国際特許分類[C07C67/38]の内容
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国際特許分類[C07C67/38]に分類される特許
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リン原子に結合したSP2混成炭素原子を含む架橋基を有する二座ジホスフィン組成物を用いてエチレン性不飽和化合物をヒドロホルミル化する方法
特定の触媒系の存在下で、置換されていてもよいエチレン性不飽和化合物を一酸化炭素および水素と反応させることによってヒドロホルミル化する方法。特定の触媒系は、(a)VIII族金属カチオン源と、(b)一般式X1−R−X2を有するジホスフィン配位子(式中、X1およびX2はそれぞれ独立に置換されていてもよい少なくとも5つの環原子を有する環状基を表し、環原子の1つはリン原子であり、Rは、sp2混成炭素原子によって各リン原子に結合した置換されていてもよい二価の架橋基を表す)と、(c)18℃の水溶液中で測定してpKa<3の酸、またはそれから誘導された塩と、(d)ハロゲン化物アニオン源とを含む。さらに、この方法で使用されるいくつかの特定の二座ジホスフィンが記載される。 (もっと読む)
エチレン的に又はアセチレン的に不飽和である化合物のカルボニル化のための方法
(a)パラジウム及び/又はプラチナソース;及び(e)式I、R1R2>P1−R3−P2<R4R5 (I)の、非対称二座ジホスフィン配位子(式中、P1及びP2は、リン原子を表し;R3は、二価有機架橋原子団を表し;R1、R2、R4及びR5は、それぞれ独立に、又はR1及びR2は一緒に、及び/又はR4及びR5は一緒に、該リンに共有結合させられた有機基を表し;R1、R2、R4及びR5は、ホスフィノ基R1R2>P1が、ホスフィノ基P2<R4R5と異なるように選択される。)を含む触媒システムの存在下で不飽和化合物を一酸化炭素と接触させることによる、不飽和化合物のカルボニル化のための方法。 (もっと読む)
共役ジエンのカルボニル化のためのプロセス
(a)パラジウムソース;及び(b)式IIの二座ジホスフィン配位子:
R1>P1−R−P2<R2R3(式中、P1及びP2は、リン原子を表し;R1は、場合によっては置換される、2個の第三級炭素原子により該リン原子に連結された二価有機基を表し;R2及びR3は、独立に、第三級炭素原子(これを介して各基が該リン原子に連結される。)を含有する、1個から20個の原子の一価の基を表すか、又は、R2及びR3は、一緒に、場合によっては置換される、少なくとも2個の第三級炭素原子(これを介して該基が該リン原子に連結される。)を含有する二価有機基を形成し;Rは、3個の原子(これを介してP1がP2に直線的に連結する。)を含有する二価架橋基を表す。);及び(c)陰イオンソースを含む触媒システムの存在下で、共役ジエンを一酸化炭素及び、活性水素原子を有する共反応物質と反応させることを含む、共役ジエンのカルボニル化のためのプロセス。
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触媒系
本発明は、エチレン系不飽和化合物のカルボニル化を触媒することが可能な触媒系であって、a)VIB族もしくはVIIIB族の金属またはそれらの化合物、b)二座ホスフィン、アルシンまたはスチビン配位子、およびc)酸を組み合わせることにより得られ、該配位子は、該金属または該金属化合物中の該金属に対して少なくとも2:1のmol過剰で存在し、該酸は、該配位子に対して少なくとも2:1のmol過剰で存在する、触媒系、エチレン系不飽和化合物をカルボニル化する方法、反応媒質および該触媒系の使用方法を提供する。
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制御された配位構造を有する担持型触媒および該触媒の調製方法
制御された配位構造を有する担持型反応性触媒およびその製造方法が開示される。担持型触媒は、原子の最上位層すなわち外層を有する触媒粒子を含み、その中で原子の少なくとも一部分は制御された配位数2を示す。そのような触媒は、その中で分子の大半が枝分れ状よりはむしろ直鎖状である制御剤を含む中間前駆体組成物から製造することができる。担持型触媒(10)は、当初その表面にヒドロキシル基を含む担体(12)と、縮合反応によって担体(12)のヒドロキシル基に化学的に結合される固定剤(14)と、固定剤に何らかの方法(図示せず)で結合されまたは付着される触媒粒子(6)とを含む。本発明の担持型触媒は、高選択性での過酸化水素の調製および他の化学転化反応に対して有用である。
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共役ジエンのカルボニル化方法
(a)パラジウム源、および
(b)式II
R1R2>P1−R3m−R−R4n−P2<R5R6 (II)
(式中、P1およびP2は、リン原子を表し、R1、R2、R5およびR6は、第3級炭素原子を含みそれを介してそれぞれの基が前記リン原子に結合している、同じか異なる、場合により置換されている有機基を独立に表し、R3およびR4は、同じか異なる、場合により置換されているメチレン基を独立に表し、Rは、二価の架橋基C1−C2を含みそれを介してRがR3およびR4に結合している有機基を表し、mおよびnは、0〜4の範囲の自然数を独立に表し、前記架橋基の炭素原子C1およびC2間の結合の周りの回転は、0℃〜250℃の範囲の温度において制限され、C1、C2およびC1に直接結合したP1の方向にある原子から成る3つの原子配列が占める面ならびにC1、C2およびC2に直接結合したP2の方向にある原子から成る3つの原子配列が占める面との間の二面角は、0〜120°の範囲にある)の2座ジホスフィンリガンド、および、
(c)アニオン源
を含む触媒系の存在下で、共役ジエンを、一酸化炭素および易動性水素原子を有する共反応体と反応させることを含む、共役ジエンのカルボニル化方法。
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C4−ジカルボン酸ジ低級アルキルエステルの製造方法
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