感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
【課題】経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤とを含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤とを含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、
溶剤と
を含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項２】
有機溶剤を含んだ現像液による現像に用いられる請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記繰り返し単位は、下記一般式（Ｉ−１）乃至（Ｉ−１０）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１又は２に記載の組成物。
【化１】
式中、
Ｒａは、各々独立に、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒ２は、ｍ≧２の場合は各々独立に、単結合又は（ｎ＋１）価の有機基を表す。
ＯＰは、各々独立に、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を表す。ｎ≧２及び／又はｍ≧２の場合、２以上のＯＰが互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｗは、メチレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎ及びｍは、１以上の整数を表す。
ｌは、０以上の整数を表す。
Ｌ１は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−、−Ａｒ−、−ＳＯ３−又は−ＳＯ２ＮＨ−により表される連結基を表す。ここで、Ａｒは、２価の芳香環基を表す。
Ｒは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒ０は、水素原子又は有機基を表す。
Ｌ３は、（ｍ＋２）価の連結基を表す。
ＲＬは、ｍ≧２の場合は各々独立に、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
ＲＳは、ｐ≧２の場合は各々独立に、置換基を表す。ｐ≧２の場合、複数のＲＳは、互いに結合して環を形成していてもよい。
ｐは、０〜３の整数を表す。
【請求項４】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は、下記一般式（ＩＩ−１）乃至（ＩＩ−９）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１乃至３の何れか１項に記載の組成物。
【化２】
【化３】
式中、
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。２つのＲ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、各々独立に、１価の有機基を表す。少なくとも２つのＲ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ５は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。少なくとも２つのＲ５は、互いに結合して、環を形成していてもよい。但し、３つの前記Ｒ５のうち１つ又は２つが水素原子である場合は、残りの前記Ｒ５のうち少なくとも１つは、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ６は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
【請求項５】
前記繰り返し単位は、下記一般式（ＩＩＩ）により表される請求項１乃至４の何れか１項に記載の組成物。
【化４】
式中、
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒａは、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、ｎ≧２の場合は各々独立に、１価の有機基を表す。Ｒ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
ｎは、１以上の整数を表す。
【請求項６】
前記Ｒ１は非芳香族性の炭化水素基を表す請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記Ｒ１は脂環状炭化水素基を表す請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は前記一般式（ＩＩ−１）により表わされ、前記Ｒ３の少なくとも一方は１価の有機基を表す請求項４乃至７の何れか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記繰り返し単位は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を２つ以上備えている請求項１乃至８の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記樹脂は、アルコール性ヒドロキシ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至９の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記樹脂は、シアノ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至１０の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記樹脂は、酸の作用により分解してカルボキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至１１の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記現像液に含まれる前記有機溶剤は、エステル系、ケトン系、アルコール系、アミド系、エーテル系、及び炭化水素系の何れかである請求項１乃至１２の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項１乃至１３の何れか１項に記載の組成物を用いて形成されたレジストパターン。
【請求項１５】
（Ａ）感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、
（Ｂ）前記膜を露光することと、
（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することと
を含んだパターン形成方法であって、
前記組成物は、
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、
溶剤と
を含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下であるパターン形成方法。
【請求項１６】
前記繰り返し単位は、下記一般式（Ｉ−１）乃至（Ｉ−１０）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１５に記載のパターン形成方法。
【化５】
式中、
Ｒａは、各々独立に、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒ２は、ｍ≧２の場合は各々独立に、単結合又は（ｎ＋１）価の有機基を表す。
ＯＰは、各々独立に、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を表す。ｎ≧２及び／又はｍ≧２の場合、２以上のＯＰが互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｗは、メチレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎ及びｍは、１以上の整数を表す。
ｌは、０以上の整数を表す。
Ｌ１は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−、−Ａｒ−、−ＳＯ３−又は−ＳＯ２ＮＨ−により表される連結基を表す。ここで、Ａｒは、２価の芳香環基を表す。
Ｒは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒ０は、水素原子又は有機基を表す。
Ｌ３は、（ｍ＋２）価の連結基を表す。
ＲＬは、ｍ≧２の場合は各々独立に、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
