【課題】電荷輸送性及び量子効率に優れた機能素子を提供する。
【解決手段】ビニル基を有する高分子材料から形成される膜を備える機能素子であって、上記高分子材料は、−Ａｒ−ＣＨ＝ＣＨ−で表される繰り返し単位を有し、上記繰り返し単位におけるビニル基は、トランス体が主体である機能素子である。ただし、Ａｒは、共役結合に関与する炭素原子数が４以上、２０以下からなるアリーレン基又は複素環を有する２価の基を表し、上記高分子材料は、好ましくは触媒として遷移金属錯体を用いたメタセシス重合法により合成される。 （もっと読む）

【課題】基材に芳香族ポリマーが結合した形の構造体を効率良く得る構造体の製造方法及び導電性基材であるかかる構造体を提供する。
【解決手段】
式（Ｉ）の芳香族化合物を重合触媒と式（ＩＩ）で表される基を有する基材の存在下で重縮合することを含む上記構造体の製造方法。
【化１】


〔式中、Ａｒは芳香環からなる二価の基であり、Ｘはハロゲン原子等であり、Ｙは酸素原子、硫黄原子、イミノ基等であり、ｎは０または１であり、Ｍは、水素原子、−Ｂ(ＯＱ¹)₂(Ｑ¹は水素原子または炭化水素基など)などである)である。〕
【化２】


〔式中、Ａｒ^ａは芳香環からなる価数ｐ＋１の基であり、Ｘ^aはハロゲン原子または−ＳＯ₃Ｑ^a（ここにＱ^aは置換もしくは非置換の炭化水素基を表す）で示される一価の基であり、ｐは１以上の整数であり、ｐが２以上の整数である場合には存在する複数のＸ^ａは同一または異なる。〕 （もっと読む）

【課題】透明性、耐摩耗性、および耐熱性に優れたクリーンルーム用成形品、およびそれより得られる容器を提供する。
【解決手段】特定構造の環状オレフィン系重合体（Ａ）３０〜９７重量部、および特定構造の芳香族ビニル・共役ジエンブロック共重合体（Ｂ）３〜７０重量部（合計が１００重量部であり、以下の重量部の基準）、並びに、必要に応じて、特定量のラジカル開始剤（Ｃ）、およびラジカル重合性の官能基を分子内に２個以上有する多官能化合物（Ｄ）更には帯電防止剤（Ｅ）を含んでなる樹脂組成物から得られるクリーンルーム用成形品。 （もっと読む）

【課題】耐湿性、耐熱性に優れ、かつ耐衝撃性等の機械的特性に優れた性能を有し、積層、成形、注型、接着等の用途に好適なエポキシ樹脂組成物、それに使用されるエポキシ樹脂及びその中間体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される多価ヒドロキシ樹脂、該樹脂をエポキシ化した下記一般式（３）で表したエポキシ樹脂又は上記多価ヒドロキシ樹脂とエポキシ樹脂のいずれか一方又は両者を必須成分とするエポキシ樹脂組成物。




（ｎ＝１〜１５、ｍ＝２） （もっと読む）

【課題】十分に高い蛍光強度を示し、発光材料や電荷輸送材料等として好適に用いることが可能な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１−１）で示される繰返し単位を含有することを特徴とする高分子化合物。


（式中、Ｒ_ｆ１及びＲ_ｇ１は同一でも又は異なっていてもよく、それぞれフェニル基等を表し、Ｒ_ｄ１及びＲ_ｅ１は同一でも又は異なっていてもよく、それぞれ水素原子等を表す。） （もっと読む）

【課題】十分に高い蛍光強度を示し、発光材料や電荷輸送材料等として好適に用いることが可能な高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される繰返し単位を含有することを特徴とする高分子化合物。［一般式（１）］
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【課題】エポキシ樹脂硬化物自体の線膨張係数が著しく低く、電子部品の絶縁材料として硬化物の寸法安定性に優れ、かつ、硬化物の耐熱性及び靱性が高く耐久性に優れ、とりわけビルドアップフィルム絶縁層に適したエポキシ樹脂組成物、及びこれらの特性を発現する新規フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】２，４’−ビス(ヒドロキシフェニレン)スルホン化合物をパラキシレングリコールジメトキサイドと反応させて得られる新規フェノール樹脂、及び、これをエポキシ樹脂用硬化剤として用いるエポキシ樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィー工程に有効な反射防止性を有するハードマスク組成物を提供する。前記組成物は、非常に優れた光学的特性、機械的特性を提供すると同時に、スピンオン塗布技法を利用して塗布が可能な特性を提供する。特に、前記組成物は、ドライエッチング耐性が非常に優れている薄膜として、アスペクト比が高いパターンを形成することができるパターン形成用多層膜およびパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】新規なポリマーを提供する。
【解決手段】


上記式（Ｖ）又は（ＶＩ）で示されるメタラシクロペンタジエンを、式Ａ^１−Ｗで表わされる化合物と反応させることによりジエン−アリールが製造され、これを重合することによりポリ（ジエン−アリーレン）が製造される。 （もっと読む）

反射防止特性を有するハードマスク組成物が提供される。ハードマスク組成物はリソグラフィーに好適で、優れた光学的特性及び機械的特性を有し、かつ、高いエッチング選択性を示す。また、ハードマスク組成物は、スピンオン塗布技術により容易に塗布することができる。有利なことに、ハードマスク組成物は、短波長リソグラフィーに有用であり、最小の残留酸含有量を有する。 （もっと読む）