【課題】基板の反りが起こり難く、量産性に優れ、波長に対し平坦な透過率減衰が得られる吸収型多層膜ＮＤフィルターの製造法を提供すること。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等から成る誘電体層14、17とＮｉ系合金から成る金属膜層15、18とを交互に積層させた吸収型多層膜13、16がフィルム基板12に設けられた吸収型多層膜ＮＤフィルターの製造法であって、基板を中心にして互いに対称な膜構造となるように上記吸収型多層膜をそれぞれ形成して、基板の反りの曲率半径が５００ｍｍ以上になるように調整すると共に、Ａｌ、Ｖ、Ｗ、Ｔａ、Ｓｉから選択された元素が所定範囲で添加されたＮｉ系材料ターゲットを用いて、マグネトロンスパッタリング法により上記金属膜層を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、加工時や使用時に生じる熱による寸法変化が起こりにくく、且つ変質しにくく、したがって、長期にわたり高く安定したガスバリア性を保持することができる透明ガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させることを特徴とする透明ガスバリア性フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】透明な樹脂基板の耐摩耗性を改善する積層膜、又は混合硬質膜を形成する技術を提供する。
【解決手段】図１の符号１は、窓ガラス代替物を形成する混合硬質膜を形成する混合硬質膜形成装置であって、蒸着室１２内に、ＴｉＯから成る第一蒸着源２１とＳｉＯ₂から成る第二蒸着源２２が成膜対象物の移動方向の真下に離間して並べて配置されている。この混合硬質膜形成装置１を用いて、蒸着室１２内に酸素ガスを導入し、ＴｉＯから成る第一蒸着源２１とＳｉＯ₂から成る第二蒸着源２２を加熱して蒸発させながら、ＳｉＯ₂よりＴｉＯ₂が多い位置から、ＴｉＯ₂が徐々に少なくなり、ＳｉＯ₂が増加する位置までの領域を形成し、その領域内で透明な樹脂基板を通過させて混合硬質膜を形成させる。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの収率及び生産性を向上させること。
【解決手段】蒸着材料温度測定手段２２は、蒸着材料移動台１８１の内部に埋設され下部が蒸着材料移動台１８１の下面から露出している複数の金属ビン２２１と、複数の金属ピン２２１の下部に接触するように配置され複数の金属ピン２２１の温度を測定することにより蒸着材料１７の温度を測定する複数の熱電対２２２を具備する。蒸着材料温度測定手段２２は、蒸着材料１７の予備加熱直前における前記蒸着材料の下面の温度を測定し蒸着材料１７への加熱温度分布を測定する。加熱蒸着制御手段２３は、前記加熱温度分布における最大温度と最小温度の差が平均温度から１０％以内で電子ビームによる加熱蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】加熱方式による真空蒸着法を用いて無機酸化物を蒸発させる際に発生するスプラッシュによる外観不良および表面欠陥を抑制し、かつ高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】減圧下で、無機酸化物からなる蒸着材料６を蒸発させ、高分子フィルム基材の少なくとも一面に無機酸化物膜を形成するガスバリアフィルムの製造方法において、前記蒸着材料６の主たる蒸発方向と直交するように前記高分子フィルム基材の蒸着すべき面を配置し、蒸着材料６と高分子フィルム基材との間に、複数の耐熱性平板５を蒸発方向と平行に配置し、蒸着時は、蒸発した無機酸化物粒子が前記耐熱性平板５間を通過して前記高分子フィルム基材に到達することを特徴とするガスバリアフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ゴミ等が不着しにくくて高いバリア性を有する水蒸気バリアフィルムを提供すること。
【解決手段】 ポリアルキレンナフタレート樹脂基材フィルム上に少なくとも一層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、該ポリアルキレンナフタレート樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）が７０〜１５０℃であり、かつ該水蒸気バリアフィルムが、抵抗が１０¹²Ω（２５℃・相対湿度６０％）以下である導電性層を少なくとも一層有する。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ合金等の長時間切削、重切削等の切削工具として好適な、潤滑性に優れる耐摩耗性工具部材を提供する。
【解決手段】工具基体上に、工具基体表面側から順に、ＴｉＮ硬質膜、Ｓｉ含有ダイヤモンドライクカーボン膜およびＳｉＯ_２膜を形成した耐摩耗性工具部材において、Ｓｉ含有ダイヤモンドライクカーボン膜におけるＳｉ含有割合は、５〜３０原子％であって、望ましくは、Ｓｉ含有ダイヤモンドライクカーボン膜が、ＴｉＮ硬質膜との界面部分では５〜１５原子％、ＳｉＯ_２膜との界面部分では２０〜３０原子％のＳｉを含有し、さらに、該Ｓｉ含有ダイヤモンドライクカーボン膜中におけるＳｉ含有割合は、ＴｉＮ硬質膜側からＳｉＯ_２膜側へ向かうにしたがって次第に増加する傾斜組成を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は基材の両面に加工を行う場合に、電子ペーパーや有機ＥＬなどのＦＰＤ向けとして好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層１−１の両面上に、一方の面上にアンカーコート層２−１とガスバリア層３−１を順次積層し、もう一方の面上にアンカーコート層２−２とガスバリア層３−２を順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカーコート層を、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を前記基材層上に成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させて形成することを特徴とするガスバリア性積層フィルムの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】近赤外線から遠赤外線までの広帯域における赤外線遮断機能を有し、且つ、所望の選択波長の赤外線を選択的に透過させることが可能な低コストの赤外線光学フィルタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ基板からなる基板１の一表面側に形成された各フィルタ部２１，２２は、屈折率が異なり且つ光学膜厚が等しい複数種類の薄膜２１ａ，２１ｂが積層された第１のλ／４多層膜２１と、上記複数種類の薄膜２１ａ，２１ｂが積層された第２のλ／４多層膜２２と、第１のλ／４多層膜２１と第２のλ／４多層膜２２との間に介在し上記選択波長に応じて光学膜厚を各薄膜２１ａ，２１ｂの光学膜厚とは異ならせた波長選択層２３_１，２３_２とを備え、薄膜２１ｂが第１のλ／４多層膜２１および第２のλ／４多層膜２２により設定される赤外線の反射帯域よりも長波長域の遠赤外線を吸収する遠赤外線吸収材料により形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣターゲットを用いたデユアルカソードマグネトロンスパッタリング装置により透過率が制御されたＳｉＣｙＯｘ膜から成る酸化物誘電体膜の製造法を提供する。
【解決手段】上記スパッタリング装置には、成膜されるＳｉＣｙＯｘ膜の目標透過率に対応した酸素ガス流量のＰＩＤ制御を行う調節計14と、成膜直後におけるＳｉＣｙＯｘ膜の透過光量を測定してＳｉＣｙＯｘ膜の透過率を算出する透過率モニター手段100が設けられ、透過率モニター手段で測定された透過率のデータを調節計に入力して、連続して成膜されるＳｉＣｙＯｘ膜の透過率が目標透過率と等しくなるように酸素ガス流量のＰＩＤ制御を行うことを特徴とする。 （もっと読む）