【課題】安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度で、ラフネスが小さく、かつ、良好なレジストパターン形状を与える環状化合物、その製造方法、それを含む感放射線性組成物、及び該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
特定の構造を有する環状化合物、その製造方法、それを含む感放射線性組成物、及び該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】対称性が高く、安定な化合物であり、医薬品原料や高機能性工業材料の原料等として有用であるアダマンタン誘導体の高収率な製造方法の提供。
【解決手段】第２級アルコールに代表される比誘電率が１４〜３７の溶媒中で、４，６−ビス（１−アダマンチル）−１，３−ジヒドロキシベンゼン等の化合物と化合物に対して８〜２０倍モル量のエピクロロヒドリンを反応させ、下記に例示されるグリシジルオキシ基含有アダマンタン誘導体を製造する方法。
（もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、重合性液晶組成物の硬化性の改善による生産性及び信頼性の向上、プレチルト角の安定性向上等の表示特性を改善した液晶表示素子を提供することであり、硬化速度が速く、液晶相温度範囲が広くかつ耐熱性が高い、偏向板、位相差板等の用途に有用な光学異方体を提供することである。
【解決手段】 一般式（I）
【化１】


で表わされる重合性化合物を提供し、併せて当該重合性化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】−Ｃ（ＣＦ_３）_２−（hexafluoroisopropylidene）または−ＳＯ_２−（sulfonyl）を有する化合物およびそれを含有する重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】式（５−１−１）および式（５−２−１）で例示される化合物から選択される第１成分、および末端エポキシ基を重合基として有する第２成分、第３成分を含有する組成物が重合性液晶組成物として例示去れ、この重合性液晶組成物を重合させることによって得られる重合体は、トリアセチルセルロースフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルムなどの透明プラスチックフィルムまたはガラスなどの支持基板に塗工することができる。


（もっと読む）

【課題】蛍光特性を有さず、かつ、高融点、高光屈折性、及びビスフェノール構造に起因する反応多様性を兼ね備えた新規な化合物及びこの製造方法を提供することを目的とする。また、この化合物の誘導体、これらを含む組成物、及びこの組成物から得られる硬化物を提供することも目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される化合物である。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数である。） （もっと読む）

【課題】良好な耐熱性及び機械的特性を示すエポキシ硬化物の製造原料として有用なジエポキシ化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表わす。）で表わされるジエポキシ化合物を、無機塩基の存在下、式（２）


（式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表わす。）で表わされるジヒドロキシ化合物とエピハロヒドリンとを反応させて製造する。 （もっと読む）

【課題】フェノール性水酸基を複数個有する化合物およびカルボン酸アリルエステル化合物を出発原料として、効率よく対応するグリシジルエーテル化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】フェノール性水酸基を複数個有する化合物をカルボン酸アリルエステル化合物をアリル化剤として用いてアリル化することにより対応するアリルエーテル化合物を製造する第一の工程と、アリルエーテル化合物のアリル基の炭素−炭素二重結合を過酸化水素を酸化剤として用いて酸化することにより対応するグリシジルエーテル化合物を製造する第二の工程とを有するグリシジルエーテル化合物の製造方法において、第一の工程が不均一系触媒を用いて行なわれ、第一の工程終了後の反応液から不均一系触媒を分離することによって得られた反応液中のアリルエーテル化合物を精製することなく、当該得られた反応液を第二の工程の反応液として用いる。 （もっと読む）

【課題】高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）炭素数５〜４５の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒド、および炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物の縮合反応により製造されたポリフェノール化合物に、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に架橋反応を起こす架橋反応性基を導入する試剤を反応させることにより製造され、（ｂ）分子量が３００〜５０００であり、かつ（ｃ）該架橋反応性基を分子中に少なくとも１個有するレジスト化合物（Ａ）を一種以上含むレジスト組成物およびそれに用いる化合物である。 （もっと読む）

【課題】使用時にアウトガスや臭気の発生が少ない塩基発生剤、及び、種々の高分子前駆体を適用でき、使用時にアウトガスや臭気の発生が少ない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 電磁波の照射により塩基を発生する塩基発生剤であって、置換基として反応性環状エーテル基及び／又は反応性環状チオエーテル基を１分子中に１つ以上有することを特徴とする塩基発生剤、並びに、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体を含む感光性樹脂組成物であって、上記塩基発生剤を必須成分として含有することを特徴とする、感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）炭素数５〜４５の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒド、および炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物の縮合反応により製造されたポリフェノール化合物に、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に架橋反応を起こす架橋反応性基を導入する試剤を反応させることにより製造され、（ｂ）分子量が３００〜５０００であり、かつ（ｃ）該架橋反応性基を分子中に少なくとも１個有するレジスト化合物（Ａ）を一種以上含むレジスト組成物およびそれに用いる化合物である。 （もっと読む）