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国際特許分類[C08F20/18]の内容

国際特許分類[C08F20/18]に分類される特許

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【課題】 本発明は、高屈折率でありながら、不快な臭気を発生せず液晶表示画面で長期間使用した際の黄変が小さく、かつ透明性に優れる高屈折率紫外線硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、下記一般式(1)で表される(メタ)アクリル化合物(A)および光重合開始剤(B)を必須成分として含有することを特徴とする紫外線硬化型樹脂組成物(Q)である。
【化1】


[式(1)中、R、RおよびRはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、nの平均値が0〜10の数、mの平均値が2.1〜5.0の数である。] (もっと読む)


【課題】 自動車内装品等において、その使用環境において、人に触れられた際汗液中の乳酸の作用により、液痕が残ったり、クラックが発生したりすることがなく、且つ、手に付着した油脂類による液痕ことがないコーティング材料。
【解決手段】 (メタ)アクリル酸イソボルニルを20重量%以上含有するエチレン性不飽和単量体を重合して得られるガラス転移温度110℃以上の重合体を含有することを特徴とする耐汗性プラスチック基材コーティング剤、該耐汗性プラスチック基材コーティング剤を塗布したプラスチック基材。 (もっと読む)


1分子に付き少なくとも1個の官能基を有するビニルコポリマーAと、1分子に付き平均で少なくとも2個の官能基を有するエポキシド官能性化合物に由来する多官能性化合物Eとの反応生成物AEであって、エチレン性不飽和モノマー、およびベータ−ヒドロキシアルキレンイミン(−NR−CH−CR’(OH)−)[式中、RおよびR’は、お互いから独立して、Hまたは1〜8個の炭素原子を有するアルキル基を表す]、または対応するアンモニウム構造に由来する構造要素を有する反応生成物AE、反応生成物AEの調製方法、および水性コーティング組成物への結合剤としてのその使用方法。 (もっと読む)


【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 (もっと読む)


【課題】非極性分散媒中での沈降が少なく、かつ分散安定性に優れ、また非極性分散媒に電荷制御剤等の分散剤を用いることなく、電圧印加により単独で電気泳動する着色樹脂粒子を提供する。
【解決手段】架橋(メタ)アクリル酸エステル系樹脂からなる基材樹脂に、顔料を顔料分散剤の存在下で分散させて得られる粒子であり、前記粒子が0.90〜1.04g/cm3の真密度を有することを特徴とする架橋(メタ)アクリル酸エステル系着色樹脂粒子により上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、
酸発生剤と、式(I’)で表される化合物とを含有するレジスト組成物。[式(I’)中、R’、R’、R’及びR’は、それぞれ独立に、C1〜C8アルキル基を表す。A’は、置換基を有していてもよい2価のC〜C36飽和環状炭化水素基又は置換基を有していてもよい2価のC〜C20芳香族炭化水素基を表し、該飽和環状炭化水素基及び該芳香族炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。]
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【課題】粒径が略均一であって分散性に優れ、かつ良好な表面平滑性を備えた重合体粒子及びその製造方法ならびに重合体粒子製造用の種粒子を提供する。
【解決手段】炭素数3以上6未満のアルキル基をエステル部に少なくとも有する(メタ)アクリル酸エステルを含む種粒子用単量体に由来し、かつ5,000〜100,000の重量平均分子量を有することを特徴とする単分散重合体粒子製造用の種粒子により上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】塗布法で膜を形成することができ、発光効率が高く、寿命が長く、特に高温駆動での寿命が長い有機デバイス(特に有機エレクトロルミネッセンス素子)、及びそれを実現する重合性単量体とそれを用いた高分子化合物、有機デバイス用材料(特に有機エレクトロルミネッセンス素子用発光材料)を提供すること。
【解決手段】下記式で表される化合物に重合性官能基が置換した重合性単量体。
Ara−Ar1−(Ar2m−(Ar3n−(Ar4o−Arb
(Ara及びArbは、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、9,9−ジアルキルフルオレン環、9,9−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ[b]フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる一価の基であり、置換基を有していてもよい。Ar1、Ar2、Ar3及びAr4は、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、9,9−ジアルキルフルオレン環、9,9−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ[b]フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる連結基であり、アリール基及びヘテロアリール基以外の置換基を有していてもよい。m、n及びoは、それぞれ独立に、0又は1である。) (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性やディフェクト低減効果に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、ならびに該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式(a0−1)で表される構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを有する高分子化合物を含む基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物。
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第一光学部材と、第二光学部材と、第一光学部材と第二光学部材との間に配置される帯電防止層と、を有する光学デバイスであり、ここで、帯電防止層は、アニオンを有する少なくとも一種の重合性オニウム塩と少なくとも一種の非オニウム重合性モノマー、オリゴマー又はポリマーとを含む混合物の反応生成物を含有する、光学デバイス。
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