【課題】極めて微細且つ高精度パターンを洗浄乾燥するための、フッ素イオンを遊離せず、且つ引火点を持たない洗浄乾燥剤、および基板の洗浄乾燥方法を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄乾燥剤は、一般式（１）


で表される含フッ素３級アルコールまたは一般式（２）


で表される含フッ素３級ジオールを含む。 （もっと読む）

【課題】塩素系洗浄剤と酸性洗浄剤を混合した際に発生する人体に有害な塩素ガスに対して、塩素ガスの発生を迅速に抑制するとともに、発生した塩素ガスを消滅させる取扱性に優れた塩素ガス低減剤を提供する。
【解決手段】塩素ガスの発生を抑制するとともに、発生した塩素ガスを消滅させる化合物が、多孔性基材との複合体となっていることを特徴とする塩素ガス低減剤。 （もっと読む）

【課題】油が付着した被洗浄物に対して、洗浄効果の優れた溶剤組成物を提供することである。
【解決手段】（ａ）１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン１００重量部に対して、（ｂ）１種以上の、一般式（１）：Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２（１）（式中、Ｒ^１は、少なくとも１つのフッ素原子で置換された炭素原子数３〜６のアルキル基であり、Ｒ^２は、炭素原子数１〜４のアルキル基、又は少なくとも１つのフッ素原子で置換された炭素原子数３〜６のアルキル基である）で示される、ハイドロフルオロエーテル化合物を４０〜４５０重量部含むことを特徴とする、油が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 ガラス面、光沢のある金属面や塗装面、プラスチック面の拭掃は勿論、処理液によって処理された面が光沢を失わないで汚れを防ぎ、長期間その効果が持続する表面処理液の製造方法を提供する。
【解決手段】 高速回転機能を有する撹拌機の回転槽内に、エタノ−ル６０％、精製水３９，７％、弗素０，７％ の割合で投入した後、２００００回転乃至２５０００回転の速度で１０数分回転させる表面処理液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】塩素臭や腐食の問題もなく、安全性や取扱い性に優れ、適度な溶解性を保持した、台所流し台や風呂場の排水口等のように雑菌やカビ等の代謝物によりヌメリが発生する箇所に設けられる、ヌメリ防除剤を提供すること。
【解決手段】５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン等の非さらし粉系抗菌剤又は非さらし粉系抗菌剤とテトラキスフェノ−ル類等の多分子系ホスト化合物とからなる包接化合物と、硫酸カルシウム０．５水和物を含有する基材とを加圧成形して非さらし粉系ヌメリ防除剤を作製する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤及び、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤と化１の化学式（Ｉ）で表されるアザアダマンタン型ニトロキシルラジカルを含むことを特徴とする分離膜用洗浄剤。
【化１】


（但し、Ｒ_１およびＲ_２は、水素原子または炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基を示す。）
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【課題】ＨＣＦＣの代替化合物を用いた処理液のアルコール濃度を一定に維持でき、水が付着した物品の水切り乾燥を安定して実施できる水切り乾燥方法、および水切り乾燥システムの提供を目的とする。
【解決手段】水が付着した物品と、特定の含フッ素エーテルを主成分とし、アルコール類を含む処理液４１とを接触させて物品から水を分離し、該物品を乾燥させる水切り乾燥工程と、処理液４１をエーテル層（ａ１）と水層（ｂ１）に二層分離する工程と、エーテル層（ａ１）に、前記アルコール類を含むアルコール濃度４０〜６０質量％のアルコール水溶液（ｃ）を接触させて、アルコール濃度を調整したエーテル層（ａ２）を得る工程と、前記エーテル層（ａ２）を処理液４１として供給する工程と、を有する水切り乾燥方法。また、該水切り乾燥方法を実施できる水切り乾燥システム。 （もっと読む）

【課題】種々の汚れ、特に金属加工油の種類に関わりなく、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを効果的に分離除去し、洗浄液中の汚れ濃度を洗浄液の洗浄力が低下する濃度レベル以下に抑えること。
【解決手段】２０℃における蒸気圧が１．３３×１０³Ｐａ未満の成分を含有する溶剤（ａ）と、２０℃における蒸気圧が１．３３×１０³Ｐａ以上の成分を含有する溶剤（ｂ）とを、質量比（ａ）／（ｂ）＝２９／７１〜９０／１０で含む洗浄液を用いて、被洗物の汚れを洗浄した後に、該汚れを含んだ洗浄液の溶剤（ａ）と溶剤（ｂ）の質量比を（ａ）／（ｂ）＝１０／９０〜２９／７１にすることで、汚れを含んだ洗浄液から、汚れを分離除去する方法。 （もっと読む）

【課題】あらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹敵するような洗浄力を示すと共に低毒性で、引火性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄性に優れる高沸点溶剤を含有する洗浄剤を用いて、被洗浄物表面における汚れの再付着による洗浄性の低下を防止し、かつ、揮発性に優れるＨＦＣやＨＦＥによるリンス工程がなく省スペースを可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】蒸発速度の異なる２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物（ａ）と２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ未満の成分（ｂ）とを一定の組成比で併用し、かつ、洗浄時の洗浄条件として、「洗浄槽温度」と「洗浄槽温度と蒸気ゾーン温度との温度差」とを規定することで、洗浄剤を加熱して得られる凝縮液によるリンス工程のない洗浄方法で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】洗浄性、すすぎ性に優れた、物品の洗浄すすぎ方法を提供する。
【解決手段】汚染物質が付着した物品を、芳香族炭化水素を含有する炭化水素系溶剤に接触させる洗浄工程と、含フッ素エーテルに接触させるすすぎ工程を有する物品の洗浄すすぎ方法であって、含フッ素エーテルが式１で表される化合物であることを特徴とする物品の洗浄すすぎ方法。
Ｒ^１−Ｏ−Ｒ^２ ・・・式１
ただし、Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立に含フッ素アルキル基を示す。Ｒ^１およびＲ^２に含まれるフッ素原子の数はそれぞれ１以上であり、かつＲ^１およびＲ^２に含まれる炭素原子の数の合計は４〜８である。 （もっと読む）