本発明は、（ａ）少なくとも一つの以下の式に示される繰り返し単位を有するポリマー


ここでＲ^１は、非加水分解性基であり、ｎは１〜３の整数である；及び（ｂ）架橋触媒を含む組成物に関する。当該組成物は、低誘電率（low-k dielectric constant）材料、並びにフォトリソグラフィ工業のための反射防止性を有するハードマスク及びアンダーレイヤー材料を形成するのに有用である。
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【課題】 従来に比べて、表面抵抗値をより低下することができる、優れた帯電防止能を持つ第四級アンモニウム塩類を含有する帯電防止剤及びそれを含有してなる帯電防止性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 式（１）：
Ｑ_１⁺Ａ⁻ （１）
［式中、Ｑ_１⁺は第四級アンモニウムカチオンを示し、Ａ⁻は含フッ素アニオンを示す。］で表される第四級アンモニウム塩（以下、アンモニウム塩（１）という。）の少なくとも1種、及び式（５）：
Ｑ_２⁺Ｂ⁻ （５）
［式中、Ｑ_２⁺は第四級アンモニウムカチオンを示し、Ｂ⁻はアニオンを示す。］で表される第四級アンモニウム塩（以下、アンモニウム塩（５）という。）の少なくとも１種を有効成分として含有する（但し、アンモニウム塩（１）とアンモニウム塩（５）が同一である場合を除く。）ことを特徴とする帯電防止剤並びに該帯電防止剤を含有することを特徴とする帯電防止性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な加工性を有すると共に、低燃費性及び反発弾性の向上した空気入りタイヤを与えるゴム組成物及びこのゴム組成物用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】（Ａ）ジエン系合成からなるゴム成分と、その１００質量部に対し、(Ｂ)無機充填剤１０〜１００質量部を含むと共に、前記無機充填剤に対し、（Ｃ）特定の構造を有する有機珪素化合物１〜２０質量％、及び（Ｄ）特定の構造を有するアミン塩化合物０．１〜２０質量％を含むゴム組成物、並びに該ゴム組成物を、トレッド部の少なくとも接地部分に用いてなる空気入りタイヤである。 （もっと読む）

【課題】レーザ露光による書き込みが可能であり、感度、現像除去性、及び耐キズ性に優れた画像記録材料を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）エチレン性不飽和結合を１つ以上有する化合物、及び、（Ｂ）重合開始剤を含有する画像記録層上に、（ａ）少なくとも１種のイオン架橋可能な官能基を有するポリマーと、（ｂ）少なくとも１種のイオン架橋可能な官能基を有する低分子化合物と、によって形成される架橋体を含有する保護層を有することを特徴とする画像記録材料。 （もっと読む）

【課題】相乗作用抗微生物組成物を提供する。
【解決手段】組成物は、モノマーＸおよびモノマーＹの重合単位を含む、銀含有コポリマー（ここで、モノマーＸは、Ｎ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１個のヘテロ原子を有する不飽和または芳香族複素環式基から選択される置換基を有するエチレン性不飽和化合物であり；モノマーＹは、カルボン酸類、カルボン酸塩類、カルボン酸エステル類、有機硫酸類、有機硫酸塩類、スルホン酸類、スルホン酸塩類、ホスホン酸類、ホスホン酸塩類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド、少なくとも１つの環外エチレン性不飽和を含有するＣ_８−Ｃ_２０芳香族モノマーおよびその組み合わせから選択される）；および少なくとも１種の有機殺生物剤を含む。 （もっと読む）

【課題】スコーチタイムに悪影響を及ぼすことなく、加硫速度及び加硫ゴム物性を改善するゴム加硫用配合剤の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｒ₁ ，Ｒ₂ 及びＲ₃ は、独立に、水素又は炭素数１〜２０のヘテロ原子及び／又は置換基を有してもよい有機基であり、Ｘは炭素数２〜２０のヘテロ原子及び／又は置換基を有してもよい有機基である。）
で表されるカルボン酸基含有ジスルフィドのアミン塩化合物を含むゴム加硫用配合剤並びにその製造方法及びそれを含むゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】 透明フィルム基材として広く使用されるＰＥＴ等との樹脂フィルムとの密着性が良く、しかも近赤外線吸収剤を安定に含有することができる近赤外線吸収フィルム用バインダー樹脂を提供すること
【解決手段】
下記（Ａ）の低分子量(メタ)アクリル系ポリマー１００重量部に対して、下記（Ｂ）の高分子量（メタ）アクリル系ポリマーを１〜３０重量部含有せしめてなる近赤外線吸収フィルム用バインダー樹脂。
（Ａ）メチルメタクリレートを７０質量％以上（共）重合した、重量平均分子量５万〜
３０万の低分子量（メタ）アクリル系ポリマー、
（Ｂ）メチルメタクリレートを９０質量％以上（共）重合した、重量平均分子量４０万 〜１５０万の高分子量（メタ）アクリル系ポリマー。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ−１）酸触媒を用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られる反応混合物から上記酸触媒を除去して得られるケイ素含有化合物、
（Ａ−２）塩基性触媒を用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られる反応混合物から上記塩基性触媒を除去して得られるケイ素含有化合物、
（Ｂ）式（１）又は（２）の化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ （１）
（ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｓ、ＸはＯＨ又は有機酸基、ａは１以上、ｂは０又は１以上、ａ＋ｂは水酸基又は有機酸基の個数である。）
ＭＡ （２）
（Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウム、Ａは非求核性対向イオン。）
（Ｃ）炭素数が１〜３０の有機酸、
（Ｄ）有機溶剤、
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の組成物を用いて形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、その上に形成したフォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である。 （もっと読む）

低誘電率（low-k）材料の形成に並びにフォトリソグラフィ工業用の反射防止性を有するハードマスク材料の形成に有用な、薄膜熱硬化性樹脂を形成するのに使用できる高ケイ素含有樹脂組成物が開示される。 （もっと読む）

シェル砂被包においてヘキサの使用を排除するための処方物および使用法が開示される。前記組成物は、ヘキサ成分が固形粉粒体状レゾールまたはキュアリング剤に取り替えられた標準的なノバラック樹脂から成る。好ましい処方物と配合方法が提供される。アンモニア、フェノールなどの微量成分は、アンモニア緩衝液とマスキング剤の好ましい５０：５０混合物を添加することによってさらに低減される。アンモニア緩衝液とマスキング剤の混合物用の好ましい化合物が提供される。
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