【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、アルカリ現像液に対する反応性に優れ、現像欠陥を抑制することができ、さらに被覆率依存性が良好な感放射線性樹脂組成物、これに用いることができる重合体及びこの重合体のモノマーとなる化合物を提供することである。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。Ｒ２は、下記式（２）で表される酸解離性基である。
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【課題】ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】残膜率が優れたパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含み、樹脂がナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位を樹脂の全構造単位１００モルに対して、５０モル以上有する樹脂であるレジスト組成物。ナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位は、式（Ｉ）で表される構造単位であることが好ましい。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ａ^１は、単結合、−ＣＯ−Ｏ−^＊又は−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂）_kａ−ＣＯ−Ｏ−^＊を表し、ｋａは１〜７の整数を表し、＊はナフチル基との結合手を表す。］
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【課題】優れた形状のレジストパターンを製造できる新規な樹脂、及び、該レジスト組成物などを提供する。
【解決手段】〔１〕式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂。


［式中、Ａ^１は、アルカンジイル基、単結合などを表し、Ａ^２は、アルカンジイル基などを表す。Ｗ^１及びＷ^２は、炭素数４〜３６の脂環を表す。ｓは、１又は２を表す。］〔２〕〔１〕の樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】酸分解性基を含有するラクトン化合物を高収率で得ることができる製造方法、及び、レジスト性能が改善された感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供すること
【解決手段】下記一般式（ＩＢ）で表される化合物の製造方法であって、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物を用いる製造方法。
【化１】


式中、Ｑは、重合性基を表す。Ｌ_１は、ｍが２以上の場合は各々独立に、連結基を表す。Ｌｃはラクトン構造を有する基を表す。Ａ_１は酸の作用により脱離する基、又は酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する基を有する基を表す。ｍは０以上の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目以降のパターニングの影響を受けにくいレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法、及びこれに用いる樹脂の精製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、樹脂（Ａ１）と有機溶剤（Ｓ１）とを含有する第一のレジスト材料を用いて第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、樹脂（Ａ２）と、該樹脂（Ａ２）を溶解し且つ前記樹脂（Ａ１）を溶解しない有機溶剤（Ｓ２）とを含有する第二のレジスト材料を用いてレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法であって、前記樹脂（Ａ１）を、該樹脂（Ａ１）を溶解せず且つ前記樹脂（Ａ２）を溶解する有機溶剤（Ｗ）を含有する洗浄液で洗浄することにより精製して前記第一のレジスト材料に配合することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤とを含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である。 （もっと読む）

【課題】効率よく（メタ）アクリル変性（水素添加）ポリブタジエンを製造する方法の提供。
【解決手段】水酸基含有（水素添加）ポリブタジエンと（メタ）アクリル酸エステルとを重合禁止剤存在下にて３０℃以上に加熱を行なった後、触媒量のスズ化合物を加えて反応させる、式（ＩＶ）


［Ｐはポリブタジエンを表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して酸素原子、窒素原子を含んでもよいＣ_１〜Ｃ_２０の結合基を表し、Ｙ^２は水素原子、水酸基、カルボキシル基又は（メタ）アクリル基を表す］で表される（メタ）アクリル変性（水素添加）ポリブタジエンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、表示特性および長期信頼性に優れる液晶表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記液晶表示素子の製造方法は、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、それぞれ、（Ａ）下記式（Ａ−Ｉ）


（式（Ａ−Ｉ）中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立に、酸素原子または硫黄原子である。）
で表される基を有する重合体および（Ｃ）有機溶媒を含有する重合体組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を形成した一対の基板を、液晶分子の層を介して前記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを形成し、前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程を経ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の添加剤と比較して改善された潤滑油及びバイオディーゼル燃料の流動特性を低温で達成できる添加剤を提供することである。
【解決手段】本発明は、ＡＴＲＰ法によって得られるコポリマー、これらのコポリマーを含有する濃縮物及び潤滑油、これらのコポリマーの製造方法により、この課題は解決できた。 （もっと読む）