説明

国際特許分類[C08F220/26]の内容

国際特許分類[C08F220/26]の下位に属する分類

国際特許分類[C08F220/26]に分類される特許

101 - 110 / 331


【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋剤と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式(1−4)で表される繰り返し単位を含む。


1は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、R2は−CH(CH3)−を表し、R3はトリフルオロメチル基を表し、R4は水素原子を表す。 (もっと読む)


【課題】透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること、並びに、透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜及びその形成方法を提供すること。また、透明性及び耐熱透明性に優れ、誘電率が低く、高い絶縁破壊電圧を有する硬化膜を具備する有機EL表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】(A)(a)カルボキシスチレン骨格を有するモノマー単位、及び、(b)環状エーテル基、を有するモノマー単位を有するアルカリ可溶性樹脂と、(B)感光剤と、(C)溶剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】明度が高く、耐熱性および耐溶剤性に優れたカラーフィルターの製造に好適に用いることができ、インクジェット方式のカラーフィルター用インクを提供すること、明度が高く、耐熱性および耐溶剤性に優れたカラーフィルターを提供すること、また、該カラーフィルターを備えた画像表示装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明のカラーフィルター用インクは、インクジェット方式によるカラーフィルターの製造に用いられるカラーフィルター用インクであって、着色剤と、樹脂材料と、前記着色剤および前記樹脂材料が溶解および/または分散する液性媒体と、イミダゾールシラン化合物とを含むことを特徴とする。前記イミダゾールシラン化合物の含有量は、前記樹脂材料100重量部に対して、1重量部以上30重量部以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】耐加水分解性に優れる乳酸系重合体とその用途を提供し、特に、従来の環境非適応のコーティング剤と同等の性能を有しながら、焼却や埋め立てなどの廃棄時における環境負荷の低減を可能とする、環境適応型コーティング剤とこれを用いたコーティング物を提供する。
【解決手段】本発明にかかる乳酸系重合体は、ポリ乳酸骨格が官能基に由来する結合種を介して互いに繋がっている、ことを特徴とする。本発明にかかる環境適応型コーティング剤は、造膜成分として、加水分解性を有しない単量体と乳酸マクロモノマーとの共重合体を含み、前記乳酸マクロモノマーの共重合割合が5〜95重量%である、ことを特徴とし、本発明にかかるコーティング物は、前記環境適応型コーティング剤を表面にコーティングしてなる、ことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋剤と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であり、樹脂が式(1)で表される繰り返し単位(I)と、式(2)で表される繰り返し単位(II)とを含む。
(もっと読む)


【課題】高感度で、かつ、スペーサー形成後の密着性に優れたスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。また、本発明は、基板との密着性に優れたスペーサー及びその製造方法、並びに該スペーサーを備えた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】(A)酸性基を有する樹脂、(B)重合性不飽和化合物、並びに(C)下記一般式(1)で表されるオキシムエステル化合物を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。


〔一般式(1)中、R及びBは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表す。〕 (もっと読む)


【課題】焦点深度が広く、パターン剥がれ耐性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(A)少なくとも下記一般式(1)で表される繰り返し単位および下記一般式(2)で表される繰り返し単位を含み、全繰り返し単位中の下記一般式(2)で表される繰り返し単位の割合が、1モル%〜10モル%である重合体成分と、(B)感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】 金属成分、特にナトリウム及び鉄含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(a)、ラクトン骨格を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を重合して得られるポリマーを含む溶液を、アニオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液し、次いでカチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液する工程を含む。カチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液するポリマー溶液中の金属含有量は、ポリマーに対して1000重量ppb以下であるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】解像性能などに優れたレジストの材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)一般式(1)Xで表される化合物(Xは一般式(1−1)、(1−2)で表されるカチオン、ZはOHなどのアニオン)、(B)一般式(2)で表される繰り返し単位と一般式(3)で表される繰り返し単位を有する樹脂、および(C)感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。


(一般式(1−1)、(1−2)、(2)、(3)中、R〜Rは水素原子等、Rは脂環式炭化水素基等、Aは単結合等、Rは1価の有機基である) (もっと読む)


【課題】超微細領域での、特に、電子線、X線又はEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス及びアウトガス低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】繰り返し単位(A)〜(C)を含有する樹脂(P)及び沸点150℃以下の溶媒を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法。
(A)活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位
(B)酸の作用により分解してカルボン酸を生成する基を含有する繰り返し単位
(C)炭素−炭素不飽和結合を含有する繰り返し単位 (もっと読む)


101 - 110 / 331