【課題】開始剤や増感剤を用いなくても高い転化率で主鎖型液晶性ポリマーの光重合を実現させる光反応性液晶性モノマー及びそれを用いた液晶性ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】中央にメソゲン基を有し、スペーサ分子を介して、アントラセンを有した特定の構造式で示される光反応性液晶性モノマー及びこの液晶性モノマーを開始剤や増感剤を用いることなく、波長365nmの光のみで重合させることを特徴とする主鎖型液晶ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】水硬性材料の物性、特に、分散性および硬化特性に大きな影響を与えることなく、自己および乾燥収縮を効果的に低減できる水硬性材料用添加剤を提供する。
【解決手段】主鎖としてポリアミン構造を有し、側鎖（１）として炭素原子数１〜３０の炭化水素基を有するグリシジルエーテル由来の基を必須成分として有するポリアミン化合物を含有する水硬性材料用添加剤。 （もっと読む）

本発明は、高分岐ポリマーを少なくとも０．１質量％、線状ポリマーを少なくとも０．５質量％および溶剤を少なくとも３０質量％を含有する、膜を製造するための組成物に関する。本発明はさらに、前記組成物から得られる膜および該膜の製造方法を記載する。 （もっと読む）

【課題】メタノール透過抑制性と電極との接合性が良好で、燃料電池、特にダイレクトメタノール型燃料電池に適した高分子電解質膜及びその用途を提供する。
【解決手段】２種類以上の高分子電解質を混合された状態で有する高分子電解質膜であって、高分子電解質の少なくとも一つが、下記の化学式１で示される構造単位を含有するスルホン酸基含有ポリマーであることを特徴とする高分子電解質膜。


（ただし、Ｘは水素又は１価のカチオン種、Ｙはスルホン基又はケトン基、Ａｒ^１は芳香族化合物を示す。） （もっと読む）

【課題】特に粒子径の細かな微粒子の分散剤として好適で、極めて高い保存安定性を有する微粒子分散体を形成できる分散樹脂の提供と、高い吐出安定性と、保存安定性を実現できるインクジェット用顔料インクの提供。
【解決手段】粒子を溶液中で分散するために用いる分散樹脂であって、その構造中に、環状構造を形成する重合体である環状構造セグメントを有し、且つ、該環状構造セグメントは、少なくとも疎水性官能基を有する単量体を重合することによって得られる分散樹脂、及び該分散樹脂を用いてなるインクジェット用顔料インク。 （もっと読む）

【課題】製品不良を生じさせることなく安価、且つ、容易にレンズ２の内側表面に防曇機能を持たせる。
【解決手段】プラズマ工法によりレンズ２の内側表面に防曇膜として機能するポリエーテル変性シリコン膜３を形成する。これにより、塗装工法により防曇膜を形成する場合と比較して、製品不良を生じさせることなく安価、且つ、容易にレンズ２の内側表面に防曇機能を持たせることができる。 （もっと読む）

親水性活性剤と、重合したエチレンオキサイドの少なくとも１つのブロックと、アルキレンが少なくとも４個の炭素原子を含む重合したアルキレンオキサイドの少なくとも１つのブロックとを含むブロックコポリマーとを含む水性組成物が、親水性活性剤を安定化させる方法および親水性活性剤間の親和性を増大させる方法とともに、記載される。 （もっと読む）

本発明は、炭素、ケイ素、酸素および水素からなるプラズマポリマー生成物を有し、あるいはそれからなる物品に関するものであり、プラズマポリマー生成物のＥＳＣＡスペクトル内で、脂肪族部分のＣ１ｓピークを２８５．００ｅＶに較正する場合に、２５℃において３５０ｍｍ^２／ｓの動粘性と２５℃において０．９７ｇ／ｍＬの濃度を有するトリメチルシロキシ−ターミネーテッド−ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）と比較して、Ｓｉ２ｐピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．４４ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有し、かつＯ１ｓピークが、より高い、あるいはより低い結合エネルギーへ最大で０．５０ｅＶだけシフトされた、結合エネルギー値を有する。 （もっと読む）

二つの有機シリコン化合物を含む混合物からチャンバ内で基板上に低誘電率膜を堆積させる方法が提供される。混合物には、更に、炭化水素化と酸化ガスが含まれてもよい。第一有機シリコン化合物は、Ｓｉ原子あたり平均一つ以上のＳｉ-Ｃ結合を有する。第二有機シリコン化合物のＳｉ原子あたりのＳｉ-Ｃ結合の平均数は、第一有機シリコン化合物におけるＳｉ原子あたりのＳｉ-Ｃ結合の平均数より大きい。低誘電率膜は、良好なプラズマ／ウェットエッチング損傷抵抗、良好な機械的性質、且つ望ましい誘電率を有する （もっと読む）

本発明は、珪素、炭素、酸素及び水素原子を有する少なくとも１つの膜母材前駆体と、少なくとも１つの、Ｒが、直鎖或いは分岐、飽和或いは不飽和炭化水素基若しくは環状飽和或いは不飽和炭化水素基の何れかである式（I）の孔形成化合物か、または、少なくとも１つの次の孔形成化合物の何れかを反応させることを含む、基板への低誘電率ｋの多孔膜を形成する方法であって、少なくとも１つの次の孔形成化合物は、1-メチル-4-（1-メチルエチル）-7-オキサビシクロ［2,2,1］ヘプタン、1,3,3-トリメチル-2-オキサビシクロ［2,2,1］オクタンあるいは1,8-シネオール若しくは1-メチル-4-（1-メチルエテニル）-7-オキサビシクロ［4,1,0］ヘプタンである方法、新規な前駆体混合物及び式（I）の化合物の基板上への低誘電ｋ膜の化学気相堆積での孔形成化合物としての使用に関する。
【化１】

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