説明

国際特許分類[C07D233/60]の内容

国際特許分類[C07D233/60]に分類される特許

21 - 30 / 127


【課題】広い露光マージン、低いマスクエラーファクターでパターンを形成することができ、優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(X)で表される化合物及び式(Y)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するレジスト組成物。


[式中、Rx1は、水素原子、フッ素原子、飽和環状炭化水素基等;Xx1は、単結合又はアルカンジイル基等;Xx2は、−O−、−S−等;Rx2、Rx3及びRx4は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又は芳香族炭化水素基等を表す。] (もっと読む)


【課題】ノイラミニダーゼ阻害剤として有用な置換シクロペンタン及びシクロペンテン化合物を提供する。
【解決手段】具体的には例えば下式等で表される化合物、並びに、その医薬上許容される塩等例示される。


(もっと読む)


【課題】高い収率でフォトレジスト樹脂用のモノマーを製造するために用いられる中間体を提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。[式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。Lは、*1−CO−X−A*2*1−CO−X−A−CO−X−A*2又はフェニレン基を表す。X、X及びXは、それぞれ独立に、−O−、又は−N(R)−を表し、Rは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。A、A及びAは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキレン基、炭素数6〜12の2価の飽和環状炭化水素基又はフェニレン基を表す。*1は−C(R)=CHとの結合手を表し、*2は−CO−との結合手を表す。]
(もっと読む)


【課題】PCBの製造に使用される銅電気めっき浴において、浴の均一電着性に影響を及ぼさずに、すなわち、浴が効果的にブラインドバイアおよびスルーホールを充填しつつ、平滑な銅堆積物を可能とする銅電気めっき浴を提供する。
【解決手段】平滑化剤として、1種以上の特定の窒素含有化合物および1種以上の特定のエポキシド含有化合物との反応生成物を含み、銅イオン源、電解質を含む、導電層の表面上に銅を堆積させる銅電気めっき浴。 (もっと読む)


【課題】従来の殺虫・殺ダニ剤に抵抗性を示す各種害虫に対しても高い防除効果を示し、かつ、有用生物に対して安全性が高く、環境への悪影響が少ない殺虫・殺ダニ剤の提供。
【解決手段】1−デシル−3−(N,N−ジメチルスルファモイル)イミダゾリウムクロリドで代表される、一般式(1)の基本骨格を有するスルファモイル基を含むイミダゾリウム塩誘導体及び、それらの製造方法及びそれらを有効成分として含有する殺虫・殺ダニ剤。
(もっと読む)


【課題】プリント回路板のような基体上に平滑な表面を有する、銅イオン源、電解質および平滑化剤を含む銅電気めっき浴およびめっき方法を提供する。
【解決手段】特定のイミダゾール化合物と特定のエポキシド含有化合物との反応生成物である平滑化剤を含む、銅めっき浴である。金属電気めっき浴に使用される平滑化剤の量は、0.25〜5000ppm、である。該銅電気めっき浴中の銅と、めっきされる基体とを接触させ;並びに、基体上に銅層を堆積させるのに充分な時間にわたって電流密度を適用する:ことを含む、基体上に銅を堆積する。 (もっと読む)


本発明は、式(I) Ma+[B(R)(CN)(F) (I)、式中、Ma+は、無機または有機カチオンであり、Rは、1〜4個のC原子を有する直鎖状もしくは分枝状パーフルオロアルキル基、C、C、部分的にフッ素化されたフェニルまたは1〜4個のC原子を有するパーフルオロアルキル基によって単置換もしくは二置換されているフェニルを示し、aは1または2であり、xは1、2または3であり、yは0、1または2であり、x+yは3である、で表される少なくとも1種の化合物を含む電解質配合物ならびに電気化学的デバイスおよび/または光電子デバイス、例えば光電池、コンデンサ、発光デバイス、エレクトロクロミックまたはフォトエレクトロクロミックデバイス、電気化学的センサーおよび/またはバイオセンサーにおけるそれらの使用、好ましくは色素または量子ドット増感太陽電池におけるそれらの使用に関する。 (もっと読む)


【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にKrFレーザー、ArFレーザー、F2レーザー、極短紫外線、電子線、X線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性を達成すると共に、マスク被覆率依存性を低減し、更には液浸露光にも適用可能な化学増幅型レジスト材料に好適に用いられる新規な含窒素有機化合物の提供。
【解決手段】ベヘン酸[2−(1H−イミダゾール−1−イル)−1−メチルエチル]、ベヘン酸(2−モルホリノエチル)、デヒドロコール酸[2−(1H−ベンズイミダゾール−1−イル)エチル]、コール酸トリホルマート(2−モルホリノエチル)エステル、1−[2−(コレスタニルオキシメトキシ)エチル]イミダゾール、2−(2−フェニル−1H−ベンズイミダゾール−1−イル)酢酸コレステリルエステル、サルササポゲニン[3−(チオモルホリノ)プロピオナート]等。 (もっと読む)


【課題】 150℃前後と200℃前後におけるエポキシ樹脂の硬化性能に差があり、200℃付近で選択的にエポキシ樹脂の硬化反応を行なうことができるエポキシ樹脂用硬化剤を提供することを目的とすること。
【解決手段】カルボキシル基、カルボキシアルキル基、カルボキシフェニルアルキル基から選ばれる少なくとも一種の置換基を含有するイミダゾール系化合物(X)からなることを特徴とするエポキシ樹脂用硬化剤。 (もっと読む)


本発明に係るアゾール誘導体は、下記一般式(I)で示される。


(式(I)中、RaおよびRbは、水素原子、またはC〜C6のアルキル基、C2〜C6のアルケニル基、もしくはC2〜C6のアルキニル基を示す。RaおよびRbはハロゲン原子であるXaまたはXbで置換されていてもよい。naおよびnbは、0またはRaまたはRbにおける水素原子のうちXaまたはXbに置換された水素原子の個数を示す。Yは、ハロゲン原子、C〜C4のアルキル基、C1〜C4のハロアルキル基、C1〜C4のアルコキシ基、C1〜C4のハロアルコキシ基、フェニル基、シアノ基、または、ニトロ基を示す。mは、0〜5を示す。Aは、窒素原子またはメチン基を示す。)
これによって、病害に対する防除効果に優れた農園芸用薬剤に有効成分として含まれるアゾール誘導体を提供することができる。
(もっと読む)


21 - 30 / 127