【課題】エポキシ系樹脂基材に無機保護膜が積層された樹脂シートにおいて、車載用途等の厳しい環境下でも無機保護膜の密着性に優れる樹脂シートを提供する。
【解決手段】エポキシ系樹脂基材に無機保護膜が積層された樹脂シートにおいて、エポキシ系樹脂基材と無機保護膜との間に、エポキシ基を含む材料をプラズマ重合させてなるプラズマ重合膜を備えることにより、車載用途等の厳しい環境下でも無機保護膜の密着性に優れる樹脂シートを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】各種の高分子フィルムに対して、優れた性能を有する機能性皮膜を形成することが可能な新規な高分子複合フィルムの製造方法、及び優れた機能性皮膜を有する高分子複合フィルムを提供する。
【解決手段】気体状の有機金属化合物の存在下に、相互に対向状に配置した一対の電極にパルス状の交番電圧を印加して発生させたプラズマを、高分子フィルムに接触させて該高分子フィルム上に皮膜を形成することを特徴とする、高分子複合フィルムの製造方法、
プラズマ処理によって形成された皮膜を有する高分子複合フィルム、及び
該高分子複合フィルムからなる包装材料。 （もっと読む）

実験用消耗品を式(Ｉ) [式中R¹、R²及びR³は独立に水素、アルキル、ハロアルキル又は場合によりハロ置換されたアリールより選択され、またR⁴はX-R⁵基であるが、式中R⁵はアルキル又はハロアルキル基であり、またXは結合、式-C(O)O(CH₂)_nY-で示される基(式中nは1ないし10の整数であり、Yは結合又はスルホンアミド基である)、又は-(O)_pR⁶(O)_q(CH₂)_t-基(式中R⁶は場合によりハロ置換されたアリールであり、pは0又は1、qは0又は1であり、またtは0であるか又は1ないし10の整数であり、ただしqが1ならばtは0以外である)である。] で示される化合物を含んでなるパルスプラズマに、該消耗品の表面上に高分子層を堆積させるに足る時間にわたり暴露することによって形成されることを特徴とする高分子被膜を有する実験用消耗品。この種の消耗品は液体サンプルの残留を減らし、サンプルの回収を最大限に高め、超非付着性であり、また撥油撥水性である。
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側面の少なくとも１つに薄膜コーティングを有するポリマー製品において、コーティングは、プラズマ重合テトラメチルシランであるSiO_ｘC_ｙH_ｚの第１のコーティングであって、ポリマー製品の表面に堆積され、第１のSiO_ｘC_ｙH_ｚコーティングについて、ｘの値は０から1.7の間、ｙの値は0.5から0.8の間、ｚの値は0.35から0.6の間である第１のコーティングと、プラズマ重合テトラメチルシランであるSiO_ｘC_ｙH_ｚの第２のコーティングであって、第１のコーティングの表面に堆積され、第２のSiO_ｘC_ｙH_ｚコーティングについて、ｘの値は1.7から1.99の間、ｙの値は0.2から0.7の間、ｚの値は0.2から0.35の間である第２のコーティングとを有し、前記第１のコーティングの厚さは約１ナノメートルから約15ナノメートルであり、かつ前記第２のコーティングの厚さは、約10ナノメートルから約100ナノメートル、好ましくはおよそ30ナノメートルであることを特徴とする製品。
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ポリイソブテン誘導体由来の多官能性高分岐状ポリマー及び多官能性多分岐状ポリマー及びその製造方法 （もっと読む）

【課題】 マクロスケールに及ぶ３次元Ｃ_６０ポリマーを製造する。
【解決手段】
ヨウ素とＣ_６０粉末との混合物を出発原料２０として加圧成形室３０に供給し、加圧成形室３０において加圧部４０により出発原料２０を加圧成形し、加圧成形した状態の出発原料２０に、３００°Ｃ以下の加熱状態で５００〜６００ｎｍ程度の波長領域のレーザ光Ｌを照射することにより、ヨウ素とＣ_６０粉末との混合物から光重合反応により３次元フラーレン重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】 基板上に共役ポリマーを含む被覆を作るための方法を提供する。
【解決手段】 この方法は基板を準備し、共役ポリマー被覆形成物質を大気圧プラズマ放電中にまたはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、被覆形成物質の導入と同時に、追加の物質を前記プラズマ放電中またはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、基板を前記プラズマ放電またはそれからもたらされる反応性ガス流に露出し、それにより前記被覆を得ることを含む。 （もっと読む）

【課題】
ウレタン分解物から再生樹脂を得る従来の方法では、分解物とそれと反応させる再生剤とを混合した際に室温でもこれらの反応が徐々に進むため、混合後に使用できる時間が短かく保存性が悪いという問題があった。
【解決手段】
本発明では、ウレタン樹脂分解物にホルムアルデヒドかメチロール基を有する化合物を反応させ樹脂組成物を得る。この樹脂組成物では加熱しないと反応がほとんど進まないため、混合後の保存性がよく、樹脂の無駄をなくすことができる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の層間絶縁膜などに有用な誘電率が低く、かつ機械的強度が高い絶縁膜を得る。
【解決手段】絶縁膜用材料として、ｎ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルメチルシラノン、ｎ−ブチリデンメチルメトキシシラン、ｎ−ブチリデンシラノン、アリルジメチルメトキシシラン、アリルメチルシラノン、アリリデンメチルメトキシシラン、アリリデンシラノン、ビニルエチルメチルメトキシシラン、ビニルエチルシラノンなどを用い、プラズマＣＶＤ法によって成膜する。ＣＯ_２、Ｏ_２、Ｈ_２Ｏ、ＮＯ、Ｎ_２Ｏ、ＮＯ_２、ＣＯ、Ｈ_２、炭素数３の炭化水素基を有する鎖状炭化水素、アルコール類、エーテル類を成膜時に同伴させてもよい。 （もっと読む）

【課題】 エッチングや蒸着などの高価な設備を不要とし、廃液等の出ない環境に好ましいプロセスであり、極めて密着性に優れ、絶縁不良がなく、かつ高密度で経時変化の少ない金属パターンを基板、特にプラスチック基板の上に形成することができる金属パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板表面に印刷により金属パターンを形成する方法において、該基板表面に下記処理（Ｐ）を施した後に金属パターンを形成すること特徴とする金属パターンの形成方法。〔処理（Ｐ）：基板を処理室内に配置し、モノマーを処理室内に導入してプラズマを発生させることにより基板表面に重合体皮膜を形成する処理〕 （もっと読む）