【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が良好なレジストパターンを製造することのできる化合物、および該化合物およびその他モノマーから調整される樹脂を含有するレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［式中、Ｒ¹は、メチル基等を表す。Ｘ^１は、カルボニルオキシ、フェニレンオキシまたはフェニレンカルボニルオキシ結合基であり、Ａ^１は、単結合又は結合置換基を表し、Ｘ^２は、単結合または酸素等を表す。Ｒ^２は、炭素数１〜３６の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】組成物としたときの保存安定性が良好で、高感度を達成する感光剤、及び該感光剤の原料及び中間体を提供する。
【解決手段】下記式（１）：


で表されるアミノフェノール化合物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が良好で、従来の樹脂のみならず、アルカリ溶解性の高い樹脂と組み合わせた場合でも、感度が高い、感光性樹脂組成物を実現するための光活性剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される、中間体としてアミドフェノール化合物を用いて製造した、新規ナフトキノンジアジド化合物。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^５は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の有機基であり、Ｑ^５は単結合又は２価の連結基である。］で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニル基又は１、２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル基を有する１、３、５−トリス（パラ−（パラ−ヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン誘導体化合物、該感光性化合物と溶媒を含有する感光性組成物、並びに該感光性組成物を含む感光性層を形成する工程等を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に、高感度、高解像度を示す、保存安定性の良好な、ハロゲン元素を含まないナフトキノンジアジド化合物と、その製造に有用な中間体であるアミドフェノール化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物。


（式中、Ｒ_１およびＲ_４は互いに独立にフェニル基を有する１価の有機基であり、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_５およびＲ_６は互いに独立に、水素原子または１価の有機基である。Ｑ_１およびＱ_２は、互いに独立であり、少なくとも１つは４-又は５−ナフトキノンジアジドスルホニル基のどちらかである。また、Ｘはハロゲン元素を含まない２価の基または単結合である。） （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー分野における感光性樹脂などの機能性樹脂のモノマーとして有用な新規なアダマンタン誘導体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ−ａ）で表わされる構造を有するアダマンタン誘導体、及び対応するアダマンタン誘導体を原料として上記アダマンタン誘導体を製造する方法である。


（Ｒ¹はＨ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ^2aは、ヘテロ原子を有する、Ｃ（炭素数）1〜30のアルキル基、又はＣ3〜30のシクロアルキル基若しくはＣ６〜30のアリール基を含む炭化水素基、Ｘ¹及びＸ²は、それぞれ独立にＯ又はＳ、ＹはＣ１〜10のアルキル基、ハロゲン原子、ＯＨ、ＳＨ又は２つのＹが一緒になって形成された＝Ｏ若しくは＝Ｓ。ｋは０〜14の整数、ｍ及びｎは０〜２の整数。） （もっと読む）