【課題】 撥水性および水滴転落性に優れた被覆物を形成することができるフルオロカーボンシラン含有水性エマルジョンを提供すること。
【解決手段】 本発明の水性エマルジョンは、フルオロカーボンシランまたはその部分加水分解物、界面活性剤、シラン化合物、ｐＨ調整剤（ｐＨを４．５以下または７以上にする酸またはアルカリ）、および炭素数１２〜２４の直鎖または分岐のアルキル基と反応性官能基を合わせもつ化合物を含有する水性エマルジョンである。前記フルオロカーボンシランは、Ｒ_ｆ−（ＣＨ_２）_ｐ−Ｓｉ｛−（Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ−ＯＲ^１｝_３により表される少なくとも一種の加水分解性フルオロカーボンシランであり、水性エマルジョンの総重量に基づいて、０．１〜２０重量％含有される。前記フルオロカーボンシランと、前記界面活性剤との重量比は、１：１〜１０：１である。 （もっと読む）

【解決手段】 下記一般式（１）で表される含フッ素環状構造を有するケイ素化合物。
【化１】


（式中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基（但し、アルコキシ基を除く）を表す。Ｙは単結合又は二価の有機基を表す。Ｚは三価の有機基を表す。）
【効果】 本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し、優れたエッチング耐性を実現するためにより少ない数のフッ素置換に、この適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【解決手段】式(1)のフッ化アルキル基含有アルコキシシラン化合物又は式(1)の化合物と式(2)のシラン化合物との混合物を含フッ素系溶媒中で加水分解・縮合反応する被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法。


R⁴_dSｉ(OR⁵)_4-d (2)
【効果】ガラス、セラミックス、金属、プラスチック等各種基材に対する密着性、耐擦過傷性、耐候性、防汚染性、撥水性、反射防止性能に優れ、屈折率が低くて透明な硬化被膜を効率的に形成できる。 （もっと読む）

【課題】長期間の繰り返し使用によってもトナーやトナーに用いられる外添剤などが表面に固着しにくく、よってＤＣ接触帯電方式に用いても、長期間安定した帯電および画像出力が可能な帯電部材、ならびに、該帯電部材を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。
【解決手段】支持体、該支持体上に形成された導電性弾性層、および、該導電性弾性層上に形成された表面層を有する帯電部材において、帯電部材の表面層が、フッ化アルキル基およびオキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有する。 （もっと読む）

【課題】硬化物が耐熱性に優れた、塗布性、重ね塗布性に優れた低屈折率感光性樹脂組成物を開発する。
【解決手段】一般式ＲｆＲ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_３−ａ（式中、Ｒｆはフッ素を含む有機基を表す。ａは０または１の整数である。）で示されるアルコキシケイ素化合物、一般式ＸＲ^３_ｂＳｉ（ＯＲ^４）_３−ｂ（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基を表す。ｂは０または１の整数である。Ｒ^４はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。）で示されるアルコキシケイ素化合物、及び一般式Ｙ_ｃＲ^５_ｄＳｉ（ＯＲ^６）_{４−ｃ−ｄ}（式中、Ｙは（メタ）アクリル基を含む有機基を表す。ｃは０または１の整数、ｄは０〜２の整数である。）で示されるアルコキシケイ素化合物を塩基性触媒の存在下、共加水分解縮合させることにより得られるフッ素含有ポリシロキサン。 （もっと読む）

【課題】良好な耐溶媒性を所有する一方で、処理が容易で、かつ使用の前後で安定であるシリコーンベースのＰＳＡ組成物の提供。特に高度な耐溶媒性を必要とする感圧接着組成物における粘着付与剤としての使用に特に適する、フルオロアルキルシリル化ＭＱ樹脂の提供
【解決手段】式１で表される化合物の使用。当該使用によりＰＳＡ組成物に対して例外的に高いレベルの耐溶媒性が提供され、高レベルの溶媒及び／又は長い溶媒への曝露時間を伴う環境への使用にとり理想的なものとなる。 （もっと読む）

シリコン含有の第４級アンモニウム基を含む抗菌性ポリマーであって、該ポリマーはその構造中、化学式II；Ｒ_３Ｎ^＋Ｒ^０_ｎＳｉＸ′_４−ｎＹ⁻（II）の繰り返し単位を含み、式中のＲおよびＲ^０はそれぞれ独立して、非加水分解性有機基であり；Ｘ′はそれぞれ、−ＯＲ′、−ＯＨまたは−Ｏ−Ｓｉ、そのＲ′は炭素数１から約２２のアルキル基または炭素数６のアリール基であり；ｎは０から３の整数であり；Ｙは化学式IIの繰り返し単位の塩を形成するのに適したアニオン性の部分であることを開示する。また、そのようなポリマーの製造方法や、前記ポリマーを使って基材に持続性の抗菌特性を付与する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
Ｒ_fＳｉ（ＯＲ₁）₃・・・（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式（２）Ｒ_eＳｉ（ＯＲ₂）₃・・・（２）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるフッ素原子含有ケイ素化合物（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、幹部分がフッ素系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型ポリマー（Ｃ）及びフッ素原子を有する高分子化合物（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

脱ガス現象を低減することができるシルセスキオキサン樹脂、ポジ型レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法が提供され、またイマージョンリソグラフィーに好適なシリコン含有レジスト組成物及びレジストパターン形成方法が提供される。上記シルセスキオキサン樹脂は、下記一般式［式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、直鎖状、分岐状又は環状の飽和脂肪族炭化水素基；Ｒ^３は単環又は多環式基を含有する炭化水素基からなる酸解離性溶解抑制基；Ｒ^４は水素原子、もしくは直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基；Ｘは、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜８のアルキル基；ｍは１〜３の整数］で表される構成単位を有する。

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【課題】優れた透明性や耐熱性を有し、界面で剥離を生じたり内部にクラックを発生させず、優れた形状精度を有するエッチングマスクを安価に形成する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）：（Ｒ^１）_ｐ（Ｒ^２）_ｑＳｉ（Ｘ）_{４−ｐ−ｑ}（式中、Ｒ^１はフッ素原子を含有する炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基、Ｒ^２は炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基（ただし、フッ素原子を含有するものを除く。）、Ｘは加水分解性基、ｐは１又は２の整数、ｑは０又は１の整数である。）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解物及び該加水分解物の縮合物からなる群より選ばれる少なくとも一種以上、および（Ｂ）光酸発生剤を含有し、かつ、全Ｓｉ上の結合基に占めるシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）基の含有率が１０〜５０％であるエッチングマスク組成物によって、基板１上にエッチングマスク５を形成する。 （もっと読む）