【課題】反射防止膜等のコーティング材料あるいは光リソグラフィー等のレジスト材料分野に有用な含フッ素モノマーを操作性のよい工業的手法でより効率よく製造する製造方法を提供する。
【解決手段】工業的に容易に入手可能な含フッ素ジオールおよびアクリル酸クロリド類を塩基の存在下でエステル化する反応において、塩基として多環式の窒素化合物を使用する。この製造方法により、化合物を操作性よく製造できるばかりでなく効率的に製造できる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造に用いられるフォトレジスト用モノマー原料や該モノマーなどとして有用な、露光感度、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、ラフネス改善等に優れた脂環構造含有化合物、（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、（メタ）アクリル系重合体並びにポジ型レジスト用組成物を提供すること。
【解決手段】エステル結合を有する連結基及びエーテル結合を有する連結基を含む脂環構造含有化合物、該脂環構造含有化合物から誘導される（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、該（メタ）アクリル酸エステル類に基づく単量体単位を含む（メタ）アクリル系重合体並びに該（メタ）アクリル系重合体を含有するポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

式（Ｉ）
Ｃ_nＦ_2n+1（ＣＨ₂）_x［（ＣＦ₂ＣＦ₂）_y（ＣＨ₂ＣＨ₂）_z］_mＧ （Ｉ）
（式中、Ｇは、Ｉ、ＯＨ、ＯＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ₂、ＯＣ（Ｏ）ＣＣＨ₃＝ＣＨ₂、ＯＣ（Ｏ）ＣＣｌ＝ＣＨ₂、ＮＲ₁Ｈ、Ｎ₃、ＮＣＯ、ＳＱ、式中、ＱはＨ、アルキル、（ＣＨ₂）_nＯＨ、（ＣＨ₂）_nＮＨ₂、（ＣＨ₂）_nＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ₂または（ＣＨ₂）_nＮＨＣ（Ｏ）Ｃ（Ｍｅ）＝ＣＨ₂、ＳＣＮ、ＣＯＯＨ、ＳＯ₃Ｈ、ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂、ＮＨＣＯＣ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂）、ＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂またはＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ（Ｏ）Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂であり、
下付きｎは、１〜約６の整数であり、
下付きｘは、１〜約６の整数であり、
下付きｙ、ｚおよびｍは、それぞれ、独立して、１、２または３またはこれらの組み合わせであり、
Ｇを除いた前記式（Ｉ）中の炭素の総数は、約８〜約２２の範囲である）
のオリゴマーおよびその調製方法。
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【課題】耐熱性に優れた重合体、さらにはアルカリ現像できる感光性組成物を得ることができる化合物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を提供する（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴〜Ｒ⁶は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁷は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁸は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁹は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁹のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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【課題】高い耐熱性を有する重合体、及び該重合体を形成するために用いることができる新規なフッ素原子を含有する化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される含フッ素化合物、及び当該化合物から導かれる構成単位を有する重合体。Ｒ¹〜Ｒ³は、水素原子、フッ素原子又はフッ素原子若しくは水酸基で置換されてもよいC_1-13脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ⁴は、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいC_1-10アルキレン基を表す。Ｒ⁵は、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいC_1-15脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は、フッ素原子で置換されてもよい直鎖状C_1-10アルキレン基を表す。Ｒ⁷は、炭素原子上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよいか若しくは炭素原子が酸素原子で置換されてもよいC_1-24脂肪族炭化水素基又は水素原子を表す。Ｒ^１Ｒ^２Ｃ＝Ｃ（Ｒ^３）Ｒ^４ＣＯＯＲ^６ＯＣＯＲ^５ＣＯＯＲ^７・・・（Ｉ） （もっと読む）

【課題】ヒドロキシル基含有エステルの製造方法において反応効率を従来より向上させる。
【解決手段】少なくとも塩基性触媒の存在下に、マイクロ波を照射することによって、カルボン酸とエポキシ化合物とを反応させてヒドロキシル基含有エステルを得る。１つの態様において、上記反応は塩基性触媒および重合禁止剤の存在下に実施され、カルボン酸化合物は（メタ）アクリル酸であり、エポキシ化合物は含フッ素エポキシ化合物であり、ヒドロキシル基含有エステルは含フッ素（メタ）アクリレート化合物である。 （もっと読む）

【課題】有用な有機成分を回収するために、硫黄含有残留物流れを処理するために用いられる改良された残留物処理システムの提供。
【解決手段】ａ）液状有機物含有硫黄含有残留物流れをストリッピング領域に移送する段階；およびｂ）ストリッピング領域において、該液状有機物含有硫黄含有残留物流れを間接的に加熱して、有機物を含む蒸気流れおよび液状残留物流れを形成する段階を含む、硫黄含有残留物流れから有機物をストリッピングする方法 （もっと読む）

【課題】溶媒溶解性、配向制御能、光学特性に優れる重合性化合物及び重合性組成物の提供。
【解決手段】式Ｉ及び式IIで表される化合物。




（環Ａ、環Ｂはベンゼン環又はナフタレン環であり、少なくとも一方がナフタレン環であり、Ｘはハロゲン原子又はアルコキシ基を表し、Ｒは式IIIで表される置換基である。）


（Ｚ1は直接結合、−Ｌ0−、−ＯＬ0ＣＯ−、−ＯＬ1−又は−ＯＬ1ＯＣＯ−であり、Ｌ0、Ｌ1はアルキレン基を表し、アルキレン基のメチレン部分はＯ、Ｓ、ＣＯＯ、ＯＣＯ、ＯＣＯＯ又はＣＨ（ＯＨ）で中断されていてもよい。） （もっと読む）

【課題】１．２以下の相対揮発度を有する不純物を有する化合物を精製するためのさらに経済的かつ有効な方法が継続して必要とされている。
【解決手段】本発明は、同様の揮発度を有する化合物群から不純物を除去して、超高純度化合物を形成する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】Ｋｒエキシマレーザー光またはＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が矩形のレジストパターンを与える化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位とアルコール性ヒドロキシル基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Wは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、
Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）