【課題】１，４−ジヒドロアントラセン骨格を有し、かつラジカル重合性基を有する高屈折率アクリレート化合物を提供すること。
【解決手段】代表製造例として、９，１０−ジヒドロキシ−１，４ージヒドロアントラセンとエピクロロヒドリンを苛性ソーダ等のアルカリで縮合させて、１，４−ジヒドロアントラセン−９，１０−ジグリシジルエーテルを生成させ、このオキシラン環をアクリル酸で、テトラブチルアンモニウムブロマイド等を触媒として開環し、目的の１，４−ジヒドロアントラセン−９，１０−ビス（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテルを得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、重合性の液晶組成物を構成した場合他の液晶化合物と優れた溶解性を有し、前記重合性の液晶組成物を硬化させた場合に優れた耐熱性及び機械強度を示す重合性化合物を提供することである。
【解決手段】
【化１】


で表わされる重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする液晶組成物、更に、当該液晶組成物を用いた光学異方体、又は液晶デバイスを提供する。本願発明の重合性化合物は、他の液晶化合物との優れた溶解性を有することから重合性組成物の構成部材として有用である。又、本願発明の重合性化合物を含有する重合性成物は、液晶相温度範囲が広く当該重合性組成物を用いた光学異方体は、耐熱性が高く、偏向板、位相差板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、重合性の液晶組成物を構成した場合他の液晶化合物と優れた溶解性を有し、前記重合性の液晶組成物を硬化させた場合に優れた耐熱性及び機械強度を示す重合性化合物を提供することである。
【解決手段】
【化１】


で表わされる重合性化合物を提供し、当該化合物を構成部材とする液晶組成物、更に、当該液晶組成物を用いた光学異方体、又は液晶デバイスを提供する。本願発明の重合性化合物は、他の液晶化合物との優れた溶解性を有することから重合性組成物の構成部材として有用である。又、本願発明の重合性化合物を含有する重合性成物は、液晶相温度範囲が広く当該重合性組成物を用いた光学異方体は、耐熱性が高く、偏向板、位相差板等の用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】機能性高分子化合物製造のための単量体の製造方法、および、その原料等として有用なシクロヘキシル系含フッ素ジオール類の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式［１］で表されるヒドロキシケトン（式中、Ｒは炭素数１から５のパーフルオロアルキル基、ｘは１〜５の整数）


を水素により還元する方法において、触媒としてルテニウム触媒を、溶媒としてヘキサフルオロイソプロパノールを使用することを特徴とするシクロヘキシル系含フッ素ジオールの製造方法、および、当該シクロヘキシル系含フッ素ジオールをアクリル酸誘導体と反応させることによる含フッ素アクリル酸エステル（含フッ素単量体）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低屈折率かつ高耐擦傷性の反射防止フィルムの提供。
【解決手段】下記一般式（１）の化合物、および無機微粒子を含む組成物を硬化してなる層を含有する。（式（１）中、Ｙは式（２）で表される基（但し、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、又は水酸基を表す。）又はビニル基を表し、Ｌ_１は式（３）又は（４）で表される基を表し、Ｌ_２及びＬ_３は、式（５）、（６）又は（７）で表される基を表し、Ｒｆ_１は飽和パーフルオロアルキル基、Ｒｆ_２はパーフルオロアルキル基又はフッ素原子を表し、Ｒｆ_３は、パーフルオロアルキル基又は塩素原子を表す。）
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【課題】低い屈折率を有する化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｘ）で表される化合物。
（Ａ）_ｎ−Ｒ^８ （Ｘ）
〔Ａは、式（Ｉ）で表される基又はヒドロキシル基を表す。ただし、Ａの少なくとも１個は、式（Ｉ）で表される基である。Ｒ^８は、ｎ価のＣ_{１０−３０}炭化水素基を表す。該炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−で置換されてもよい。該炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシル基で置換されてもよい。ｎは、１〜１２の整数である。ただし、〕


〔Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はフッ素原子若しくはヒドロキシル基で置換されてもよいＣ_１−１３脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ^４〜Ｒ^６は、それぞれ独立に、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいＣ_１−１０アルキレン基を表す。Ｒ^７は、フッ素原子で置換されてもよいＣ_１−２４脂肪族炭化水素基を表す。ｍは、０又は１の整数を表す。〕 （もっと読む）

【課題】低屈折率で高い硬度を有し、且つ、汚染や剪断といった外的刺激に対して安定なポリマーを与える重合性含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性含フッ素化合物。


一般式（Ｉ）中、Ｒｆは炭素原子およびフッ素原子を含むａ価の有機基を表す。Ｒｆ_１は炭素原子およびフッ素原子を含む１価の有機基を表す。Ｒｆ_２は炭素原子およびフッ素原子を含む１価の有機基またはフッ素原子を表す。Ａは単結合または上記一般式（ＩＩ）で表される２価の連結基を表す。Ｑは重合性基または水素原子を表す。ａは２〜２０の整数を表し、ｂ、ｃはそれぞれ独立に０〜１００の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、α−ブロモメチルアクリレート類の工業的製法を提供するものである。従来より高い収率でα−ブロモメチルアクリレート類を工業的に提供することを目的とする。
【解決手段】
臭化水素を用いたα−ヒドロキシメチルアクリレート類のブロモ化反応において、水と二相分離する有機化合物類共存下でブロモ化反応を行うことにより、α−ブロモメチルアクリレート類の重合が抑制されることを見出し、従来より高い収率でα−ブロモメチルアクリレート類を工業的に提供するに至った。 （もっと読む）

【課題】新規な含フッ素化合物、および該化合物をモノマー単位とし、液浸露光用レジスト組成物の成分として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（ａ−ｉ）で表される化合物、及び当該化合物を重合して得られる高分子化合物。［式（ａ−ｉ）中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、又はハロゲン化低級アルキル基であり；Ｘはアルキレン基または脂環を有する二価の有機基であり；Ｒ^１はフッ素原子を有する有機基である。］
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【課題】反射防止膜等のコーティング材料あるいは光リソグラフィー等のレジスト材料分野に有用な含フッ素モノマーを操作性のよい工業的手法でより効率よく製造する製造方法を提供する。
【解決手段】工業的に容易に入手可能な含フッ素ジオールおよびアクリル酸クロリド類を塩基の存在下でエステル化する反応において、塩基として多環式の窒素化合物を使用する。この製造方法により、化合物を操作性よく製造できるばかりでなく効率的に製造できる。 （もっと読む）