国際特許分類[C23C14/10]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般 (47,648) | 金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般 (43,865) | 被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆 (14,491) | 被覆材料に特徴のあるもの (5,176) | ガラスまたはシリカ (136)
国際特許分類[C23C14/10]に分類される特許
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多層膜を製造する方法および前記方法を実施するための装置
本発明は、多層膜を製造する方法および前記方法を実施するための装置に関する。
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光学部材及びその製造方法
【課題】 耐擦傷性及び撥水性の耐久性により優れた光学部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 プラスチック基材と、このプラスチック基材上に真空蒸着法で形成された多層反射防止膜と、この多層反射防止膜上に形成された撥水層とを有する光学部材であって、前記多層反射防止膜の最外層が、二酸化ケイ素を含有する無機物質と、有機ケイ素化合物及び/又はケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として真空蒸着法で形成され、かつ酸素及び/又はアルゴンイオンが照射されてなるハイブリッド層であり、前記撥水層が、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料が電子銃による加熱処理で、前記最外層に蒸着されてなる層である光学部材である。
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金属表面を被覆する方法および被覆された金属表面を有する基板
本発明の目的は金属表面およびガラス質被覆を有する基板を提供することにある。この目的のため、本発明は被覆された基板、あるいは被覆された基板を備えた製品を製造する方法に関し、前記基板はガラスで被覆された少なくとも1つの金属表面を有する。この基板は少なくともその金属表面上が蒸着ガラスで被覆されている。 (もっと読む)
可視光吸収性多層抗反射コーティングで被覆された光学体とその製造方法
有機、または無機ガラスからなる透明基質を含み、主要前面、および裏面を有し、少なくともひとつの前記主要面が多層抗反射コーティングを有し、前記抗反射コーティングが不足当量酸化チタンを含む少なくとも二つの可視光吸収層を有し、その可視光吸収層において可視光吸収層を含まない同様のもの(光学体)と比較して可視光の相対透過特性Tvが10%以上減少している光学体に関する発明。 (もっと読む)
スパッタリングターゲットとそれを用いたSi酸化膜およびその製造方法、ディスプレイ装置
Siスパッタリングターゲットは、スパッタ面の結晶面方位をX線回折法で測定した際に、Siの(111)面のピーク強度(I(111))と(220)面のピーク強度(I(220))の比率(I(111)/I(220))が1.8±0.3の範囲である。Siスパッタリングターゲットは、例えば相対密度が70%以上95%以下の範囲のSi焼結材を具備する。このようなSiスパッタリングターゲットによれば、Si酸化膜等のスパッタ膜の膜厚特性や成膜コスト等を改善することが可能となる。 (もっと読む)
シリコン系薄膜の形成方法
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