【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分が、一般式（ｂ１−１１）で表される化合物からなる酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。式（ｂ１−１１）中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、置換基として式（Ｉ）で表される基を有する置換アリール基であり、式（Ｉ）中のＷは２価の連結基である。Ｘ⁻は、式（ｂ−３）または（ｂ−４）で表されるアニオンである。
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【課題】より優れた拡散制御およびレジストプロファイルのような付随する特性を有するテイラーメード光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：［Ａ−（ＣＨＲ^１）_ｐ］_ｋ−（Ｌ）−（ＣＨ_２）_ｍ−（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｎ−ＳＯ_３⁻Ｚ^＋（Ｉ）（式中、Ａは置換されているかもしくは非置換の単環式、多環式もしくは縮合多環式の環式脂肪族基であり、Ｒ^１はＨ、単結合または置換されているかもしくは非置換のＣ_１−３０アルキル基であり、Ｒ^２はＨ、Ｆ、もしくはＣ_１−４フルオロアルキルであり、Ｌはスルホナート基、スルホンアミド基またはＣ_１−３０スルホナートもしくはスルホンアミド含有基を含む連結基であり、Ｚは有機もしくは無機カチオンであり、ｐは０〜１０の整数であり、ｋは１もしくは２であり、ｍは０以上の整数であり、並びにｎは１以上の整数である）を有する光酸発生剤化合物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として有用な塩、及び当該塩を含有する、優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^２は、ラクトン環基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、式（ａ−ｇ１）


（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。＊１は、硫黄原子との結合手を表し、＊２は、Ｒ^２又はＲ^３との結合手を表す。Ａ^１０は、脂肪族炭化水素基を表す。Ａ^１１は、脂肪族炭化水素基又は単結合を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基等を表す。ｍ１は１又は２を表し、ｍ２は０又は１を表す。但し、ｍ１＋ｍ２＝２の関係を満たす。Ａ⁻は、スルホン酸アニオン等の有機アニオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するラクトン化合物の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物を、還元剤の存在下で還元工程を含む、下記一般式（２）または（３）で示される化合物の製造方法。


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【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基；ｓは０〜２の整数；Ａ^１０は脂肪族炭化水素基；Ａ^１１は、単結合又は脂肪族炭化水素基、但し、ｓ＝０の時、Ａ^１１は単結合ではない；Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基；環ＷＲ^２は、置換基を有していてもよいラクトン環基を表す。］ （もっと読む）

【課題】新規化合物、高分子化合物、レジスト組成物、酸発生剤及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（１−１）で表される化合物［式中、Ｒ^１、Ｒ^３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基であり、Ａは２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^４はそれぞれ独立に、水酸基、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は式（１−ａｎ１）、（１−ａｎ２）又は（１−ａｎ３）で表される基である。n０は０又は１である。Ｙ¹は単結合又は−ＳＯ_２−であり、Ｒ^５はフッ素原子で置換されていてもよい、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基、又は炭素数３〜２０の環状の部分構造を有する１価の炭化水素基である。Ｍ^＋は有機カチオン又は金属カチオンである］。
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【課題】新規な化学物質を資源として提供する。
【解決手段】本発明に係るキシログラニンＡとする。
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【課題】リソグラフィー特性に優れるレジスト材料に用いられる高分子化合物の原料となる（メタ）アクリル酸エステル誘導体を製造するにあたり、工業的に入手容易な原料を用い、安全で安価に工業的規模で製造することが可能となる合成中間体を提供すること、および該合成中間体を用いた（メタ）アクリル酸エステル誘導体の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示されるジカルボン酸モノエステル誘導体、および該ジカルボン酸モノエステル誘導体を用いた（メタ）アクリル酸エステル誘導体の製造方法。


（式中、Ｒ¹は、水素原子または−ＣＯＯＲ²（Ｒ²は、炭素数１〜５のアルキル基を表すか、または炭素数１〜３のアルキル基で置換された若しくは無置換の炭素数３〜１０の環状炭化水素基を表す。）を表す。Ｙは、メチレン基、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｚは、＞Ｃ＝Ｏまたは＞Ｓ（＝Ｏ）₂を表す。また、ｎは、１〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）［式中、Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。
［化１］
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【課題】望ましい生物学的活性を示す新規化合物又は新規抽出物の提供。
【解決手段】本明細書中で、ガンボージ樹脂のアセトン抽出生成物から得られる１７種の新規化合物及び５つの分画生成物を開示する。１７種の新規化合物及び５つの分画生成物は、腫瘍／がん細胞の成長を阻害する上での活性を有する。加えて、ガンボージ樹脂のアセトン抽出生成物及びそれから得られる５つの分画生成物は、鎮痛及び抗炎症効果を有する。 （もっと読む）