【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。
［化１］
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【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式（ｂ１）で表される化合物；該酸発生剤；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分及び露光により酸を発生する酸発生剤成分が一般式（ｂ１）で表される化合物であるレジスト組成物。式中、Ｒ¹は、水素原子、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基、又は、複素環式基を示し；Ｒ^２は、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し；ｘは０〜６の整数であり；ｎは０〜３の整数であり；Ｘ⁻はアニオンを示す。
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【課題】 その硬化物が高屈折率であって、光学材料として利用可能な低粘度の新規（メタ）アクリル酸エステルとその樹脂組成物、及び硬化物を提供すること。
【解決手段】 本発明で提供される（メタ）アクリル酸エステルは、フルオレンに対しスピロ炭素で環状構造が結合したスピロ環化合物であり、フルオレンを含む平面とスピロ炭素に結合する環状構造内の原子を含む平面が異なる平面に存在することから結晶性を引き下げつつ高屈折率な重合性モノマーを供給できる。 （もっと読む）

【課題】高い耐光性を示す紫外線吸収性のポリマーフィルムの提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とするポリマーフィルムである。式（Ｉ）中、Ａ¹及びＡ²はそれぞれ独立して、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２以上の基を表し、あるいはＡ¹及びＡ²が連結して環状の活性メチレン化合物構造を形成し；Ｘ¹及びＸ²はそれぞれ独立して、水素原子、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、Ｎ−アルキルもしくはアリールカルバモイル基、又はアルキルもしくはアリールオキシカルボニル基を表すか、あるいはＸ¹及びＸ²が連結して窒素原子と炭素原子とを環構成原子とする飽和環構造を形成し、これらの基又は環は可能であれば置換基を有していてもよい。
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【課題】現像時の膨潤が小さい高分子化合物の原料として有用なアクリル酸誘導体、該アクリル酸誘導体を含有する原料を重合して得られる高分子化合物、該高分子化合物を含有するＬＷＲが改善されたフォトレジスト組成物、並びに前アクリル酸エステルの製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式で示されるアクリル酸エステル誘導体。
【化１】


（式中、Ｒ^１は、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。） （もっと読む）

本発明は、高い親和性及び選択性で生存タンパク質ＭＣＬ−１と選択的に結合する化合物、このような化合物を含有している医薬組成物、並びにＭＣＬ−１活性を調節するための、及び過剰増殖性疾患、血管新生障害、細胞周期調節障害、オートファジー調節障害、炎症性疾患及び／又は感染性疾患を治療するための、及び／又は細胞生着及び／又は創傷修復を増進するための、単独薬剤としての又はその他の活性成分と組合わせての、これらの化合物又は組成物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】樹脂、式（１）及び式（２）で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式（１）及び（２）中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立にＦ又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基；Ｘ^１及びＸ^２は、単結合又は２価のＣ_1-17飽和炭化水素基；Ｙ^１はアルキル基で置換されていてもよいＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基；Ｙ^２は、少なくとも１つのＨがヒドロキシ基又はＣ_１−6ヒドロキシアルキル基で置換されているＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基、Ｃ₃₋₃₆ラクトン／Ｃ₃₋₃₆環状ケトン／Ｃ₃₋₃₆スルトン骨格を有する環状基；Ｐ^１〜Ｐ^３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいＣ₃₋₃₆芳香族炭化水素基／Ｃ_１−６脂肪族炭化水素基を表し、Ｐ^１〜Ｐ^３のうちの２つが互いに結合して環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】新規な化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材、および光酸発生剤を含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤が一般式（ｂ１−１）で表される化合物；式（ｂ１−１）中、Ｙ^１０は炭素数５以上の環状の炭化水素基であって酸解離性基を表し；Ｒ^６およびＲ^７は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよく；Ｙ^１１およびＹ^１２はアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ⁻はアニオンである。
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【課題】優れた形状、ＤＯＦ及びＭＥＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ＡＡ）で表される塩と、式（ＩＩ）で表される化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂とを含むレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２はＦ又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は単結合又は２価の飽和炭化水素基；Ｔは脂環式炭化水素基、該基に含まれるＨは、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、グリシジルオキシ基又はアシル基で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は、少なくとも１つの−ＳＯ_２−で置き換わり、さらに−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−等で置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は有機カチオン；Ｒ^３は、Ｈ、ハロゲン原子又はハロゲン原子含有アルキル基；Ｘは、−ＣＨ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。］ （もっと読む）

本発明の主題は、式（Ｉ）


の［４−（２−クロロ−４−メトキシ−５−メチルフェニル）−５−メチル−チアゾロ−
２−イル］−［２−シクロプロピル−１−（３−フルオロ−４−メチルフェニル）−エチ
ル］−アミンを調製するための新規な方法、および該調製法の新しい中間体である。
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