ＲＳは、ｐ≧２の場合は各々独立に、置換基を表す。ｐ≧２の場合、複数のＲＳは、互いに結合して環を形成していてもよい。
ｐは、０〜３の整数を表す。
【請求項１７】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は、下記一般式（ＩＩ−１）乃至（ＩＩ−９）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１５又は１６に記載のパターン形成方法。
【化６】
【化７】
式中、
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。２つのＲ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、各々独立に、１価の有機基を表す。少なくとも２つのＲ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ５は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。少なくとも２つのＲ５は、互いに結合して、環を形成していてもよい。但し、３つの前記Ｒ５のうち１つ又は２つが水素原子である場合は、残りの前記Ｒ５のうち少なくとも１つは、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ６は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
【請求項１８】
前記繰り返し単位は、下記一般式（ＩＩＩ）により表される請求項１５乃至１７の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【化８】
式中、
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒａは、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、ｎ≧２の場合は各々独立に、１価の有機基を表す。Ｒ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
ｎは、１以上の整数を表す。
【請求項１９】
前記Ｒ１は非芳香族性の炭化水素基を表す請求項１８に記載のパターン形成方法。
【請求項２０】
前記Ｒ１は脂環状炭化水素基を表す請求項１９に記載のパターン形成方法。
【請求項２１】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は前記一般式（ＩＩ−１）により表わされ、前記Ｒ３の少なくとも一方は１価の有機基を表す請求項１７乃至２０の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２２】
前記繰り返し単位は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を２つ以上備えている請求項１５乃至２１の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２３】
前記樹脂は、アルコール性ヒドロキシ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１５乃至２２の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２４】
前記樹脂は、シアノ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１５乃至２３の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２５】
前記樹脂は、酸の作用により分解してカルボキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１５乃至２４の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２６】
前記現像液に含まれる前記有機溶剤は、エステル系、ケトン系、アルコール系、アミド系、エーテル系、及び炭化水素系の何れかである請求項１５乃至２５の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項１】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、
溶剤と
を含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【請求項２】
有機溶剤を含んだ現像液による現像に用いられる請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記繰り返し単位は、下記一般式（Ｉ−１）乃至（Ｉ−１０）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１又は２に記載の組成物。
【化１】
式中、
Ｒａは、各々独立に、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒ２は、ｍ≧２の場合は各々独立に、単結合又は（ｎ＋１）価の有機基を表す。
ＯＰは、各々独立に、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を表す。ｎ≧２及び／又はｍ≧２の場合、２以上のＯＰが互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｗは、メチレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎ及びｍは、１以上の整数を表す。
ｌは、０以上の整数を表す。
Ｌ１は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−、−Ａｒ−、−ＳＯ３−又は−ＳＯ２ＮＨ−により表される連結基を表す。ここで、Ａｒは、２価の芳香環基を表す。
Ｒは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒ０は、水素原子又は有機基を表す。
Ｌ３は、（ｍ＋２）価の連結基を表す。
ＲＬは、ｍ≧２の場合は各々独立に、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
ＲＳは、ｐ≧２の場合は各々独立に、置換基を表す。ｐ≧２の場合、複数のＲＳは、互いに結合して環を形成していてもよい。
ｐは、０〜３の整数を表す。
【請求項４】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は、下記一般式（ＩＩ−１）乃至（ＩＩ−９）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１乃至３の何れか１項に記載の組成物。
【化２】
【化３】
式中、
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。２つのＲ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、各々独立に、１価の有機基を表す。少なくとも２つのＲ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ５は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。少なくとも２つのＲ５は、互いに結合して、環を形成していてもよい。但し、３つの前記Ｒ５のうち１つ又は２つが水素原子である場合は、残りの前記Ｒ５のうち少なくとも１つは、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ６は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
【請求項５】
前記繰り返し単位は、下記一般式（ＩＩＩ）により表される請求項１乃至４の何れか１項に記載の組成物。
【化４】
式中、
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒａは、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、ｎ≧２の場合は各々独立に、１価の有機基を表す。Ｒ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
ｎは、１以上の整数を表す。
【請求項６】
