ジアミン反応物の使用を含むポリフルオロスルホンアミドアミンを製造するための現在の方法は収率が低く、望ましくないフッ素含有ビス−スルホンアミド副生物を生成し、よって経済的損失を示す。ビス−スルホンアミド副生物は特に望ましくない。なぜなら副生物が所望のモノアミン生産物と非常に似た物理的特性を共有し、よって所望のポリフルオロスルホンアミドアミン生産物の分離を困難且つ高価にするからである。さらに、ビス−スルホンアミド副生物は、所望のポリフルオロスルホンアミドアミン生産物を作るためのフッ素の効率的な導入する代わりに、高価なフッ素化出発材料の実質的な損失を生ぜしめる。ビス−スルホンアミド副生物は、所望のポリフルオロスルホンアミドアミン生産物の界面活性、撥水性または他の性能特性を悪化させ得る望ましくない不純物も生ぜしめる。本発明は、ポリフルオロアルキルスルホン酸化合物を既知の方法のようにジアミン反応物とでなくモノアミノアミドと反応させることによりビス−スルホンアミド副生物の生成なしでポリフルオロスルホンアミドアミンを製造する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のスルホンアミド基を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

パラジウム触媒反応で、アリールのＣ−Ｈ結合がアリールのＣ−Ｆ結合で直接置換される、オルトフッ素化の新規な方法が提供される。前記方法は、トリフルアミド保護ベンジルアミンのオルトフッ素化と、Ｐｄ（ＯＴｆ）_２などのパラジウム触媒と、Ｎ−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウムトリフラートなどのフッ素化試薬と、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）などの反応を促進するための配位子とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有効な抗寄生虫剤であるオキシムエーテル誘導体を提供することを課題とする。
【解決手段】上記課題は、本明細書中の、環境における内部寄生虫および／または外部寄生虫を制御するのに有用なトリフルオロメタンスルホンアニリドオキシムエーテル化合物、それらを製造する方法、および本発明の化合物を使用してインビボまたはエキソビボで寄生虫感染を処置する方法を、詳細に提供することで解決された。一実施形態では、本発明は、上記化合物を送達するための組成物を提供する。本発明の組成物は、適当なキャリアと共に使用する本発明の化合物または本発明の化合物の組み合わせの有効量を含有する。 （もっと読む）

【課題】感度、経時安定性、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アリール環上に電子供与性基を合計３つ以上有するジアリールヨードニウム塩を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】簡便、且つ、効率良く副生する金属塩を除去し、Ｎ−（フルオロスルホニル）−Ｎ−（フルオロアルキルスルホニル）イミド塩や、ジ（フルオロスルホニル）イミド塩等のフルオロスルホニルイミド塩類を製造する方法、および、フルオロスルホニルイミド塩類を提供する。
【解決手段】フルオロスルホニルイミド塩の製造方法であって、一般式（II）で表される化合物とオニウム塩とを反応させて、一般式（VI）で表される化合物を得る工程と、
上記一般式（VI）で表される化合物とアルカリ金属化合物とを反応させて、一般式（III）で表される化合物を得る工程、を含むことを特徴とする。


上記スキーム中、Ｒ¹は、第１１族〜第１５族、第４周期〜第６周期の元素（但し、砒素およびアンチモンは除く）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｒ²はアルカリ金属、Ｒ⁴はフッ素又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基、Ｒ⁵はオニウムカチオン、ｍは２〜３の整数、ｎはオニウムカチオンＲ⁵の価数に相当し、１〜３の整数を示し、ｌは１である。 （もっと読む）

【課題】工業的規模での製造に適した含フッ素アルキルスルホニルアミノエチル α−置換アクリレート類の製造方法およびその原料の含フッ素アルキルスルホニルアミノエタノールの製造方法を提供する。
【解決手段】アミノエタノールと含フッ素アルキルスルホン酸無水物を反応させ、含フッ素アルキルスルホニルアミノエタノールを得る（第１工程：スルホニルアミド化工程）。得られたフッ素アルキルスルホニルアミノエタノールを、α−置換アクリレート誘導体によりエステル化し、目的とする含フッ素アルキルスルホニルアミノエチル α−置換アクリレート類を得る（第２工程：エステル化工程）。本発明によれば、従来技術に比較して、高収率、高純度で、しかも操作性よく目的とする含フッ素アルキルスルホニルアミノエチル α−置換アクリレート類を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が良好で、容易に製造でき、また不斉移動水素化反応においてより高い収率や立体選択性が達成できる、新規なキラルなイリジウムアクア錯体を提供する。
【解決手段】


（式中、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、Ｒ^ｄおよびＲ^ｅは、同一または異なって、それぞれ水素原子、メチル基、エチル基またはフェニル基を示し、Ｒ^１およびＲ^２は、同一または異なって、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基であるか、またはＲ^１およびＲ^２が一緒になって環を形成する置換基を有していてもよいＣ_３−４直鎖アルキレン基を示し、Ｒ^３は、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基または置換基を有していてもよいアリールスルホニル基を示し、Ｒ^４は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基または置換基を有していてもよいアリールスルホニル基を示す。）で表されるイリジウムアクア錯体及びそれを用いた光学活性ヒドロキシ化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】イオンの染み出しが起こりにくく、高いイオン伝導性を有す新規なイオン性ポリマーを提供する。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は炭素数１〜８のアルキレン基、Ｒ³は炭素数１〜８のアルキル基、Ｘ^-はアニオン成分を示す。）で表される繰り返し単位を含む。 （もっと読む）

【課題】タスク固有オニウム塩、その調製方法、および水性媒体中の金属、特に重金属を検出するためのその使用。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


式中、Ｘ及びＹは酸素原子等を表し、ｎ、ｍ及びｘは１等の整数であり、Ｗは炭素原子等を表し、Ｚはアルキレン鎖等を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は水素原子等を表し、Ｃ＋Ａ−はタスク固有オニウム塩、例えばトリメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホンアミド）残基等を表す。 （もっと読む）