【課題】 高いアスペクト比の粒状シクロデキストリンポリマーの製造方法を提供すること。
【解決手段】 シクロデキストリン１および非晶質ケイ酸をアルカリ水溶液に加え（Ｐ１）、溶液を２６３Ｋより高く、かつ３３８Ｋより低い温度範囲、好ましくは２８８Ｋより高く、かつ３１８Ｋより低い温度範囲にするとともに攪拌し（Ｐ２）、さらにこれにエポキシ系化合物３を加え（Ｐ３）、溶液を２６３Ｋより高く、かつ３３８Ｋより低い温度範囲のまま攪拌を継続（Ｐ４）するという構成をとることによって、平均アスペクト比が２以上の粒状シクロデキストリンポリマー１０が得られる。 （もっと読む）

【課題】輸送途中に分解・解離することなく、標的細胞へ輸送後、エンドソーム内で初めて還元反応、加水分解反応、酵素反応などにより切断される、がん細胞への標的指向性薬物送達システム（ＴＤＤＳ）に好適に用いることができるシクロデキストリン化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式bで表される化合物。
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ＣＤＰ−タキサン共役体に関する方法および組成物が本明細書に記載される。本発明により、対象における癌を治療する方法であって、前記対象は、癌を有し、抗癌剤を受けており、前記方法は、前記対象に、前記障害を治療するために有効な量で、ＣＤＰ−タキサン共役体を投与して、それによって前記増殖性障害を治療することを含む、方法が提供される。本発明によってまた、ＣＤＰ−タキサン共役体での治療のために対象を特定する方法であって、抗癌剤を受けている、癌を有する対象を特定することと、前記障害を治療するために有効な量で、ＣＤＰ−タキサン共役体を対象に投与して、それによって前記癌を治療することと、を含む、方法もまた提供される。 （もっと読む）

【課題】低分子化合物の昇華を抑制しつつ、レジストパターンを効率良く厚肉化して、既存の露光装置の光源における露光限界を超えた微細レジストパターンを製造することができるレジストパターン厚肉化材料、並びに、該レジストパターン厚肉化材料を用いて製造された半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂と、下記一般式（１）で表される環状化合物と、カルボキシル基を含む環状構造を有する化合物、及び、芳香族炭化水素構造を有する化合物のいずれかの化合物と、水と、を含むことを特徴とするレジストパターン厚肉化材料。
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【課題】シクロデキストリン部分が主鎖の一部であり、主鎖からはずれたペンダント部分ではない線状シクロデキストリン重合体類とそれらの製造法の提供。
【解決手段】重合体骨格に組み込まれた非酸化および／または酸化シクロデキストリン部分を含む線状デキストリン共重合体類、並びに線状酸化シクロデキストリン共重合体類。このような共重合体を製造する方法。線状シクロデキストリン共重合体および線状酸化シクロデキストリン共重合体は、種々の治療剤の送達ビヒクルとして用いることができる。 （もっと読む）

【課題】抗感染薬の製造における、シクロデキストリン誘導体の使用。
【解決手段】抗感染薬の製造における、保存剤および浸透促進剤としての式(Ｉ)：


［式中、ｈは０または１であり、Ｒ_１はアルキレン、ヒドロキシアルキレン、ハロゲノアルキレン、単環式アラルキレン、シクロアルキレンおよびフェニレンから選択される二価基であり、Ｒ_２、Ｒ_３およびＲ_４は、各々互いに独立して、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキルおよびシクロヘテリルから選択される基であり、Ｘ^ｍ−は、ｍ倍負に荷電したアニオンであり、ｍは１またはそれより大きい整数であり、そしてｋはｎ／ｍである］で示される化合物の使用。 （もっと読む）

【課題】新たな性状のγ−シクロデキストリンを開発し、新たな用途開発をする
【解決手段】γ−シクロデキストリン水溶液をエタノールと混合して再沈殿して得られるγ−シクロデキストリン。 （もっと読む）