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国際特許分類[C11D3/37]の内容

国際特許分類[C11D3/37]に分類される特許

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【課題】毛髪洗浄分野では、洗髪時の泡立ち、すすぎ時の泡切れ、及び乾燥後の髪の広がりのなさのすべてを顕著に向上させることができ、皮膚洗浄分野では、洗浄時の泡立ち、すすぎ時の泡切れ、及び乾燥後の皮膚のかさつきのなさのすべてを顕著に向上させることができる洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】(A)アニオン性界面活性剤5質量%〜30質量%、(B)カチオン性界面活性剤0.1質量%〜10質量%、(C)25℃での動粘度が400万mm/s以上のジメチルポリシロキサン0.01質量%〜2質量%、及び(D)マルトオリゴ糖を少なくとも含有する洗浄剤組成物である。 (もっと読む)


【課題】洗浄性及び消泡性が高いために長寿命の洗浄剤となり得る鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤(a)、非イオン性界面活性剤(b)、脂肪酸アミド(c)、炭素数8〜24の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール(d)、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤(b)の含有量と、前記アルコール(d)の含有量の比{(b)/(d)}が、0.10〜0.90である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 (もっと読む)


【解決手段】主鎖を構成するオルガノポリシロキサンのケイ素原子に一般式(1)で表される有機基が結合してなるオルガノポリシロキサンを含有する繊維処理剤。


[式(1)中、X及びYはそれぞれ独立に、炭素数1〜10の2価の炭化水素基であり、mは0〜4の整数であり、Raは水素原子又は炭素数1〜4の1価の炭化水素基である。Zは一般式(2)


(式(2)中、Rbはアミノ酸の側鎖、Rcは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、Rdは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数1〜22のアシル基である。)で表される有機基である。]
【効果】繊維処理剤は、優れた柔軟性付与効果を維持しながら、べたつかず、滑り性や弾力性のある風合いを付与することができる。 (もっと読む)


【課題】シリコーンに対する洗浄力に優れ、起泡性と泡のクリーミー性に優れ、洗髪時、すすぎ時の指通りが良く、また、べたつかずサラサラで自然なまとまりに仕上がり、さらには防腐剤等を配合せずとも防腐性に優れる毛髪洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記の(a)成分〜(f)成分を含有し、(a)成分が組成物中2〜10質量%、(b)成分が組成物中5〜15質量%、(c)成分が組成物中1〜5質量%、(d)成分が組成物中0.5〜5質量%、(e)成分が組成物中1〜5質量%、(f)成分が組成物中0.1〜1質量%であることを特徴とする毛髪洗浄剤組成物。
(a)アシルβ−アラニン型界面活性剤
(b)アシルタウリン型界面活性剤
(c)アミドベタイン型界面活性剤及び/又はアルキルベタイン型界面活性剤
(d)ポリオキシエチレングリコール
(e)1,2−ペンタンジオール及び/又は1,2−ヘキサンジオール
(f)カチオン性ポリマー (もっと読む)


【課題】基板表面を腐食することなく微粒子付着による汚染、有機物汚染及び金属汚染を同時に除去することができ、しかも水リンス性も良好で、短時間で基板表面を高清浄化することができる半導体デバイス用基板洗浄液を提供する。
【解決手段】
半導体デバイス製造における化学的機械的研磨工程の後に行われる、半導体デバイス用基板の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、以下の成分(A)〜(D)を含有してなる半導体デバイス用基板洗浄液。
(A)有機酸
(B)スルホン酸型アニオン性界面活性剤
(C)ポリビニルピロリドン及びポリエチレンオキシド−ポリプロピレンオキシドブロック共重合体から選ばれる少なくとも1種の高分子凝集剤
(D)水 (もっと読む)


【課題】 窒素含有基を有するポリシロキサンを提供する。
【解決手段】 側鎖アミノ官能基と少なくとも1つのさらなる側鎖官能基および/または末端官能基とを有する、末端ブロックされたポリシロキサン。 (もっと読む)


【課題】高濃度の界面活性剤を含有し、洗浄力、衣料への香料成分の吸着力に優れ、原液は低泡性且つ消泡性に優れ、その一方で洗浄濃度の希釈液は高起泡性であり、更に水で組成物を希釈する際のゲル化形成等による溶解性の低下のない液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)エチレンオキシ基と炭素数3〜5のアルキレンオキシ基とを特定条件で含む特定の非イオン界面活性剤、(b)陰イオン界面活性剤、(c)陽イオン界面活性剤、(d)シリコーン、(e)LogPが3以上である香料化合物及び(f)水混和性溶剤を、それぞれ特定比率で含有する液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】 毛髪の低湿度環境下における水分量と高湿度環境下における水分量との差を小さくし得るシャンプーを提供する。
【解決手段】 アシルアミノ酸またはその塩、多価アルコール、分岐型脂肪酸アミドプロピルベタイン、カチオン化ポリマーおよび水が配合されており、上記多価アルコールの配合量が、10〜30質量%であるシャンプーにより、上記課題を解決する。上記アシルアミノ酸またはその塩には、アシルアスパラギン酸またはその塩と、アシルグルタミン酸またはその塩とが併用されていることが好ましく、また、本発明のシャンプーには、ショ糖脂肪酸エステルが更に配合されていることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】うどん、そば、パスタ等に由来する有機物汚れを剥離させるだけでなく溶解させることができ、より短時間で洗浄を行うことができ、しかもスケール汚れの付着を防止することができる茹で麺装置用洗浄剤及びこれを用いた茹で麺装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】製麺ラインで用いられる茹で麺装置を洗浄するための茹で麺装置用洗浄剤であって、アルカリ剤及びキレート剤を含む第一剤と、過酸化物を含む第二剤とからなることを特徴とする茹で麺装置用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】タンパク質汚れ洗浄力に優れると共に、保管上の課題や取り扱い上の危険性がない業務用自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】(A) 無水換算で10〜18質量%のメタ珪酸ナトリウム、
(B) 10〜35質量%のマレイン酸/アクリル酸共重合体のナトリウム塩、
(C) 無水換算で5〜35質量%のクエン酸ナトリウム塩及び/又はクエン酸カリウム塩、及び(D) 25〜60質量%の塩化カリウム、
を含有し、且つ、(B)と(C)成分の総和が25〜50質量%である業務用自動食器洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 (もっと読む)


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