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国際特許分類[C08L101/02]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 高分子化合物の組成物 (74,396) | 不特定の高分子化合物の組成物 (13,142) | 特定の基の存在に特徴のあるもの (1,564)

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本発明は、伝導性高分子重合体、伝導性高分子組成物、伝導性高分子組成物膜およびこれを利用した有機光電素子に関し、前記伝導性高分子重合体は、化学式1で表されるものを提供する。
前記化学式1の定義は、明細書に記載されたとおりである。前記伝導性高分子重合体を利用すると、発光効率および寿命特性に優れた有機光電素子が実現可能である。 (もっと読む)


【課題】シャルピー衝撃強度、曲げ弾性率、分散性の全ての観点で優れ、良好な耐衝撃性を保持しながら、良好な耐傷性を有する成形材料を提供すること。
【解決手段】セルロースに含まれる水酸基の水素原子が、A)炭素数が1〜3の炭化水素基:−Rで置換された基を少なくとも1つ、及びB)アシル基:−CO−R(Rは炭化水素基を表す。)で置換された基を少なくとも1つ含むセルロース誘導体と、α,β−不飽和カルボン酸エステル重合体とを含有する成形材料。 (もっと読む)


【課題】破断伸びと硬度を共に向上させ、かつ良好な加工性を有するタイヤ用ゴム組成物およびそれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ジエン系ゴム100質量部に対し、シリカを5〜100質量部、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂のようなエポキシ樹脂を0.5〜20質量部および分子内に水酸基を有する樹脂を1〜30質量部配合してなることを特徴とするタイヤ用ゴム組成物と、該タイヤ用ゴム組成物を、例えばトレッド(3)用やビードフィラー(6)用に使用した空気入りタイヤ。 (もっと読む)


【課題】良好な耐衝撃性(特にシャルピー衝撃強度)、高い剛性(曲げ弾性率)、十分なガスバリア性を有し、金属剥離性にも優れた成形材料を提供すること。
【解決手段】セルロースに含まれる水酸基の水素原子が、A)炭化水素基:−Rで置換された基を少なくとも1つ、及びB)アシル基:−CO−R(Rは炭化水素基を表す。)で置換された基を少なくとも1つ含むセルロース誘導体と、ビニルアルコール系樹脂とを含有する成形材料。 (もっと読む)


【課題】シャルピー衝撃強度、曲げ弾性率、分散性の全ての観点で優れ、良好な耐アセトンと耐候性を両立する成形材料を提供すること。
【解決手段】セルロースに含まれる水酸基の水素原子が、A)炭素及び水素のみからなる炭素数が1〜3の炭化水素基:−Rで置換された基を少なくとも1つ、及びB)アシル基:−CO−R(Rは炭素及び水素のみからなる炭化水素基を表す。)で置換された基を少なくとも1つ含むセルロース誘導体と、脂肪族ポリアミドとを含有する成形材料。 (もっと読む)


【課題】本発明は、グラフェン分散液の製造方法およびこれにより製造されるグラフェン-イオン性液体高分子複合物、並びにその製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、黒鉛をイオン性液体に入れて分散させることにより製造されたグラフェン分散液を用いてグラフェン-イオン性液体高分子複合物を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】ポリアミドとABS樹脂を含む組成物であって、それから得られる成形体の外観や塗装性等が良好な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)ポリアミド樹脂50〜90質量%及び(B)ABS樹脂50〜10質量%を含有しており、(C)カルボン酸変性AS樹脂、カルボン酸変性アクリル樹脂、カルボン酸無水物変性マレイミド樹脂、カルボン酸変性ABS樹脂、カルボン酸無水物変性SEBS樹脂、カルボン酸無水物変性EPDMから選ばれる相溶化剤を(A)及び(B)成分100質量部に対して0.2〜50質量部、(D)ガラス繊維又は炭素繊維を(A)及び(B)成分の合計100質量部に対して10〜150質量部含有するものであり、有機酸の含有量が3000ppm以下である樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】低バンドギャップポリマーによる高い光電変換効率のため、高い曲線因子を提供しうるフラーレン誘導体含有の有機光電変換素子等を提供する。
【解決手段】対極と透明電極間に、下記一般式(1)の化合物含有の有機層を設ける。
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【課題】可視領域から赤外領域までの広い範囲での遮光性を有し、硬化膜のガラス基板への密着性が良好で、レンズ上の残渣が少ない遮光膜を形成しうるウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】(A)無機顔料、(B)一般式(I)で表わされる樹脂、(C)重合開始剤、および(D)重合性化合物、を含有するウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物。
一般式(I)中、Pは酸基を有する炭素数5以下の基を表す。Bは分子量12以上1,500以下である(m+n)価の連結基を表す。Qは重量平均分子量が2,000以上50,000以下の親溶剤性基を表す。mは2以上10以下の整数を表し、nは1以上10以下の整数を表す。
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【課題】浸漬リソグラフィ処理に適した、フォトレジスト組成物の上に適用されるバリアー層組成物を提供する。別の面において、浸漬リソグラフィ処理のための新規な方法を提供する。
【解決手段】浸漬リソグラフィ用のバリアー層として、少なくとも樹脂主鎖内にフッ素置換基を含有していない1種以上の樹脂をはじめとする、1種以上の非溶媒担体材料(成分)を含有する。 (もっと読む)


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