【課題】リソグラフィー特性やディフェクト低減効果に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、ならびに該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを有する高分子化合物を含む基材成分、および露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記基材成分（Ａ）は、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基を表し；Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立して水素原子もしくは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよいアルキル基を表すか、または両者が結合してアルキレン基を形成しており；Ｗは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよい環状のアルキレン基を表す。］
【請求項２】
前記高分子化合物（Ａ１）が、さらに、−ＳＯ_２−含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種の構成単位（ａ２）を有する請求項１に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項３】
前記高分子化合物（Ａ１）が、さらに、極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）を有する請求項１または２に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項４】
前記高分子化合物（Ａ１）が、さらに、酸非解離性の脂肪族環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ４）を有する請求項１〜３のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項５】
さらに、含窒素有機化合物成分（Ｄ）（ただし、前記高分子化合物（Ａ１）を除く）を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項６】
支持体上に、請求項１〜５のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
【請求項７】
下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、を有する高分子化合物。
【化２】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基を表し；Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立して水素原子もしくは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよいアルキル基を表すか、または両者が結合してアルキレン基を形成しており；Ｗは任意の位置に酸素原子を含んでいてもよい環状のアルキレン基を表す。］
【請求項８】
さらに、−ＳＯ_２−含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位およびラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種の構成単位（ａ２）を有する請求項７に記載の高分子化合物。
【請求項９】
さらに、極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）を有する請求項７または８に記載の高分子化合物。
【請求項１０】
さらに、非酸解離性のアクリル酸環状アルキルエステルから誘導される構成単位（ａ４）を有する請求項７〜９のいずれか一項に記載の高分子化合物。

【公開番号】特開２０１１−９５４２９（Ｐ２０１１−９５４２９Ａ）
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２４８２１０（Ｐ２００９−２４８２１０）
【出願日】平成２１年１０月２８日（２００９．１０．２８）
【出願人】（０００２２０２３９）東京応化工業株式会社 (1,407)
【Ｆターム（参考）】