【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^５は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の有機基であり、Ｑ^５は単結合又は２価の連結基である。］で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）は、下記一般式（Ｉ）で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
【化１】

［式（Ｉ）中、Ｒ^５は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の有機基であり、Ｑ^５は単結合又は２価の連結基である。］
【請求項２】
前記酸発生剤（Ｂ１）が、下記一般式（ｂ１−１１）で表される化合物である請求項１記載のレジスト組成物。
【化２】

［式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”はそれぞれ独立にアリール基又はアルキル基であり、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、少なくとも１つは、置換基として前記一般式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基である。Ｘ⁻はアニオンである。］
【請求項３】
前記Ｘ⁻が、スルホネートアニオン、イミドアニオン、メチドアニオンおよびハロゲンアニオンからなる群から選ばれるアニオンである請求項２記載のレジスト組成物。
【請求項４】
前記基材成分（Ａ）が、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分である請求項１〜３のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項５】
前記基材成分（Ａ）が、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含む請求項４記載のレジスト組成物。
【請求項６】
前記樹脂成分（Ａ１）が、さらに、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する請求項５記載のレジスト組成物。
【請求項７】
前記樹脂成分（Ａ１）が、さらに、極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）を有する請求項５又は６記載のレジスト組成物。
【請求項８】
さらに、含窒素有機化合物成分（Ｄ）を含有する請求項１〜７のいずれか一項に記載のレジスト組成物。
【請求項９】
支持体上に、請求項１〜８のいずれか一項に記載のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
【請求項１０】
下記一般式（ｂ１−１１）で表される化合物。
【化３】

［式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”はそれぞれ独立にアリール基又はアルキル基であり、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、少なくとも１つは、置換基として下記一般式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基である。Ｘ⁻はアニオンである。］
【化４】

［式（Ｉ）中、Ｒ^５は水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の有機基であり、Ｑ^５は単結合又は２価の連結基である。］
【請求項１１】
前記Ｘ⁻が、スルホネートアニオン、イミドアニオン、メチドアニオンおよびハロゲンアニオンからなる群から選ばれるアニオンである請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
請求項１０又は１１記載の化合物からなる酸発生剤。

【公開番号】特開２０１０−１３９６６２（Ｐ２０１０−１３９６６２Ａ）
【公開日】平成２２年６月２４日（２０１０．６．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３１４９７９（Ｐ２００８−３１４９７９）
【出願日】平成２０年１２月１０日（２００８．１２．１０）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】