前記Ｒ１は非芳香族性の炭化水素基を表す請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記Ｒ１は脂環状炭化水素基を表す請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は前記一般式（ＩＩ−１）により表わされ、前記Ｒ３の少なくとも一方は１価の有機基を表す請求項４乃至７の何れか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記繰り返し単位は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を２つ以上備えている請求項１乃至８の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記樹脂は、アルコール性ヒドロキシ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至９の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記樹脂は、シアノ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至１０の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記樹脂は、酸の作用により分解してカルボキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１乃至１１の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
前記現像液に含まれる前記有機溶剤は、エステル系、ケトン系、アルコール系、アミド系、エーテル系、及び炭化水素系の何れかである請求項１乃至１２の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項１乃至１３の何れか１項に記載の組成物を用いて形成されたレジストパターン。
【請求項１５】
（Ａ）感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、
（Ｂ）前記膜を露光することと、
（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することと
を含んだパターン形成方法であって、
前記組成物は、
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、
溶剤と
を含有し、カールフィッシャー法により測定された水分含有率が１．０質量％以下であるパターン形成方法。
【請求項１６】
前記繰り返し単位は、下記一般式（Ｉ−１）乃至（Ｉ−１０）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１５に記載のパターン形成方法。
【化５】
式中、
Ｒａは、各々独立に、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒ２は、ｍ≧２の場合は各々独立に、単結合又は（ｎ＋１）価の有機基を表す。
ＯＰは、各々独立に、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を表す。ｎ≧２及び／又はｍ≧２の場合、２以上のＯＰが互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｗは、メチレン基、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎ及びｍは、１以上の整数を表す。
ｌは、０以上の整数を表す。
Ｌ１は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−、−Ａｒ−、−ＳＯ３−又は−ＳＯ２ＮＨ−により表される連結基を表す。ここで、Ａｒは、２価の芳香環基を表す。
Ｒは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
Ｒ０は、水素原子又は有機基を表す。
Ｌ３は、（ｍ＋２）価の連結基を表す。
ＲＬは、ｍ≧２の場合は各々独立に、（ｎ＋１）価の連結基を表す。
ＲＳは、ｐ≧２の場合は各々独立に、置換基を表す。ｐ≧２の場合、複数のＲＳは、互いに結合して環を形成していてもよい。
ｐは、０〜３の整数を表す。
【請求項１７】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は、下記一般式（ＩＩ−１）乃至（ＩＩ−９）からなる群より選択される少なくとも１つにより表される請求項１５又は１６に記載のパターン形成方法。
【化６】
【化７】
式中、
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。２つのＲ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、各々独立に、１価の有機基を表す。少なくとも２つのＲ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ５は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。少なくとも２つのＲ５は、互いに結合して、環を形成していてもよい。但し、３つの前記Ｒ５のうち１つ又は２つが水素原子である場合は、残りの前記Ｒ５のうち少なくとも１つは、アリール基、アルケニル基、又はアルキニル基を表す。
Ｒ６は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ６は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
【請求項１８】
前記繰り返し単位は、下記一般式（ＩＩＩ）により表される請求項１５乃至１７の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【化８】
式中、
Ｒ１は、（ｎ＋１）価の有機基を表す。
Ｒａは、水素原子、アルキル基又は−ＣＨ２−Ｏ−Ｒａ２により表される基を表す。ここで、Ｒａ２は、水素原子、アルキル基又はアシル基を表す。
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｒ３は、互いに結合して、環を形成していてもよい。
Ｒ４は、ｎ≧２の場合は各々独立に、１価の有機基を表す。Ｒ４は、互いに結合して、環を形成していてもよい。Ｒ３とＲ４とは、互いに結合して、環を形成していてもよい。
ｎは、１以上の整数を表す。
【請求項１９】
前記Ｒ１は非芳香族性の炭化水素基を表す請求項１８に記載のパターン形成方法。
【請求項２０】
前記Ｒ１は脂環状炭化水素基を表す請求項１９に記載のパターン形成方法。
【請求項２１】
酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基は前記一般式（ＩＩ−１）により表わされ、前記Ｒ３の少なくとも一方は１価の有機基を表す請求項１７乃至２０の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２２】
前記繰り返し単位は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる前記基を２つ以上備えている請求項１５乃至２１の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２３】
前記樹脂は、アルコール性ヒドロキシ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１５乃至２２の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２４】
前記樹脂は、シアノ基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１５乃至２３の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２５】
前記樹脂は、酸の作用により分解してカルボキシ基を生じる基を備えた繰り返し単位を更に含んでいる請求項１５乃至２４の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【請求項２６】
前記現像液に含まれる前記有機溶剤は、エステル系、ケトン系、アルコール系、アミド系、エーテル系、及び炭化水素系の何れかである請求項１５乃至２５の何れか１項に記載のパターン形成方法。
【公開番号】特開２０１１−２０３６９８（Ｐ２０１１−２０３６９８Ａ）
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−７３６６２（Ｐ２０１０−７３６６２）
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月１３日（２０１１．１０．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月２６日（２０１０．３．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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