本発明は、高温条件に対する耐性を示す嫌気的に硬化する組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有することを特徴とする高分子化合物。
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【課題】本発明の課題は、駆動安定性が改良された有機電界発光素子およびその製造方法を提供するものである。
【解決手段】基板上に、一対の電極、および前記電極間に少なくとも１層の発光層を含む有機化合物層を挟持して有し、前記電極の少なくとも一方は光を取り出す透明電極である有機電界発光素子であって、前記有機電界発光素子の光を取り出さない面側に伝熱層を有し、該伝熱層が少なくとも熱伝導材料と少なくとも２種のモノマーの蒸着重合ポリマーを含有することを特徴とする有機電界発光素子。 （もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）［Ｒ^１は水素原子、低級アルキル基またはハロゲン化低級アルキル基であり、Ｒ^５はアルキル基であり、Ｒ^６はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される置換基であり、ｅは０〜５の整数である。］で表される構成単位（ａ０）を有することを特徴とする高分子化合物。
［化１］
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【課題】エッチング耐性に優れた、ＡｒＦレジストとして好適なポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、単環式脂肪族炭化水素基含有非酸解離性基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０）を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び、前記構成単位（ａ０）が、特定構造の構成単位である前記記載のポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）分子内に少なくとも炭素数８以上の置換又は無置換の脂肪族炭化水素基を含有する塩基性化合物及び（Ｃ）成分の塩基性化合物以外の含窒素塩基性化合物を含有するポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 反応効率を向上させると共に高純度の熱可塑性樹脂の製造方法を提供する事を課題とする。
【解決手段】第１押出機、第２押出機、及び、第１押出機の樹脂吐出口と第２押出機の原料供給口を接続する部品を有するタンデム型押出機を用いて、第１押出機において主原料と副原料とを処理する第１段目反応を行い、第２押出機において、第１押出機における反応生成物をさらに他の副原料と処理する第２段目反応を行うことで、劣化や異物の良好な熱可塑性樹脂を効率良く製造することができる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、側鎖にエステル基を２個有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低使用量で分散性、流動性、保存安定性に優れる分散体を得るための分散剤の提供を目的とする。更に本発明は、オフセットインキ、グラビアインキ、カラーフィルター用レジストインキおよびインキジェットインキ、塗料、着色樹脂組成物などに適する、非集合性、流動性に優れた分散性や安定性をもつ、分散剤の提供を目的とする。
【解決手段】分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなる、片末端領域に２つの水酸基を有するビニル重合体中の水酸基と、テトラカルボン酸無水物中の酸無水物基と、を水酸基過剰で反応させてなる水酸基含有化合物中の水酸基と、
１つのイソシアネート基を有する化合物中のイソシアネート基と、を反応させてなる分散剤。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲ、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有し、リビングラジカル重合で製造されたことを特徴とする、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。式中、Ｘ_ａ１は水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基を表す。Ｒは単環の脂環基を含有する酸分解性基を表す。

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