【課題】ポジ型、ネガ型のいずれのフォトレジスト組成物においても使用することができる新規な光感応性酸発生剤化合物、およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】組成物の露光されたコーティング層を現像させるのに充分な量で樹脂バインダおよび光感応性酸発生剤化合物を含み、その光感応性酸発生剤が放射線で露光されることによりα，α−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる、フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】種々の用途において好適であり、洗浄力等の点で高い性能を発揮することができるポリアルキレングリコール親水化物、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするポリアルキレングリコール親水化物。[化１]


式中、Ｘ^１及びＹ^１は、互いに異なって、水素原子、−ＳＯ_３Ｍ、−Ｓ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＳＯ_３Ｍ、−ＰＯ_３Ｍ_２又は−Ｓ−（ＣＨ_２）_ｔ−ＣＯＯＭを表す。Ｒ^１〜Ｒ^６は、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ^７は、水素原子、アルキル基、アリール基、多価アルコール基等を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、価数を表す。 （もっと読む）

本発明は、フッ素化された末端基を有する新規な化合物、界面活性剤物質としてのその使用、および前記化合物の製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】反応性が良く、かつ、低コストにスルホコハク酸を製造すること、または、低コストにスルホコハク酸を製造することのできるスルホコハク酸アルカリ金属塩を製造すること。
【解決手段】Ａ成分としてフマル酸および／またはマレイン酸に、Ｂ成分として亜硫酸アルカリ金属塩および二亜硫酸アルカリ金属塩を反応させることを特徴とする、スルホコハク酸アルカリ金属塩の製造方法。 （もっと読む）

【課題】燃料電池用プロトン伝導膜を製造するのに有用な、ホスホン酸基やスルホン酸基を有する化学修飾フラーレンを安価に製造する。
【解決手段】スルホン酸化試薬Ｋ_２ＳＯ_３の場合は（ジメチルアセトアミド＋水）、ホスホン酸化試薬ＬｉＰＯ（ＯＲ）_２（Ｒは、Ｃ_１〜Ｃ_５のアルキル基又はフェニル基）の場合はジオキサンという特定の反応溶媒を選択し、該溶媒中にフラーレンとＫ_２ＳＯ_３又はＬｉＰＯ（ＯＲ）_２とを分散させ、常圧又は加圧下で、２０〜２００℃の反応温度を用いて１０〜２００時間反応させて、下記の部分構造を１〜１２個含む化学修飾フラーレンを製造する方法において、原料のフラーレンがＣ_６０とＣ_７０の混合物を含むことを特徴とする製造方法。
【化１】
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本発明は、ＣＦ_３Ｏ末端基を有する新規化合物、表面活性物質としてのそれらの使用、およびこれらの化合物の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】放射線で露光されることにより１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる光感応性酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】１，１−ジフルオロアルキルスルホン酸の合成方法としては例えば１，１−ジフルオロ−２−（１−ナフチル）エチニレンと亜硫酸ナトリウムを反応させて１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンを得る方法である。更に、１，１−ジフルオロ−１−スルホン酸−２−（１−ナフチル）エチレンをジ（４−ｔ−ブチルフェニル）−ヨードニウム硫酸塩と反応させて光感応性酸発生剤化合物を得ることができる。 （もっと読む）

一般式Ｒ−Ｏ−ＣＸＨ−ＣＸ_２−ＳＯ_３Ｍ（式中、Ｒはアルキル基、官能化アルキル基およびアルケニル基からなる群から選択され、Ｘは水素およびフッ素からなる群から選択され、但し、少なくとも１個のＸがフッ素であり、Ｍはカチオンである）で表されるヒドロフルオロアルカンスルホネートは、フルオロビニルエーテルと亜硫酸塩水溶液との反応によって製造される。有機オニウムヒドロフルオロアルカンスルホネートはイオン性液体および光酸発生剤として有用である。 （もっと読む）

スルホン酸基に結合された炭素原子に隣接する炭素原子に結合された少なくとも１個の水素を有するヒドロフルオロアルカンスルホン酸の製造方法であって、約ｐＨ４〜ｐＨ１２に調節された水溶液中でフルオロオレフィンを亜硫酸塩と接触させる工程と、溶液から水を除去して固体を形成させる工程と、固体をオレウムで直接処理する工程と、ヒドロフルオロアルカンスルホン酸を蒸留する工程とを含むことを特徴とする方法。高い純度でヒドロフルオロアルカンスルホン酸カリウムの製造する方法も記載されている。 （もっと読む）