【課題】新規な化合物と、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、該樹脂を含有するレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［Ｌ^１は^＊１−Ｏ−^＊２、^＊１−Ｏ−ＣＨ_２−^＊２、又は^＊１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１−ＣＯ−Ｏ−^＊２を表す。＊１は−ＣＯ−との、＊２はＹ^１との結合手を表す。ｋ１は１〜３の整数を表す。Ｙ^１は炭素数４〜２０の２価の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^２は炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表し、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子はハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、スルホ基、炭素数２〜７のアルキルオキシカルボニル基又は炭素数２〜７のアシル基で置換されていてもよい。］
（もっと読む）

【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位ａを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化１】
（もっと読む）

【課題】 硬化させることにより十分な硬度を有し且つ屈折率が比較的高い硬化物を得ることができるフルオレン化合物を提供することを課題とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されることを特徴とするフルオレン化合物を提供する。


（式中、Ｊ、Ｊ’は、それぞれ独立して、脂肪族炭化水素又は芳香族炭化水素を含む２価〜４価の基を示し、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよく、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、それぞれ独立してＨ又はＣＨ₃を示し、ｍ、ｎはそれぞれ独立して２〜４の整数であり、ａ、ｂは、それぞれ独立して１〜５の整数であり、ｐ、ｑは、それぞれ独立して１〜３の整数である。） （もっと読む）

【課題】 少ない紫外線照射量で配向の制御が可能な液晶配向性を有し、プレチルト角が大きく、光安定性に優れる垂直配向用材料及び当該材料を用いた垂直配向層を提供する。
【解決手段】 一分子中に、(a)光化学的に異性化可能であり、かつ光化学的に架橋されない部位、(b)光化学的に架橋可能な部位、及び(c)垂直配向を安定化する部位を有するモノマー又は当該モノマーのオリゴマー、プレポリマー若しくはポリマーを含有することを特徴とする液晶の垂直配向層用材料及び当該材料の硬化物を構成部材とする液晶用垂直配向層を提供する。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性など光学特性、耐熱性、機械物性に優れた優れた硬化物を与えるアダマンタン誘導体、その製造方法、当該誘導体を含む樹脂組成物及び当該誘導体を使用する硬化物を提供する。
【解決手段】下式で示されるアダマンタン誘導体。


[式中、Ｒ1はアルキル基等を表し、ｋは０〜４の整数を表し、Ｘはアルキレン基等を表し、Ｙはオキシラニルメチル基、オキセタニルメチル基等を表し、ｊは１〜４の整数を表す。] （もっと読む）

【課題】耐熱性、低熱膨張性に優れ、ハードコート材料、ＵＶ硬化塗料、ガラス代替材料、液晶のカラーフィルター、ソルダーレジスト用樹脂又は、無電解メッキレジスト用樹脂等に有用な、特に光学材料として有用なエポキシアクリレート、アクリル系組成物及び硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるエポキシアクリレート、及びこのエポキシアクリレートと重合開始剤を含むアクリル樹脂組成物である。式中、Ｘは水素原子又はメチル基を表し、ＺはＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表し、ａは０〜５の数を示し、ｂは０〜４の数を示す。このエポキシアクリレートは、エポキシビフェニル化合物とアクリル酸又はメタクリル酸とを反応させることにより得られる
（もっと読む）

【課題】基板との密着性、耐薬品性、はんだ耐熱性、ＰＣＴ耐性、冷熱衝撃耐性、無電解金めっき耐性、電気絶縁性等に優れる硬化皮膜を得るのに適した希アルカリ現像型の光硬化性熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）に示す構造を有するカルボキシル基含有感光性樹脂、光重合開始剤を含有する光硬化性熱硬化性樹脂組成物。


（式（１）中、Ｒ^１は（メタ）アクリル基を有するアルキレンオキサイド基、あるいは多塩基酸無水物を反応させたアルキレンオキサイド基、またはアルキレンオキサイド基。） （もっと読む）

【課題】高いΔｎを示す重合性液晶の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合性化合物である。式中、Ｐ¹及びＰ²は、重合性基；ｍ１及びｍ２は、１〜１０の整数；Ａは、５〜１８員環の芳香族炭化水素環又は５〜１８員環の芳香族複素環を含む２価基；Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ、炭素原子数１〜１０のアルキル基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；ｋ１及びｋ２はそれぞれ、０〜４の整数；Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴はそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、又は−ＳｉＲ⁰Ｒ⁰⁰−；ｎ１及びｎ２はそれぞれ、０又は１を表し、但し少なくとも一方は１であり、Ｌ^1a、Ｌ^1b、Ｌ^2a及びＬ^2bはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、又は−ＯＣＮを表し、但し、ｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が１で且つＬ^2a及びＬ^2bの双方が水素原子の時、並びにｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が０の時に限り、Ｘ²及びＸ³の双方が−Ｏ−で表される化合物、並びにＸ²及びＸ³の一方が−Ｏ−であり且つ他方が−ＮＨ−又は−ＮＲ−で表される化合物を除く。
（もっと読む）

【課題】低コストで良好なガスバリア性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法及びガスバリア性フィルム又はガスバリア層を用いた装置の提供。
【解決手段】プラスチック基材と、プラスチック基材１上に設けられた有機層２と、有機層２上に設けられた無機層３とを有し、その有機層２を、水酸基を構造内に含まないアルキレンオキサイド変性フルオレンアクリレート、好ましくは一般式（１）で表される化合物を架橋してなる層とする（ｎ_１＋ｎ_２は１〜２０の整数であり、Ｒ_１，Ｒ_２は水素原子又はメチル基であり、Ｒ_３，Ｒ_４は水素原子、メチル基又はエチル基であり、Ｒ_５，Ｒ_６は水素原子、メチル基又はエチル基である。）。
（もっと読む）

【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性の高分子化合物、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有し、上記（Ａ）成分の高分子化合物が、架橋剤の存在下又は不存在下で、上記酸発生剤から発生する酸触媒によりアルカリ不溶性となる電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物であって、上記（Ａ）成分かつ（Ｃ）成分が塩基性ポリマー（ＰＢ）を含むことを特徴とする電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物。
【効果】超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ネガ型レジスト組成物を用いることで、塩基の拡散を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、アンダーカットの度合いが小さい電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物の提供。 （もっと読む）