国際特許分類[C07D327/04]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 複素環式化合物 (108,186) | 異項原子として酸素および硫黄原子のみをもつ環を含有する複素環式化合物 (125) | 1個の酸素原子および1個の硫黄原子 (111) | 5員環 (45)
国際特許分類[C07D327/04]に分類される特許
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フォトマスクブランクス、及びフォトマスク
【課題】高感度であり、保存安定性及びセーフライト適性に優れたフォトマスクブランクス、並びに、解像度が高く、画像エッジ部の直線性に優れたフォトマスクの提供。
【解決手段】基板上に、(A)下記一般式(I)で表される増感色素と、(B)重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和化合物と、(D)バインダーポリマーと、(E)遮光材料と、を含有する感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。一般式(I)中、X1及びX2は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−CR11R12−、又は−NR13−を表す。但し、X1及びX2の少なくとも一方は、酸素原子、硫黄原子、又は−NR13−である。Yは、酸素原子、硫黄原子又は=NR14を表す。R1〜R14は、それぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表す。R1〜R14は、それぞれ互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成していてもよい。
【化1】
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ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物
【課題】優れた感度で、LWRの小さい、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の構成単位の合成に利用できる化合物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)は、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含み、かつ前記構成単位(a0)における酸解離性溶解抑制基が、下記一般式(a0−0−1)で表される基を含む。[式(a0−0−1)中、R1’及びR2’はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、Y1は単結合又は二価の連結基であり、R3はその環骨格中に−SO2−を含む環式基である。]
[化1]
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新規ジチオカーボナートノルボルネン及びその(共)重合体
【課題】効率良くかつ簡便に製造できる新規ノルボルネンの提供。
【解決手段】下記式(1)
(式中、B1〜B3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜10のアルコキシル基から選ばれる基を示し、、mは0又は1の整数を示す。)
で表される化合物。
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N−フェニルイミン化合物およびその有害生物防除用途
【課題】有害節足動物に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。
【解決手段】式(I)〔式中、Gは(X2)qで置換されていてもよいフェニル基等を表し、Xは−S−R1基等を表し、X0は−S−R3基等表し、Eは水素原子等を表し、pは0〜5の整数を表し、qは1〜5の整数を表し、X1およびX2はハロゲン原子等を表し、R1およびR3は置換されていてもよいC1〜C10鎖式炭化水素基等を表す。〕で示されるN−フェニルイミン化合物。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、酸発生剤成分(B)は、一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むレジスト組成物[式中、R7”〜R9”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し;R7”〜R9”のうち、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく;R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、水素原子の一部または全部が下記一般式(b1−01)で表される基で置換された置換アリール基であり;X−はアニオンであり;R20は塩基解離性部位を有する二価の基であり;R30は2価の連結基であり;R40は酸解離性基を有する基である。]。
[化1]
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物の前駆体として有用である化合物、酸発生剤、レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物。一般式(b1−1)で表される化合物。式中、Q1は二価の連結基又は単結合であり;Y1は置換基を有していてもよいアルキレン基又は置換基を有していてもよいフッ素化アルキレン基であり;Xは置換基を有していてもよい炭素数3〜30の環式基を表し、該環構造中に−SO2−結合を有する。M+はアルカリ金属イオンである。A+は有機カチオンである。
[化1]
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スルトン誘導体の製造方法
【課題】2−ヒドロキシ−4−オキサ−5−チアトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン5,5−ジオキシド誘導体の製造方法の提供。
【解決手段】スルホニルハライド誘導体を加水分解して、スルホン酸誘導体を得る工程(A)と、前記スルホン酸誘導体を酸化剤で処理して、対応する下記化学式2:
で表されるスルトン誘導体を得る工程(B)とを含む。
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新規なフッ素化された1,2−オキサチオラン2,2−ジオキシド及びその製造方法
【課題】リチウムイオン二次電池の電解液溶媒及び添加剤や、機能性材料中間体、医薬品用中間体及び有機溶剤等に使用が期待される5-フルオロ-1,2-オキサチオラン 2,2-ジオキシドとその製造方法を提供することにある。
【解決手段】下記[化1]に示す5-フルオロ-1,2-オキサチオラン 2,2-ジオキシド、及び下記[化2]の化合物を電解フッ素化することを特徴とする請求項1に記載の5-フルオロ-1,2-オキサチオラン 2,2-ジオキシドの製造方法。
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置換されたフェノキシベンズアミド
本発明は、一般式(I)(式中、R1、R2、R3、R4、R5、X、R6及びqは請求項において定義された通りである)の置換されたフェノキシベンズアミド化合物、前記化合物の調製方法、前記化合物を含んで成る医薬組成物及び組合せ、及び疾病、特に超増殖性及び/又は脈管形成性疾患の処理又は予防のための医薬組成物の製造のためへの前記化合物の単独の剤としての又は他の活性成分との組合せでの使用に関する。
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1,3−オキサチオランヌクレオチドの製造方法
【課題】1,3−オキサチオランヌクレオシドの新規な製造法の提供。
【解決手段】1,3−オキサチオラン環を製造し、次いで1,3−オキサチオランをピリミジンまたはプリン塩基と縮合させる効率よい方法を包含する、1,3−オキサチオランヌクレオシドを製造する方法が提供される。本明細書に記載する方法を使用して、化合物は単離された鏡像異性体として製造することができる。
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