式（Ｉ）のフルオロシリコーン化合物を含んで成る離型組成物を開示する：


(I)
[式中、R¹, R², R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸ および R⁹は、それぞれ同一または異なって、置換または非置換のアルキル基、または置換または非置換のアリール基であり、R³ および R¹⁰は、同一または異なって、置換または非置換のアルキル基、置換または非置換のアリール基、Rf-X-またはZ-Y-であり、XおよびYはそれぞれ同一または異なって、２価の有機基であり、Rf はC_1-6フルオロアルキル基であり、Zは加水分解可能な部位を含むシリル基であり、mは1〜100、nは1〜50、およびoは0〜200である。離型組成物は、優れた離型性および離型性の耐久性（繰返し離型性）を与える。
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【解決手段】一般式（１）で表される含フッ素ケイ素化合物。


(Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｙは二価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)〜(3)の化合物を含む加水分解性シランモノマー混合物の共加水分解・縮合により得たシリコーン樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)含窒素有機化合物、
(D)有機溶剤
を含有するレジスト組成物。


R³R⁴_qSiX_3-q (2)
R⁵R⁶_rSiX_3-r (3)
(R¹はフッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基。R²は炭化水素基、R³は官能基として酸分解性保護基で保護されたカルボキシル基を持つ有機基、R⁴はR²と同定義、R⁵は官能基としてラクトン環を有する有機基、R⁶はR²と同定義。Xは水素原子、塩素原子、臭素原子又はアルコキシ基、pは0又は1、qは0又は1、rは0又は1。)
【効果】本発明のレジスト組成物は、従来の近接位炭素がフッ素化されたアルコールを極性基として使用したレジスト組成物に対し同等以上の解像性を示し、酸素反応性エッチングにおいて有機材料である下層膜との間でエッチング選択比がとれないという問題を解決でき、ArF露光における2層レジスト法に好適である。 （もっと読む）

【課題】基材によく密着し、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の層を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンにおいて、


（Ｒ_ｆ^１はパーフロロエーテル残基を有する１価の基であり、Ｒ_ｆ^２はパーフロロエーテル残基を有する２価の基であり、Ｑは２価の有機基である）置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。 （もっと読む）

本発明は、特に光導波路に使用可能なケイ酸縮合生成物であって、（Ａ）一般式（１）：Ｒ^１_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２〔式中、Ｒ^１は、少なくとも１個の芳香族基を有する炭素原子数が６〜２０個の基を表し、Ｒ^２は、Ｈ（Ｈは重水素Ｄであってよい）を表す。〕で示されるシランジオール化合物と、（Ｂ）一般式（２）：Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_３〔式中、Ｒ^３は、少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^４は、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１（ｎ＝１または２の数である）を表す。〕で示される変性シラン化合物を、（Ａ）：（Ｂ）のモル比として１．１〜１．４：１の範囲内で縮合させることにより得られる縮合生成物及びその製造方法、並びに該生成物を使用してなる光導波路デバイスに関する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）一般式（Ｉ）ＣＦ₃（ＣＦ₂）_n（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）_yＸ_3-y（Ｉ），［式中、Ｘは塩素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及びｎ−プロポキシの系列からの基であり、ｎは３、４、５、６、７、８及び９の系列からの数であり、ｙは０又は１である］の少なくとも１種の加水分解可能なフルオロアルキルシラン、ｂ）ＨＣｌ、ｃ）水、ｄ）イソプロパノール、及びｅ）アルコール、グリコール、グリコールエーテル、エーテル、エステル、ケトン及び脂肪族炭化水素及び芳香族炭化水素の系列からの少なくとも１種の他の溶剤及び／又は希釈剤の成分をベースとし、かつシラン成分（ａ）：水のモル比が１：４．５〜１：９であることを特徴とする特別なコーティング組成物に関する。本発明は更に、そのような組成物の製造法、及び、滑らかな無機基材表面に耐摩耗性及び耐候性の易洗浄性コーティングを施与するための該組成物の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）一般式（Ｉ）ＣＦ₃（ＣＦ₂）_n（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）_yＸ_3-y（Ｉ）［式中、Ｘは塩素、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ及びｎ−プロポキシの系列からの基であり、ｎは３、４、５、６、７、８及び９の系列からの数であり、ｙは０又は１である］の少なくとも１種の加水分解可能なフルオロアルキルシラン、ｂ）ＨＣｌ、ｃ）水、ｄ）イソプロパノール、及びｅ）ドデカンの成分をベースとし、かつシラン成分（ａ）：水のモル比が１：４．５〜１：９であることを特徴とする特別なコーティング組成物に関する。本発明は更に、そのような組成物の製造法、及び、滑らかな無機基材表面に耐摩耗性及び耐候性の易洗浄性コーティングを施与するための該組成物の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性およびレジスト塗布性に優れた低屈折率の透明硬化膜を形成する樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）少なくとも一般式（１）で表されるフッ素含有シラン化合物および一般式（２）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を共重合成分とするフッ素含有シロキサンポリマーを含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。Ｒ^１_ｍＳｉ（ＯＲ^２）_４−ｍ （１）（ただし、Ｒ^１はフッ素数３〜１７のフルオロアルキル基を表す。）Ｒ^３_ｎＳｉ（ＯＲ^４）_４−ｎ （２）（ただし、Ｒ^３は水素原子の一部がエポキシ基で置換されたアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】高い反射防止性を有すると共に、耐薬品性、防汚性に優れたコーティング材組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｂ）の加水分解性オルガノシランとシリカ系金属酸化物微粒子とを混合した状態で、（Ａ）及び（Ｂ）の加水分解性オルガノシランを加水分解した第一の加水分解物と、（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｃ）の加水分解性オルガノシランとを共重合した、一方の末端にフッ素置換アルキル基を有する第二の加水分解物と、を含有する。
（Ａ）一般式がＳｉＸ_４（Ｘは加水分解基）
で表わされる加水分解性オルガノシラン、
（Ｂ）撥水基を直鎖部に備えると共にアルコキシ基が結合したシリカ原子を分子内に２個以上有する加水分解性オルガノシラン、
（Ｃ）フッ素置換アルキル基を有する加水分解性オルガノシラン （もっと読む）

【課題】高湿環境下で繰り返し使用しても優れた特性を維持し得る帯電部材、ならびに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_0.5Ｒ¹（ＯＲ²）（ＯＲ³）で示される第１のユニット、ＳｉＯ_1.0Ｒ⁴（ＯＲ⁵）で示される第２のユニットおよびＳｉＯ_1.5Ｒ⁶で示される第３のユニットを有するポリシロキサンを含有する表面層を有する帯電部材であって、該ポリシロキサン中の該第１ユニットのモル数をｘ［mol］とし、該第２ユニットのモル数をｙ［mol］とし、該第３ユニットのモル数をｚ［mol］としたとき、０．６０≦｛（ｘ＋ｙ）／（ｘ＋ｙ＋ｚ）｝≦０．８０である帯電部材。（上記Ｒ¹、Ｒ⁴およびＲ⁶は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、または、置換もしくは無置換のアリール基を示し、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁵は、それぞれ独立に、水素原子、または、置換もしくは無置換のアルキル基を示す。） （もっと読む）