１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸と、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−５ジホスホン酸１モルあたり０．５〜１０モルのエチレンジアミンジコハク酸又はその塩との付加物であって、固体の形態である付加物。
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化学機械研磨（ＣＭＰ）後残渣および汚染物質をその上に有するマイクロエレクトロニクスデバイスから前記残渣および汚染物質を洗浄するための洗浄組成物および方法。この洗浄組成物は、新規な腐食防止剤を含む。この組成物は、ｌｏｗ−ｋ誘電体材料または銅配線材料を損傷することなく、マイクロエレクトロニクスデバイス表面からＣＭＰ後残渣および汚染物質を非常に有効に洗浄する。 （もっと読む）

【課題】レジスト、エッチング残渣、平坦化残渣、及び金属酸化物の一種以上をアルミニウム又はアルミニウム銅合金を含む基板から除去するための組成物及び方法を提供すること。
【解決手段】レジスト、エッチング残渣、平坦化残渣、及び金属酸化物の一種以上をアルミニウム又はアルミニウム銅合金を含む基板から除去するための組成物であって、約0.005重量％から約５重量％までのフッ化物を与える成分、約１重量％から約50重量％までのグリコール溶媒、リン含有酸、及び水を含む組成物；該組成物と基板を接触させることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】公知の物質と予定された用途にまた知られていない物質とを組み合わせて少なくとも一貫して効果的な洗浄作用をもたらし、金属製配管の内壁を攻撃せず、環境との高度の適合性を有し、例えばＨＣｌを含有する洗浄剤と同様に生じうる蒸気からの如何なる健康リスクも有さず、かつ製造が簡単かつ廉価であるが、但し、規定された成分の割合が遵守される水溶液中の幾つかの成分からなる混合物を考え出す。
【解決手段】飲料水配管から固形沈積物を除去するための少なくとも４種の成分と水との混合物からなる洗浄剤において、１〜１４質量％のスルファミン酸と、５〜１０質量％のメタンスルホン酸と、０．０７５〜０．１５質量％のホスホノブタン−トリカルボン酸と、０．３質量％の２−プロパノールと、１００％までの軟水とを含有することを特徴とする、少なくとも４種の成分と水との混合物からなる洗浄剤によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 半導体基板、層間絶縁膜などの半導体部品や、記録媒体部品および光学用部品などの化学的機械研磨（ＣＭＰ）に適し、被研磨物の表面を平坦にし、かつ研磨速度を高くできる研磨用組成物および研磨方法を提供すること。
【解決手段】 少なくとも研磨材、ならびに
（ａ）カルボン酸（塩）基を有する（共）重合体、
（ｂ）スルホン酸（塩）基を有する（共）重合体、および
（ｃ）ホスホン酸（塩）基を有する（共）重合体、のうち、少なくとも２種の（共）重合体を含有する半導体部品用洗浄剤からなる研磨助剤
を含有する研磨用組成物。 （もっと読む）

【課題】チタン基材の表面に形成された酸化スケールの溶解反応を促進し、酸化スケールを効率よく除去できる酸洗液を提供する。
【解決手段】チタンまたはチタン合金の酸洗用の硝酸およびフッ化水素酸含有水溶液であって、親水基とフルオロ化不飽和脂肪族炭化水素基とが結合した化合物が更に添加されている。前記フルオロ化不飽和脂肪族炭化水素基は、分岐鎖状であり、例えば、二重結合の両側に側鎖としての炭化水素基を有している。前記フルオロ化不飽和脂肪族炭化水素基は、パーフルオロ不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。 （もっと読む）

本発明は、硬質表面を洗浄する方法に関し、方法は、液体状の硬質表面洗浄剤組成物を硬質表面上にスプレーの形態で適用する工程を含み、組成物は疎水変性された非イオン性ポリオールを含む。硬質表面上に粘着性の泡を提供するために、液体状の硬質表面洗浄剤組成物中での疎水変性された非イオン性ポリオールの使用も請求される。 （もっと読む）

本発明は、トイレにおけるＮ−アルキルチオリン酸トリアミドの使用を記載する。 （もっと読む）

【課題】殺菌作用及び洗浄力が強い一方で安全性が高い洗浄剤を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄剤は、負電荷酸素原子（Ｏ−）及び酸性キレート剤を含有する。酸性キレート剤は、例えば、酸性メタリン酸及びフィチン酸の少なくとも１種を含む。洗浄剤は、飲料用ディスペンサーの管路の洗浄に利用されうる。 （もっと読む）

【課題】高い洗浄力を有し、スケールの付着を効果的に抑制し得る自動洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）〜（Ｄ）成分を配合し、（Ａ）成分３〜５０質量％、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分との合計５〜４５質量％、（Ｄ）成分０．５〜１０質量である自動洗浄機用洗浄剤組成物。
（Ａ）水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び珪酸塩から選ばれる１種又は２種以上
（Ｂ）一般式（１）で表される化合物


（式中、Ｍ¹〜Ｍ³は水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルキルアンモニウムを示し、Ｒは炭素数１〜１８のアルキル基又はアルケニル基を示す。）
（Ｃ）一般式（２）で表される化合物


（式中、Ｍ⁴〜Ｍ⁷は水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルキルアンモニウムを示す。）
（Ｄ）カルボキシル基含有ポリマー （もっと読む）