【課題】より高屈折率で、透明性及び耐熱性に優れたイミド化重合体を製造するための新規なテトラカルボン酸二無水物、それを用いて製造されたポリアミック酸及びイミド化重合体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるテトラカルボン酸二無水物。


［式（１）中、Ｒ^１はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル基を示し、ａはそれぞれ独立して０〜３の整数を示し、ｂはそれぞれ独立して０〜４の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、配管の閉塞を発生させることなく、粗ナフタレン中の不純物である硫黄化合物及び窒素化合物を低減するナフタレンの精製方法と、該ナフタレンを用いて無水フタル酸を安定して製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】コールタールの蒸留から得られた粗ナフタレンに酸無水基含有高沸点物を添加・混合する添加・混合工程と、前記添加・混合工程で得られたナフタレンに含有される窒素量を低減する窒素低減工程と、前記窒素低減工程で得られたナフタレンを水添脱硫して、該ナフタレンに含有される硫黄量を低減する水添脱硫工程とをこの順序で有することを特徴とするナフタレンの精製方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ポリイミド製造に適した高純度の２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ａ−ＢＰＤＡ）を、生産性よく製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも１つの反応槽１１を有する反応装置１０中で、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸を、不活性ガスの流通下（導入管１２，排出管１３）、２００℃以上の温度で溶融させた状態で（加熱装置１９）、溶融物を撹拌して（攪拌機１４）、加熱無水化して２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を製造する。 （もっと読む）

【課題】従来知られている酸二無水物を出発原料として得られた配向膜は配向性が十分であると言えない。また２００℃程度の比較的低い温度でこの原料を用いたポリアミック酸を焼成した場合、イミド化率が十分に大きくならないことが分かっていて、焼き付き現象に大きな影響を与えると言われている。
【解決手段】本発明の式（１）の酸二無水物を用いてポリアミック酸またはポリイミドを得るとき、これを用いて得られる液晶配向膜を有する液晶表示素子は、高い電圧保持率を有し、焼き付き現象を起こしにくいという電気特性を有する。式（１）中のｍは１〜１２の整数である。

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環状シェル触媒Ｋの製造の際に生じる、環状シェル触媒Ｋの対を、反応管へのその装入前に少なくとも部分的に環状シェル触媒Ｋから分離させる、束管反応器の反応管中への環状シェル触媒Ｋの装入法。 （もっと読む）

【課題】ｉ線（３６５ｎｍ）において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体を用いて、半導体素子の保護膜及びディスプレー用プラスチック基板として有用なポリベンゾオキサゾールイミド膜を提供する。
【解決手段】下記一般式（４）：


（式（４）中、Ａは４価の芳香族基を表し、Ｂは２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）で表される反復単位を含有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体中に、ジアゾナフトキノン系感光剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物の膜をパターン露光及びアルカリ現像した後、加熱することにより得られることを特徴とするポリベンゾオキサゾールイミド膜である。 （もっと読む）

【課題】高い透明性、極めて高い膜靭性、高いガラス転移温度および溶液加工性を併せ持ち、各種電子デバイスにおける電気絶縁膜、ＬＣＤ用透明基板、有機エレクトロルミネッセンスディスプレー用透明基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、半導体素子の保護膜、層間絶縁膜、特にフレキシブルＬＣＤ用プラスチック基板としてとして有益なポリイミドとその前駆体、並びに該前駆体の原料となる新規なエステル基含有テトラカルボン酸二無水物を提供する。
【解決手段】明細書に示す式（１）または（２）で表されるエステル基含有テトラカルボン酸二無水物、式（３）または（４）で表される繰り返し単位を少なくとも一部に有するポリイミド前駆体、式（５）または（６）で表される繰り返し単位を少なくとも一部に有するポリイミド、及び、該ポリイミドを少なくとも一部に含有して成るディスプレー用透明プラスチック基板。 （もっと読む）

【課題】ｈ線（４０５ｎｍ）またはｇ線（４３５ｎｍ）において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有ポリイミドまたはその前駆体およびジアゾナフトキノン系感光剤を含有して成るポジ型感光性樹脂組成物、およびこれをパターン露光後、アルカリ現像・洗浄・加熱脱水環化反応工程を経て得られる、半導体素子の保護膜として有用なポリベンゾオキサゾールイミドの提供。
【解決手段】ヒドロキシアミド基含有ポリイミド前駆体は、例えば、下記式（１）で表されるヒドロキシアミド基含有テトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させて得られる。ポリベンゾオキサゾールイミドは、ヒドロキシアミド基含有ポリイミド前駆体を原料とし、これを加熱処理して得られる。
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【課題】 耐久性を向上させることができる光電変換素子を提供する。
【解決手段】光電極１０および対向電極２０と共に電解質含有体３０を備えた色素増感型の光電変換素子において、光電極１０の金属酸化物半導体層１２に色素１４が担持されている。この色素１４は、（ペンタハプト−シクロペンタジエニル）｛１−フェニル−２−（３，４−ジカルボキシフェニルアンヒドライド）−１，２−エチレンジチオレート｝コバルト（III）を含んでいる。これにより、変換効率の低下が抑制される。 （もっと読む）

【課題】耐熱性や機械的強度に優れた脂環式ポリエステルイミドの製造方法の提供。
【解決手段】（１）〜（３）のテトラカルボン酸類から下記炭素数１０以下のカルボン酸無水物と不活性有機溶媒の混合溶剤を用いて精製するエステル基含有脂環式テトラカルボン酸二無水物の製造方法。
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