【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像力、矩形形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、かつＰＥＢ温度依存性が小さいポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シクロプロピルエチル基を有する、アルカリ現像液に不溶又は難溶であり、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】アルカリ性現像液への溶解性に優れ、エッチング耐性に優れた感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に有用な共重合体を提供する。
【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって、酸の作用によりアルカリ易溶性になる、重量平均分子量が１，０００〜２００，０００である共重合体であって、式（１）の繰返し単位と、式（２）および式（３）の繰返し単位とを含む。
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本発明は（メタ）アクリレートの精製法に関する。 （もっと読む）

【課題】接着される２つの基材のうち、少なくとも一方がポリオレフィン樹脂からなるものを接着する際に、溶剤溶解性が良好であり、基材変形時においても密着強度が良好なポリオレフィン樹脂用の非塩素系のポリオレフィン樹脂接着用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】溶解度パラメータ（ＳＰ値）が１６．１０（Ｊ／ｍｌ）^1/2 以上１７．００（Ｊ／ｍｌ）^1/2 以下であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２５℃以上７５℃以下である（メタ）アクリル重合体からなるポリオレフィン樹脂接着用樹脂及びその樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ビニル（メタ）アクリル酸エステルの線状アニオン重合体、特に分子量約３００以上の線状アニオン重合体、及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】有機金属化合物存在下で、ビニル（メタ）アクリル酸エステルを含むモノマーをアニオン重合することを特徴とする線状重合体の製造方法。より好ましくは、有機金属化合物に加えて、有機及び／又は無機のリチウム塩の存在下で、ビニル（メタ）アクリル酸エステルを含むモノマーをアニオン重合することを特徴とする線状重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 機械的強度及び耐熱性に優れ、均一でムラのない光学異方体を提供し、この光学異方体を得るために有用な、重合性化合物及び室温付近で液晶相を示す重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】 少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物の、アクリル酸又はメタクリル酸エステルである単官能アクリレート又は単官能メタクリレートを含有し、液晶相を示すことを特徴とする重合性液晶組成物、及びこれを重合してなる光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物は、室温付近で液晶状態を示すので、液晶状態における光重合の際に熱重合が進行する恐れがなく、不均一なムラがなく、機械的強度と耐熱性に優れる光学異方体が得られる。従って、高品質な光学異方体、特に液晶表示装置の位相差板、配向膜、偏光板の材料として有用である。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）モノマー構成単位としてＣ_１〜Ｃ_８−アルキル（メタ）アクリレート、Ｃ原子２０個までを有するビニル芳香族化合物またはその混合物を含有する少なくとも１つのエマルジョンポリマー（ｂ）５０００〜４００００Ｄａの質量平均分子量を有する少なくとも１つの水溶性アルキド樹脂、ならびに（ｃ）水性エマルジョンの形において１０００００Ｄａより大きい質量平均分子量を有する少なくとも１つのアルキド樹脂を含有する水性バインダー組成物であって、（ａ）、（ｂ）および（ｃ）からの混合物の固体含有率が６０質量％より小さいことを特徴とする水性バインダー組成物、ならびにその使用および製造に関する。 （もっと読む）

【課題】レジスト樹脂用の原料モノマーに適したβ−ヒドロキシラクトンの（メタ）アクリル酸エステルおよび３級エステルタイプの（メタ）アクリル酸エステルを収率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるルイス酸触媒および重合禁止剤の存在下、特定の構造を有するアルコール（Ａ）と、（メタ）アクリル酸無水物（Ｂ１）および（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸以外のカルボン酸との無水物（Ｂ２）から選ばれる少なくとも１種の酸無水物（Ｂ）とを反応させて、（メタ）アクリル酸エステルを製造する方法。


（式（１）中、Ｍは、遷移金属などから選ばれた元素を表し、Ｒｆはフッ素化炭化水素基を表し、ｎはＭの原子価と同数の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。
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【課題】フォトルミネッセンス素子やエレクトロルミネッセンス素子に好適に採用される高分子を提供する。
【解決手段】高分子は、電荷輸送セグメントと、エレクトロルミネッセンスセグメントとを有する。 （もっと読む）