芳香脂肪族残基またはヘテロ芳香脂肪族残基のような有機残基を表し、各々の残基は互いに別個に非置換または置換されており；そしてＭはホウ素またはアルミニウムである）のアジドと反応させことによる、式（Ｉ）の化合物の製造方法。


（Ｉ） （もっと読む）

【課題】医農薬や電子材料の中間体として有用なアルコール類の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボニル化合物とボロン酸類を、パラジウム化合物と一般式（１）


（式中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数２〜６のアルキル基またはハロゲン原子を示す。Ｘ⁻は対陰イオンを示す。）で表されるイミダゾリニウム塩からなる触媒および塩基の存在下に反応させてアルコール類を製造する。 （もっと読む）

【課題】 糖尿病、糖尿病合併症、糖尿病性細小血管合併症、インスリン抵抗性症候群、メタボリックシンドローム、高血糖症、脂質異常症、アテローム性硬化症、心不全、心筋症、心筋虚血症、脳虚血症、脳卒中、肺高血圧症、高乳酸血症、ミトコンドリア病、ミトコンドリア脳筋症又は癌の予防または治療剤、即ち、ＰＤＨＫ阻害剤等を提供すること。
【解決手段】 下記一般式［Ｉ］で表される化合物又はその医薬上許容される塩、或いはその溶媒和物。


（式中、各記号は明細書に記載の通りである。） （もっと読む）

4-ヒドロキシベンゾニトリルから、周囲条件下で水性酸性媒体中いずれの触媒もなしで2:1モル比の臭化物と臭素酸塩を含む環境に優しい臭素化試薬を用いて、何の仕上げ手順もなく、高度に純粋な3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシベンゾニトリル(ブロモキシニル)を高収率で調製した。融点が189〜191℃であり、いずれの精製もなしでガスクロマトグラフ分析による純度が99%より高い生成物3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシベンゾニトリルを91〜99%の収率で得た。 （もっと読む）

【課題】予め特定された比抵抗を有する液晶混合物を提供する。液晶の比抵抗が再現可能に調整される物質を選択又は提供する。
【解決手段】１０ｐｐｍから１０％の濃度の、例えば下式で例示される酸性化合物を含む液晶混合物で、該酸性化合物は比抵抗を予め設定された範囲、典型的には１０９Ωｃｍから数１０１２Ωｃｍの範囲に調整する機能を有する。
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【課題】温和な条件下で、無保護のフェノール類等の芳香環上にパーフルオロ炭化水素基を直接に導入することができる高収率な方法を提供する。
【解決手段】水酸基、チオール基又はそれらの誘導体基が結合した芳香環を有する芳香族化合物（Ａ）と、パーフルオロ炭化水素基を有するパーフルオロ炭化水素基供与体（Ｂ）とを弱塩基の存在下に反応させることにより、前記パーフルオロ炭化水素基を芳香族化合物（Ａ）の前記芳香環上へ直接に導入する、パーフルオロ炭化水素基導入方法。 （もっと読む）

本発明は結晶質３−［（１Ｓ）−１−（１−｛（Ｓ）−（４−クロロフェニル）［３−（５−オキソ−４，５−ジヒドロ−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）フェニル］メチル｝アゼチジン−３−イル）−２−フルオロ−２−メチルプロピル］−５−フルオロベンゾニトリルと、その新規塩、溶媒和物、水和物及び多形体の製造方法に関する。

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本発明は、ホルモン依存性、特にエストロゲン依存性の疾患の治療および予防のための非ステロイド系１７ベータ−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ１型阻害剤の使用に関する。本発明はさらに、適切な阻害剤およびその製造方法に関する。 （もっと読む）