【課題】 シリコン基板およびガラス基板をエッチングせずに、アルミナ粒子、シリカ粒子又は窒化ケイ素粒子からなる粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄液を開発する。
【解決手段】 １分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる、半導体基板浄液組成物。
スルホン酸基を有する高分子化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる半導体基板浄液組成物で半導体基板を洗浄する第一の工程と、第一の工程に引き続いて、純水あるいはオゾンガスを溶解したオゾン水または過酸化水素水にて、当該半導体基板を洗浄する第二の工程とからなる、半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 油脂、脂肪、タンパク質等の洗浄力に優れ、医療用器具類の洗浄に好適に用いられる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 水に溶解した際に過酸化水素を生成する過酸化物８９．９〜６０重量％、重炭酸塩１０〜３０重量％及びキレート剤０．０１〜１０重量％を含有し、水に溶解した際に細孔径０．５μｍメンブレンフィルター不通過の不溶解分が０．５％以下である洗浄剤組成物、並びに該洗浄剤組成物の水溶液を用いた医療用器具の洗浄方法。 （もっと読む）

本発明は、下記一般式（１）


（式中のＹ^１及びＹ^２は低級アルキレン基を示し、ｎは０〜４の整数を示し、Ｒ^１〜Ｒ^４とｎ個のＲ^５の内少なくとも４個はホスホン酸基を有するアルキル基を示すとともに残りはアルキル基を示す。）で示されるキレート剤又はその塩、アルカリ化合物及び純水の各成分を含有し且つｐＨが８〜１３である、金属配線が施されていてもよい半導体基板用洗浄液及びこれを用いた洗浄方法に関するものであり、アルカリ性の研磨剤やアルカリ性エッチング液を用いる工程の後に用いても、基板表面上のパーティクルがゲル化して除去し難くなったり、半導体基板表面に面荒れが発生し易くなる等の問題を生じさせることなく、半導体基板表面上の微細粒子（パーティクル）や各種金属由来の不純物を効率よく除去し得る洗浄液及びそれを用いた半導体基板の洗浄方法を提供する。
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後端フォトレジストストリッパーおよび残渣組成物が、銅およびアルミニウムに対して本質的に非腐食性であり、かつ極性有機溶媒、ヒドロキシル化アミンおよび腐食阻害剤としてフルクトースを含む非水性組成物により提供される。 （もっと読む）

安定化高粘度過酸化水素含有組成物を開示する。該組成物は、スズ酸塩安定剤、リン含有安定剤またはリン含有安定剤の混合物および芳香族キレート剤または芳香族キレート剤の混合物で作製された安定剤系を含む。該組成物は、消毒剤、洗浄剤ならびにヘアケアおよび歯のホワイトニング等の様々なパーソナルケアへの利用の用途に適する。 （もっと読む）

【課題】 肌への感触が優しく、使用感も良好なシート状身体洗浄材を提供する。
【解決手段】 界面活性剤を含有し、水で２０倍に希釈した液のｐＨが３〜６．５である水性洗浄液を、極細合成繊維とセルロース系繊維との混合繊維からなる不織布に含浸させたシート状身体洗浄材。 （もっと読む）

本発明は、リン酸を含有する希釈水溶液及びそのような希釈水溶液を含む、半導体基板からプラズマエッチ残留物を除去する方法に関する。本発明による溶液は、アルカリ化合物、１又はそれ以上の他の酸化合物、及び／又はフルオリド含有化合物を好ましくは含有し、場合により追加の成分、たとえば有機溶媒、キレート剤、アミン、及び／又は界面活性剤を含有する。 （もっと読む）

本発明は、洗浄剤組成物で充填された水溶性小袋から成り、該洗浄剤組成物が、ａ）１０〜４０重量％の金属イオン封鎖剤、ｂ）１５〜５０重量％の過酸塩又は過酸、ｃ）０．１〜１０重量％の、リン酸塩及びカルボキシル官能性ポリマーから選択されるスケール防止剤、ｄ）該組成物が水に溶解するとｐＨを少なくとも１０にする十分量のアルカリ性化合物、及びｅ）任意で、成分ａ）〜成分ｅ）の合計を１００重量％にする少なくとも１つの助剤を含み、成分ａ）〜成分ｅ）の合計の３０〜１００重量％が、平均粒径２５０〜８００μｍ、１００ｍ^２／ｇ未満のＢＥＴ比表面積、及び９０℃の水１００ｍｌ中における１分未満の溶解速度を有する顆粒形態をとる、コーヒーメーカーを洗浄する単位量の洗浄剤に関し、また、本発明は、上記単位量の洗浄剤を溶解することによってコーヒーメーカーを洗浄する方法に関する。 （もっと読む）

本発明の目的は、漂白活性剤と漂白感受性染料との適合性を実質的に改善することにある。本目的のために、本発明は、ｇ)少なくとも１つの漂白活性剤を、結合剤と共に粒状化する工程と、ｈ)工程ａ)からの粒状材料を少なくとも１つの錯化剤の溶液または分散体で被覆する工程と、ｉ)該被覆粒状材料を乾燥する工程を含む、被覆漂白活性剤の製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】不飽和ジカルボン酸およびエチレン尿素を含む半導体用洗浄液組成物および洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明は、半導体ウェハ加工工程において、残さ物を洗浄するための組成物であって、不飽和ジカルボン酸とエチレン尿素を必須成分として含有する。不飽和ジカルボン酸の中では、特にマレイン酸が好ましい。好ましい当該組成物は、不飽和ジカルボン酸、エチレン尿素、不飽和ジカルボン酸を除く少なくとも１種の他の有機カルボン酸、エチレン尿素を除く少なくとも１種の他の塩基性化合物、および水を含有する。また、この好ましい当該組成物に随意成分として、有機溶媒、キレート剤、および界面活性剤並びにホスホン酸及び／またはホスフィン酸からなる群から選択される少なくとも１種を加えてもよい。 （もっと読む）