【課題】一つの形態として、懸濁粒子を含有する新規な泡体を提供し、他の態様として、泡体ディスペンサーとの関連で使用される発泡部材を提供する。
【解決手段】焼結ポリエチレン、焼結青銅、焼結ステンレス鋼、多微小孔性材料および多層ステンレス鋼ガーゼからなる群から選択されたエア噴射部材と；該エア噴射部材の一側に設けられた混合チャンバーであって、該エア噴射部材がこの混合チャンバーの一部を画成し、該混合チャンバーが液体入口を有するものと；エア噴射部材の他方の側に設けられたエアチャンバーであって、該エア噴射部材がこのエアチャンバーの一部を画成し、該エアチャンバーは空気入口を有するものと；混合チャンバーの液体入口の下流側に設けられた混合チャンバー出口と；を具備してなる発泡部材。 （もっと読む）

【課題】白色クリーム様のコク感を有しながら水洗時に洗い流しやすくやすく、洗浄後はなめらかな肌感触となり、しかもメーク除去効果に優れ、ゲル安定性にも優れたゲル状洗浄組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）エステル置換度が１．８以下であるショ糖脂肪酸エステル ０．５〜５質量％と、（ｂ）分子内に３個以上の水酸基を有する多価アルコール ５〜５０質量％と、（ｃ）油分 ２０〜９０質量％と、（ｄ）酸化チタン及び／又は酸化亜鉛 ０．０１〜２．０質量％と、を含むものとする。 （もっと読む）

【課題】基板表面に砥粒の残留がなく凹み欠陥も存在しないハードディスク基板を製造するためのリンス剤、及び該リンス剤を使用したハードディスク基板の製造方法を得ること。
【解決手段】本発明のリンス剤は、砥粒としてコロイダルシリカを含有するリンス液であり、コロイダルシリカ砥粒の濃度をＣ、コロイダルシリカ砥粒の平均粒径をＲとしたときに（Ｃ、Ｒはそれぞれ重量％、nmで表される）、コロイダルシリカ砥粒の濃度Ｃと平均粒径Ｒの関係が下記の式（１）を満足する構成を有している。
Ｒ≧２．２Ｃ＋１８．２・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】発光スペクトル幅が広く発光強度が強い発光体を提供する。
【解決手段】植物体ＲＨを準備する。この植物体ＲＨを、酸素を含むガス中で熱処理することにより、植物体ＲＨを原料とする発光体を生成する。これにより、発光スペクトル幅が広く、かつ、発光強度が強い発光体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】使用時の「スクラブ感」が良好であるとともに、スクラブ剤による洗浄対象物への刺激が低く、かつ低コストで製造できる、スクラブ剤入り洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】平均粒径が１００〜１０００μｍであり、且つ含水率が５０〜７００％であるシリカゲル粒子からなるスクラブ剤と、界面活性剤とを含有する洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】油分の拭き取りなどの前処理工程を必要とせずに撥水膜塗布作業を行うことができるガラス表面に付着された油分などの汚れ除去機能を有し、かつＰＦＯＳ規制及びＶＯＣ排出規制に対応した水溶液タイプの撥水剤を提供。
【解決手段】（Ａ）ガラス表面に露出したシラノール基と共有結合する変性シリコーンオイルを５〜２０重量％、（Ｂ）研磨剤を１〜１０重量％、（Ｃ）ヒュームドシリカを０.２〜４重量％、（Ｄ）アルコールを１０〜４０重量％、（Ｅ）酸を前記変性シリコーンオイルの５〜３０重量％、および（Ｆ）残部として水を含む油汚れ除去機能を有する撥水剤。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高水準の生分解性を有し、ほとんどもしくは全く生態毒性がなく、高水準の効果と最大皮膚耐性を有し、全身毒性がないヘビーデューティークレンザー(HDHC)を提供する。
【解決手段】本発明のきわめて広い形態において、飽和および/または不飽和の植物脂肪酸（例えばヒマワリ油、大豆油、菜種油、またはココナッツ油の数種の天然源由来のもの）の1種以上のメチルエステルを5〜10%含有するクレンジング配合物を提供する。配合物は、約10%〜30%の1種以上の界面活性剤を含み、好ましい界面活性剤の配合には、少なくとも1種のエトキシル化された脂肪アルコール、アルキルポリオキシエチレングリコール、アルカノールアミドおよび高分子量の四級アンモニウム塩が含まれる。 （もっと読む）

カチオン性ポリマーとプロテアーゼとを含む食器手洗い用液体洗剤組成物、カチオン性ポリマーとプロテアーゼとを含む食器手洗い用液体洗剤組成物を用いる食器洗浄法、並びに手作業による食器洗浄操作の状況下において、カチオン性ポリマーとプロテアーゼとを含む食器手洗い用液体洗剤組成物を用いることで、皮膚の水和及び／又は保湿を提供する方法。 （もっと読む）

上質なグリース洗浄性と手穏やかさとを提供するために、保湿剤と、真珠光沢剤と、を含む、食器手洗い用洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 微細化したパーティクルや有機物の洗浄力に優れると共に基板上の金属汚染が低減でき、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 スルファミン酸（Ａ）、分子内に少なくとも１個のスルホン酸基又はその塩基を有するアニオン性界面活性剤（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）及び水を含有してなる電子材料用洗浄剤であり、２５℃でのｐＨが３以下であることが好ましい。 （もっと読む）