【課題】高温環境下においても熱収縮が抑制され、かつ耐カール性を有する多層多孔膜を得ることのできる多層多孔膜用共重合体組成物を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル酸エステル単量体と、架橋性単量体と、これらの単量体と共重合可能なその他の単量体と、を含む単量体組成物を共重合して得られる共重合体を含む組成物であり、前記単量体組成物中における不飽和カルボン酸単量体の割合が１．０質量％未満であり、前記架橋性単量体以外の単量体から計算される共重合体のＴｇが−２５℃以下である、多層多孔膜用共重合体組成物と、無機粒子を含む多孔層形成用塗布液。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の目的は、光学異方体の材料として供される重合性液晶組成物において、紫外線照射による重合と加熱による重合を併用したパターン化膜作製の際に、ひび割れの無い良好な膜が得られる材料を提供することにある。
【解決手段】 重合性液晶化合物、光重合開始剤、及び熱重合開始剤を含有する重合性液晶組成物において、該熱重合開始剤の１０時間半減温度が７０℃以上９３℃以下であることを特徴とする重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を硬化させた光学異方体を提供する。 （もっと読む）

【課題】遷移金属錯体を重合触媒とするビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合により製造されるビニル系重合体の着色低減方法を提供することを目的とする。
【解決手段】遷移金属錯体を重合触媒とするビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合により製造されるビニル系重合体の着色低減方法であって、加水分解性シリル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基から選択される少なくとも一つの架橋性官能基を平均して少なくとも一個有するビニル系重合体（Ｉ）に対し、過酸化水素水を１００℃以上で接触させることを特徴とする着色低減方法である。 （もっと読む）

【課題】高収率で、分子量分布が狭い樹脂を製造することができるレジスト組成物用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】溶解度パラメーターが１１．８〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤（１）中に、アセチル基含有溶剤である溶剤（２）［ただし溶剤（１）とは異なる。］、モノマー及び重合開始剤を添加する工程、好ましくは、溶剤（２）、モノマー及び重合開始剤を混合してなる混合物を滴下する工程を有するレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。 （もっと読む）

【課題】ラジカル重合性基を置換基として持つアントラセン化合物の、工業的に有用な重合方法を提供すること及び当該重合方法を用いて、光学材料として有用で、かつ、重合後においてはアントラセン骨格ではない多環化合物骨格を有する重合物を提供すること。
【解決手段】ラジカル重合可能な置換基を有するアントラセン化合物とジエノフィルを加熱することによりディールス・アルダー反応させた後に、ラジカル重合開始剤の作用により重合させることを特徴とする、ラジカル重合可能な置換基を有するアントラセン化合物の重合方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、塩基性化合物成分（Ｃ）、光増感剤（Ｇ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、塩基性化合物成分（Ｃ）が、式（ｃ１）〜（ｃ３）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上を含む［式中、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｚ^２ｃは置換基を有していてもよいＣ１〜３０の炭化水素基（ただし、Ｓに隣接する炭素にはフッ素原子は置換されていない）であり、Ｒ^２は有機基であり、Ｙ^３はアルキレン基またはアリーレン基であり、Ｒｆはフッ素原子を含む炭化水素基であり、Ｍ^＋は芳香族性を有しないスルホニウム又はヨードニウムカチオンである。］
[化１]
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【課題】良好なＬＷＲとパターンプロファイル形状、及びパターン倒れ耐性において極めて優れた性能を示すレジスト組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）１−アルキルシクロペンチル（メタ）アクリレート及び／又は１−アルキルシクロヘキシル（メタ）アクリレート構造の繰り返し単位を１つ以上有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する高分子化合物、（Ｂ）高エネルギー線に感応し下記一般式（３）で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤、及び、（Ｃ）下記一般式（４）で示されるスルホン酸オニウム塩を含むレジスト組成物。


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【課題】材料選択の自由度が非常に高い光反応性化合物を含む光配向膜用又は光学異方性フィルム用組成物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）


〔式中，Ｍはホモポリマー又はコポリマーの主鎖を形成するモノマー単位であり，ＳＰＣＲはスぺーサー単位であり，環Ａは非置換若しくは置換脂環式炭化水素又は非置換若しくは置換芳香環であり，環Ｂは非置換若しくは置換芳香環であり，Ｚはアルキル基，アルコキシ基，シアノ基，ニトロ基，ハロゲン原子，−ＣＨ＝ＣＨＺ^１，−Ｃ≡ＣＺ^１（但し，Ｚ^１はアルキル基，アルコキシ基，アルコキシカルボニル基，アルコキシスルホニル基，シアノ基，ニトロ基又はハロゲン原子である。），−ＣＯＯＺ^２，又は−ＳＯ_３Ｚ^２（但し，Ｚ^２はアルキル基である。）である。〕で示される繰り返し単位を有する光反応性ポリマーを含んでなる，光配向膜用組成物又は光学異方性フィルム用組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができる酸発生剤、およびそれを含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は、単結合又は２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。Ｙは、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基等を表す。Ｚ^１+は、ピリジン環を有する有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、下記一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし、前記化合物（Ｃ１）を除く）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^Ｎは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり；Ｘ^０は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の環状若しくは環状の部分構造を有する２価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり；Ｍ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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