国際特許分類[C08K5/19]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用 (47,119) | 有機配合成分の使用 (22,300) | 窒素含有化合物 (5,478) | アミン;第四級アンモニウム化合物 (1,009) | 第四級アンモニウム化合物 (137)
国際特許分類[C08K5/19]に分類される特許
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帯電防止剤及びそれを含有してなる帯電防止性樹脂組成物
【課題】優れた帯電防止能を持つオニウム塩類を含有する帯電防止剤及びそれを含有してなる帯電防止性樹脂組成物の提供。
【解決手段】 式(1): Q1+A− (1)[式中、Q1+は、N、またはPを含有するオニウムカチオンを示し、A−は含フッ素アニオンを示す。]で表されるオニウム塩の少なくとも1種、及び式(2): Q2+B− (2)[式中、Q2+は、N、またはPを含有するオニウムカチオンを示す。ただし、Q2+は、同時にQ1+と同一のオニウムカチオンになることはない。B−はアニオンを示す。]で表されるオニウム塩の少なくとも1種を有効成分として含有することを特徴とする帯電防止剤並びに該帯電防止剤を含有してなる帯電防止性樹脂組成物。
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全芳香族ポリアミド溶液および全芳香族ポリアミド溶液、全芳香族ポリアミド粉体の製造方法、ならびにN−置換全芳香族ポリアミド、N−置換全芳香族ポリアミド粉体の製造方法
【課題】全芳香族ポリアミド溶液および全芳香族ポリアミド溶液、全芳香族ポリアミド粉体の製造方法、ならびにN−置換全芳香族ポリアミド、その粉体の製造方法を提供する。
【解決手段】全芳香族ポリアミドを、一般式 N(R1)(R2)3・F(R1は直鎖もしくは分岐を有するC1−18アルキル基、フェニル基またはベンジル基、R2はC1−4アルキル基)で表わされる第4級アンモニウム塩と非プロトン性の極性有機溶媒との組合せからなる溶媒に混合した後、加熱・溶解させて全芳香族ポリアミド溶液を製造する。この溶液中で水素化ナトリウムの存在下に、一般式 X-(R3)-Y(R3はC1−21の直鎖もしくは分枝アルキレン基、Xは塩素または臭素から選ばれたハロゲン基、Yは-CH3,-CH=CH2,-フェニル基,-C1−9のアルキルアリール基(アラルキル基)より選ばれた基)で表わされるハロゲン化合物と反応させてN−置換全芳香族ポリアミドを製造する。
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導電性組成物及び導電性膜
【課題】本発明は、上述したような従来技術では解決できなかった課題を解決するものであり、その目的は、含有成分の分散性が良好で、膜を形成した際に透明性及び導電性に優れた導電性組成物、更に、導電性のバラつきが小さい導電性膜を形成することが可能な導電性組成物、及びこれを用いた導電性膜を提供することである。
【解決手段】導電性ポリマー、イオン液体、カーボンナノチューブを含有する導電性組成物であって、該カーボンナノチューブの一次粒子での存在率が80個数%以上であることを特徴とする導電性組成物。
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帯電ロール
【課題】優れた耐ヘタリ性を有しつつも硬度が低く、また要求される導電性を有利に発揮し得る帯電ロールを提供すること。
【解決手段】軸体の周りに導電性弾性体層を設けてなる帯電ロールにおいて、該導電性弾性体層を、イオン導電性ゴムたるエピクロルヒドリンゴム及び/又はニトリルゴムの100重量部に、過酸化物架橋剤の0.7〜1.0重量部を配合してなる、電子導電剤が配合されていないゴム組成物にて形成し、且つ、熱重量測定による該導電性弾性体層におけるゴム成分の存在割合を90重量%以上とした。
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ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法
【解決手段】(A)酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
(B)式(1)又は(2)で表される化合物、
LaHbX (1)
(LはLi,Na,K,Rb又はCe、Xは水酸基、又は有機酸基であり、aは1以上、bは0又は1以上)
MaHbA (2)
(Mはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウムであり、Aは上記X又は非求核性対向イオン)
