説明

国際特許分類[C08G83/00]の内容

国際特許分類[C08G83/00]に分類される特許

11 - 20 / 73


【課題】小分子治療剤の配送用のキャリアとして設計された治療用シクロデキストリン含有重合体化合物の新規な組成物及びその製薬組成物を提供すること
【解決手段】 本発明は、小分子治療剤の配送用のキャリアとして設計された治療用シクロデキストリン含有重合体化合物の新規な組成物及びその製薬組成物に関する。これらのシクロデキストリン含有重合体は、インビボで使用したときに小分子治療剤の薬剤安定性及び溶解度を改善し、そしてその毒性を低下させる。更に、様々なリンカー基及びターゲット配位子から選択することによって、かかる重合体は、治療剤の制御された配送の方法を可能にする。また、本発明は、患者をここに記載した治療用組成物で処置する方法にも関する。更に本発明は、ここに記載した重合体化合物を含有する又はそれに関するキットを製造し、ライセンス供与し、又は分配することを含む製薬ビジネスの実施法に関する。 (もっと読む)


【課題】安価で化学構造の多様性を持つ炭化水素系材料であって、伝導度、特に水分の少ない状況での伝導度に有利な高イオン交換容量部位を持ち、優れたプロトン伝導性を持つ高分子電解質、またそれを用いた水などによる膨潤を抑えた高分子電解質膜および触媒層、それらの何れかを含む膜電極接合体、および、これらのいずれかを構成材料として含む固体高分子形燃料電池を提供すること。
【解決手段】プロトン酸基を有する親水性部位およびプロトン酸基を有しない疎水性部位を有する高分子共重合体を含み、前記親水性部位は、トリアジン環に連結している側鎖に含まれる芳香環の少なくとも1つにプロトン酸基を有する高分子電解質により、上記課題が解決される。 (もっと読む)


【課題】PECVD法により機械強度に優れた電気絶縁膜を提供し、それを配してなる半導体電子デバイスを提供する。
【解決手段】スピロ構造を有する環状シロキサン化合物である2,2,4,4,6,6−トリ(ブタン−1,4−ジイル)シクロトリシロキサン、2,2,4,4,6,6,8,8−テトラ(ブタン−1,4−ジイル)シクロテトラシロキサン、2,2,4,4,6,6−トリ(ペンタン−1,5−ジイル)シクロトリシロキサン、または2,2,4,4,6,6−トリ(2−ブテン−1,4−ジイル)シクロトリシロキサンを原料ガスとして用い、PECVD法によって、機械強度に優れた電気絶縁膜、およびそれを配してなる半導体電子デバイスを製造する。 (もっと読む)


ハロゲン化銅触媒の存在下で、A)式N3(Y)p−(CH2n−R−(CH2m−(Y)p3の化合物(式中、YはSO、SO2、C64、又はCO、p=0又は1、n及びmは独立に1〜4であり、及びRはi)C3〜C10フルオロアルキレン基、ii)C3〜C10フルオロアルコキシレン基、iii)置換アリール基、iv)フッ化ビニリデンとパーフルオロ(メチルビニルエーテル)の共重合単位を含むオリゴマー、v)フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンの共重合単位を含むオリゴマー、vi)テトラフルオロエチレンとパーフルオロ(メチルビニルエーテル)の共重合単位を含むオリゴマー、及びvii)テトラフルオロエチレンと炭化水素オレフィンの共重合単位を含むオリゴマーからなる群から選択される)を、B)テレケリックジイン又はジニトリルと反応させることを含む共縮合重合によりフッ素化共重合体を合成する。 (もっと読む)


具体的にはプロピレンではない、炭素含有ガスのプラズマ重合によって高度架橋ポリプロピレン材料を製造する方法が開示され、高度架橋ポリプロピレン材料は、低い比誘電率、高い熱安定性、及び強化された機械的特性を示す。前記方法及び材料は、マイクロチップ製造における層間誘電体堆積の用途に適しているが、これに限定されない。 (もっと読む)


【課題】 スループットの高いMolecular Layer Deposition(MLD)プロセス,および高性能太陽電池,エレクトロルミネッセンス素子,光スイッチの実現。
【解決手段】
本発明の,反応性分子ガスを異なる分子領域に分離して配置し,基体または分子領域を移動させることにより行う分子領域分割型MLDは,課題解決の有力手段となる。また,太陽電池,エレクトロルミネッセンス素子,光スイッチに,MLDにより分子配列制御したポリマ鎖/薄膜を組み込むことは,課題解決の有力手段となる。 (もっと読む)


【解決手段】Cp−O−Cq(但し、p、qは炭素数を表わし、2≦p≦6、2≦q≦6であり、各炭素鎖には酸素原子と共役する不飽和結合を含まない)結合を含有する炭素数4〜8の直鎖状又は分岐状の酸素含有炭化水素鎖で結合された2個以上のケイ素原子を含有し、かつ該2個以上のケイ素原子はいずれも1個以上の水素原子又は炭素数1〜4のアルコキシ基を有するプラズマCVD法によるSi含有膜形成用有機シラン化合物。
【効果】従来、疎水性を向上させようとした場合には成膜速度に犠牲を払ってきたが、本発明のプラズマCVD法によるSi含有膜形成用有機シラン化合物によれば、膜の疎水性と誘電率特性を確保した上で、成膜速度の低下を抑制することができる。
また、本発明のプラズマCVD法によるSi含有膜の成膜方法を多層配線絶縁膜の成長方法として利用することにより、配線信号遅延の少ない半導体集積回路を安定して製造することができる。 (もっと読む)


【課題】電子部品材料分野で使用する共役高分子は、一定の分子量範囲を有するよう高分子であることが好ましく、簡便な製造方法の提供。
【解決手段】下記(A)の芳香族モノマー及び/又は下記(B)の芳香族モノマーと、有機溶媒と、アルカリ水溶液と、パラジウム触媒とを含む混合物を加熱して重合させることにより共役高分子を製造する方法であり、該混合物の合計1g当り、毎分平均、特定式で表される熱量Y(J/g)を、該混合物に供給して加熱する工程を含むことを特徴とする共役高分子の製造方法。(A)分子内にホウ素含有官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマー、及び、分子内にホウ素含有官能基と反応し得る官能基を少なくとも2つ有する芳香族モノマー(B)ホウ素含有官能基、及び、ホウ素含有官能基と反応し得る官能基の両者を同一分子内に有する芳香族モノマー等。 (もっと読む)


【課題】低加湿条件において高いプロトン伝導性を示し、耐久性、機械強度に優れた高分子電解質を容易に提供する。
【解決手段】分子鎖内にプロトン酸基(ハ)を有し、プロトン伝導性高分子(イ)と架橋剤(ロ)とを前記プロトン酸基以外の部分を介して架橋反応させて得られる架橋高分子を主成分として形成された高分子電解質において、前記プロトン伝導性高分子が、たとえばスルホン化(4−フェノキシベンゾイル−1,4−フェニレン)からなる構成単位を有する高分子電解質。 (もっと読む)


本発明は、プラズマコーティングされたフラーレン系煤粒子を含む組成物、その調製方法、およびそのポリマー混合物での使用に関する。 (もっと読む)


11 - 20 / 73