様々な表面上の汚物を防除するための洗浄剤組成物は、析出防止製剤、苛性物及び界面活性製剤を含む。該析出防止製剤は、スルホネート／アクリレートコポリマー、アクリレートホモポリマー及びホスホノアルカンカルボン酸を含み、約２：１〜約１：２のスルホネート／アクリレートコポリマー：アクリレートホモポリマーの質量比を有する。該洗浄剤組成物のｐＨは約１０〜約１３である。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率化を可能とする硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を使用した光学材料用組成物用の洗浄剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄剤であって、ラクタムを有する化合物と酸性化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物の洗浄剤および該洗浄剤で硫黄原子および／またはセレン原子を有する無機化合物を含む光学材料用組成物を洗浄する洗浄方法であり、さらには洗浄後の廃液の安定性が高く、一般的な廃液処理が可能となった。 （もっと読む）

汚れを除去するためのクリーニング組成物は、アルミニウム塩、ヒドロキシカルボキシレート、アルカリ源および任意選択的に、界面活性剤系を含む。このクリーニング組成物は、約９〜約１４のｐＨを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた洗浄性、および耐泡立ち性を呈し、さらにＣＯＤの少ないＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いたＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＮｉ−Ｐ含有層を有するＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、重量平均分子量が１,０００〜１０,０００であるポリアクリル酸アルカリ金属塩（成分(a)）と、ｐ−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩（成分(b)）と、水溶性アミン化合物（成分(c)）と、キレート剤（成分(d)）と、水（成分(e)）とを含有し、実質的に非イオン性界面活性剤は含まず、成分(a)、成分(b)、成分(c)、および成分(d)の総量中、成分(a)を５〜３５重量％、成分(b)を１５〜５０重量％、成分(c)を１５〜５０重量％、成分(d)を５〜２５重量％含有し、かつ成分(c)と成分(d)の重量比｛成分(c)/成分(d)｝が０．８〜５である。 （もっと読む）

アミン官能基を含む酸性キレート剤の塩であって、該塩がキレート剤がもたらす酸性プロトン１モル当たり少なくとも０．２５モルのアルカリ土類金属を含み、酸性キレート剤がエチレンジアミン二コハク酸ではない塩。 （もっと読む）

【課題】製鉄所の操業を停止することなく、その操業中に循環冷却水系内に設置された濾過器及び／又は冷却塔のマンガン汚れ又はマンガン析出物を溶解除去することができる循環冷却水系用洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】鉄鋼製造工程における循環冷却水系に設置された濾過器及び／又は冷却塔のマンガン汚れ又はマンガン析出物を溶解する洗浄剤であって、ホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる鉄鋼製造工程における循環冷却水系用洗浄剤。濾過器及び／又は冷却塔にホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる洗浄剤を接触させて、マンガンによる汚れ又はマンガン析出物を溶解する鉄鋼製造工程における循環冷却水系の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】コロイダルシリカを研磨材として用いたとしても洗浄性に優れ、砥粒や研磨カスを十分に除去できる電子デバイス基板用洗浄剤組成物、および電子デバイス基板の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：アルカリ金属の水酸化物を０．０１〜５．００質量％、（Ｂ）成分：ヒドロキシカルボン酸および／またはその塩を０．１０〜１０．００質量％含有し、界面活性剤の含有量が１．００質量％未満であることを特徴する電子デバイス基板用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

例えば、消毒剤および／または漂白用途での使用に好適なペルオキシカルボン酸の水性調合物を酵素的に生成するための多成分ペルオキシカルボン酸発生システムが本明細書に開示される。多成分ペルオキシカルボン酸発生システムは、過加水分解活性を有する少なくとも１つの炭水化物エステラーゼ族７酵素を含む。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明の一実施形態によると、腐食防止剤と、可溶化剤と、脱酸素剤と、ｐＨ調整剤としても機能する錯化剤とを含む洗浄溶液が提供されている。本発明の別の実施形態では、ｐＨ調整剤と、随意的な錯化剤と、腐食防止剤とを含む洗浄溶液が提供されている。洗浄溶液は、可溶化剤を随意的に有してもよく、界面活性剤を随意的に有してもよく、誘電体エッチャントを随意的に有してもよい。 （もっと読む）

この発明は、イオン性液体を含むチューイングガム改変組成物を用いて基材からチューイングガムおよびその残滓を除去するための方法に関する。一実施形態において、チューイングガム改変組成物は、１種または複数の酸化試薬と共に用いられ得る。別の実施形態において、チューイングガム除去組成物は、１種または複数の酵素および１種または複数の酵素メディエータ化合物をさらに含む。本発明は、さらに、チューイングガム残滓の除去における使用に好適である新規なイオン性液体および酵素組成物に関する。 （もっと読む）