(C)有機酸、
(D)環状エーテルを置換基として有するアルコール、
(E)有機溶剤
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物で形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。また、フォトレジストパターンを転写可能で、基板を高い精度で加工できる。
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帯電部材の製造方法
【課題】優れた特性を有する高画質化、カラー化、及び長寿命化に適した帯電部材を提供する。
【解決手段】導電性芯軸の上に弾性層を有する帯電部材の弾性層を、ポリエーテル共重合体とアクリロニトリルブタジエンゴムと過塩素酸4級アンモニウム塩とを含むゴム組成物を架橋して形成する。このポリエーテル共重合体は、80モル%以上89モル%以下のエチレンオキサイド由来のユニットと、1モル%以上9モル%以下のアルキレンオキサイド(エチレンオキサイドを除く)由来のユニットと、10モル%以上19モル%以下のアリルグリシジルエーテル由来のユニットとを有する。
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ディスプレイ用減反射性近赤外線低減材及びこれを用いた電子画像表示装置
【課題】近赤外線吸収色素の安定性を保持し、耐久性能を向上させることができると共に、屈曲性能が高く取扱性の良いディスプレイ用減反射性近赤外線低減材及びこれを用いた電子画像表示装置を提供する。
【解決手段】ディスプレイ用減反射性近赤外線低減材10は、透明基材11の一方の面に透明樹脂中に近赤外線吸収色素が含まれている近赤外線吸収層12が設けられ、他方の面に減反射層13が設けられて構成されている。近赤外線吸収層12中の近赤外線吸収色素は、スルホンイミド系化合物をアニオン成分とするジイモニウム塩化合物と、該ジイモニウム塩化合物と同じアニオン成分を有するシアニン系化合物とを含有する。さらに、近赤外線吸収色素の含有量は、近赤外線吸収層12を構成する透明樹脂に対して3〜7質量%である。
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半導電性ポリフッ化ビニリデン系樹脂組成物、半導電性樹脂成形物及び電荷制御部材
【課題】体積抵抗率が半導電性領域にあり、体積抵抗率の場所によるばらつきが小さく、更に再溶融しても体積抵抗率が安定且つ均一であり、更に高水準の引張弾性率を有する電荷制御部材に用いる半導電性フッ化ビニリデン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】フッ化ビニリデン単独重合体又はフッ化ビニリデン・六フッ化プロピレン共重合体或いはこれらの混合物であるポリフッ化ビニリデン系樹脂(A)100質量部に対して、イオン性導電剤(B)0.1〜8重量部、並びにASTM:D1765‐96aに基づくN990級若しくはN991級の粒子径のカーボンブラック(C)10〜45質量部を含有する樹脂組成物である半導電性ポリフッ化ビニリデン系樹脂組成物、該樹脂組成物の成形物及び電荷制御部材。
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親水性膜形成用組成物および親水性部材
【課題】防汚性、防曇性に優れ、良好な耐摩擦性を有する親水膜を形成するのに用いられる親水性組成物を提供すること。また、該親水性組成物により形成された親水膜を備えた、防汚性、防曇性及びその耐摩擦性に優れた表面を有する親水性部材を提供すること。
【解決手段】(A)両性イオン低分子化合物、(B)親水性ポリマー、(C)Si,Ti,Zr,Alから選択される元素を含むアルコキシド化合物、(D)金属錯体触媒を含有する親水性膜形成用組成物を用いる。
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帯電防止剤
【課題】 パーフルオロアルキル基の炭素数が短いポリマー型フッ素系界面活性剤を製造するために必要なパーフルオロアルキル基の炭素数が短く設計の容易な新規含フッ素ウレタン(メタ)アクリレートと、その製造方法、これを用いたフッ素系界面活性剤を提供すること。
【解決手段】 構造式(A)(式中、Rは水酸基を有していてもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、PFPEはパーフルオロポリエーテル基を表す。)を含有する化合物、パーフルオロポリエーテル含有アミンの製造方法、前記構造式を必須成分とする界面活性剤。
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