本発明はエステル化合物及びポリマーを含む樹脂組成物に関するものであり、そのエステル化合物及びポリマーはジエン、ジエノフィル及びカルボン酸を反応させることにより得られる。また、本発明はその樹脂組成物を含む接着剤組成物に関する。 （もっと読む）

本発明は、プラズマを用いて機能要素の化学的に官能化された表面および／または界面を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】異なる化学構造を持つ複数種類のポリマーをターゲット材料とすることで、高周波スパッタ法による一つのプロセスによって、分子レベルで構造が混合された新たな複合ポリマー材料を提供する。
【解決手段】固体のポリマーＡの上に、Ａと異なる分子構造を有するポリマーＢ溶液を展開し乾燥させた複合材料をターゲットとして用い、高周波スパッタで基板上に、微細なグレインが高密度に凝縮した構造を形成する。 （もっと読む）

本発明は、一方では、コーティングがプラズマ重合プロセスによって提供される開放気泡構造を有する製品の表面にその構造全体にわたってコーティングを提供する方法に関する。上記発泡体は、特定の方法に関して、上記プラズマ重合プロセス用に調製されるべきである。重合は、定性的および均質に、開放気泡および半開放気泡構造中で行われる。他方では、本発明は、ポリマー構造全体にわたって、開放気泡ポリマーの表面の疎水性物質、疎油性物質、難燃性および／またはバリヤコーティングとしての前述の方法の使用方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 半導体集積回路装置における多層配線に用いられる低誘電率の絶縁膜として有用な膜を提供する。
【解決手段】 特定の置換基を有するジアマンタンまたはアダマンタン化合物もしくは該化合物を含む組成物を化学気相蒸着することにより形成された膜。 （もっと読む）

【課題】コーティングが容易で、駆動安定性及び保存安定性に優れ高い発光効率、長寿命を実現可能な有機化合物、及びこれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の提供。
【解決手段】第一態様の有機化合物は、繰り返し単位の主鎖部分に電荷輸送性材料を含む繰り返し単位を含有する主鎖の２つの末端に発光性材料を有し、当該主鎖に非共役鎖を含有する。また、第二態様の有機化合物は、繰り返し単位の主鎖部分に電荷輸送性材料を含む繰り返し単位を含有する主鎖の２つの末端に発光性材料を有し、当該少なくとも２つの発光性材料同士が非共役系であり、前記主鎖及び／又は発光性材料に、特定の群から選ばれる１種以上の置換基を有する。本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、少なくとも一対の対向電極と当該電極間に挟持される単層または多層の有機化合物層とを有し、前記有機化合物層のうち少なくとも１つの層が、本発明に係る有機化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】有機モノマーを反応ガス中に材料ガスとして含ませてプラズマによる重合を行う事により、特性が優れた薄膜のハードマスクを形成する。
【解決手段】容量結合式のプラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法において、ビニル基、アセチレン基で置換されていない沸点約２０℃〜約３５０℃の炭化水素系液体モノマー(C_αH_βX_γ、α，β：５以上の自然数，γ：0を含む整数、X：O、N、またはF) を気化させる工程、該気化したガスを基板が置かれたCVD反応室に導入する工程、及び該ガスをプラズマ重合させることにより該基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する工程、を包含する。 （もっと読む）

【課題】 製造が容易であり且つ広範囲の放射線硬化可能な組成物と容易に適合性にされ得る新規な種類の光反応性ポリマーを提供すること、この新規な種類の非常に有効な光反応性ポリマーの中の少なくとも１種の光反応性ポリマーを含んでなる放射線硬化可能な組成物を提供することならびに食品包装上におけるインキ−ジェット印刷に適した新規な種類の非常に有効な光反応性ポリマーの中の少なくとも１種の光反応性ポリマーを含んでなる放射線硬化可能なインキ−ジェットインキを提供すること。
【解決手段】 少なくとも１個の開始官能基及び少なくとも１個の共−開始官能基を有する樹枝状ポリマーコアを含んでなる新規な光反応性ポリマーを開示する。
光反応性ポリマーは、ワニス、ラッカー、印刷インキ及び放射線硬化可能なインキ−ジェットインキのような放射線硬化可能な組成物において有用である。樹枝状ポリマーコアは、好ましくは高分枝ポリマーである。 （もっと読む）

【課題】白金を用いることなくボラジン系モノマーとシロキサン系モノマーとを共重合させる方法を提供することを主たる課題とする。
【解決手段】第１のソースタンクにボラジン系化合物を装填し、第２のソースタンクにケイ素系化合物を装填し、これらの化合物を出発物質として、プラズマ重合法により絶縁膜を形成する。この場合において、前記第１及び第２のソースタンクから前記プラズマ重合法を実施する成膜装置に至る配管経路の一部又は全部に加熱手段を設けると共に、成膜装置に近づくほど高温となるように温度勾配を設けておくことが好ましい。 （もっと読む）

【解決課題】 低誘電率と高機械強度を両立する絶縁膜を得ること
【解決手段】 エチル基、ビニル基、エチニル基、プロピル基、アリル基、ブチル基またはフェニル基よりなる群から選ばれる置換基を有する環状シロキサンを含むＣＶＤ用絶縁膜原料組成物及び、該ＣＶＤ用絶縁膜原料組成物を気化または昇華して生成させたガスを、基材を静置した反応容器に導入した後、該ガスをプラズマ化して該基材上に絶縁膜を形成する絶縁膜の形成方法。 （もっと読む）