【課題】ヒータから放射される赤外線の反射率を向上させ、被加熱物への効率的な加熱を可能にするヒータ用反射板を提供することを目的とする。
【解決手段】ランプヒータ９から放射される赤外線を反射する反射板１１において、赤外線を反射する反射面１９ａが、銀及び銀合金の少なくとも一方からなる。銀または銀合金の赤外線の反射率は、ステンレスは勿論、金よりも高い。銀及び銀合金の少なくとも一方からなる反射面１９ａとすることで、赤外線反射率の高い反射板１１を実現でき、被加熱物を効率よく加熱できる。 （もっと読む）

【課題】蒸着源からの蒸気を遮ることなく、試料のほぼ外周全域にわたって存在させながら、試料の外周表面の全面に蒸着膜を形成することができる蒸着装置とこの蒸着装置を用いた蒸着方法を提供すること。
【解決手段】中心軸を水平方向に向けたコイルバネ状の形状を有するホルダー２と、試料１をホルダーの内側に保持した状態においてホルダーをその中心軸の周りに回転させる回転手段とを備え、回転手段によってホルダーをその中心軸周りに回転させることにより、試料をホルダーに対して回転させ、蒸着源に対する試料の向きと姿勢を変更し、向きと姿勢を変更させながら試料の外周表面全面に前記蒸着源からの蒸気による蒸着膜を形成させる。 （もっと読む）

【課題】基板マスク固定手段含めアライメント周りの機構を簡単化、あるいは簡素化することで保守性を向上できる、または、マスクの変形を回避し、高精度に蒸着できる成膜装置及び成膜方法、あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い成膜装置を提供する。
【解決手段】基板６を基板ホルダー９１に載置し、前記基板とシャドウマスク８１とをアライメントし、前記基板とシャドウマスクとを、前記基板ホルダーとは独立して設けられた磁石によって吸着固定させて、真空チャンバ内で蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記吸着固定を基板とシャドウマスクを立てた状態で行なう、あるいは、前記磁石は電磁石であり、前記電磁石を保持する基板マスク吸着体と、前記マスク吸着体を収納する収納ケースを有する。 （もっと読む）

【課題】成膜処理のタクト時間を長くすることなく、加熱工程での消費電力を低減する。
【解決手段】インライン成膜処理装置において、生産停止中に成膜処理室に設けたシースヒータを用いて全カートを高温に保持することによって、生産開始に移行した際のランプヒータを用いて行う加熱工程での消費電力を低減する。消費電力が少ないシースヒータによって全カートを高温に保持することによって、消費電力が大きなランプヒータによる加熱を低減し、加熱室での加熱工程による消費電力を低減する。全カートが高温に保持されているため、加熱室における加熱工程で行う昇温幅を従来よりも小さくすることができ、これによってタクト時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置用マスク密着手段及びそれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明は、磁性体を含むマスク密着手段を用いて基板とマスク組立体とを密着させて蒸着精度を向上させる場合、前記マスク密着手段の磁力によってマスク組立体のスリットが変形することを防止できる蒸着装置用マスク密着手段及びそれを用いた蒸着装置に関する。 （もっと読む）

【課題】様々な形状のレンズを保持することができ、かつ、作業性を向上することができる光学部品の保持具を提供する
【解決手段】ホルダに形成された保持孔に取り付けられる枠体３１と、この枠体３１の内周側に配置される中子リング３２と、この中子リング３２に固定され、レンズ２の外周縁部が載置される網部３３とを備えて保持具３を構成する。網部３３は、中心部がレンズ２と離れる方向に向かって湾曲している構成を有する。保持具３は網部３３の上にレンズ２を載置する構成であるので、レンズ２の形状が枠体３１の内周面の形状と対応しない場合であってレンズ２を保持することができる。また、レンズ２が網部３３の上に載置された構成であるので、レンズ２の取付及び取出作業が容易である。 （もっと読む）

【課題】キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行う際に処理ムラが生じることを防止したインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリアは、基板を内側に配置する孔部２９が設けられたホルダ２７と、ホルダ２７の孔部２９の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の支持部材３０とを備え、複数の支持部材３０に基板の外周部を当接させながら、これら支持部材３０の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能であり、キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバ内において、ホルダ２７が接地されると共に、複数の支持部材３０の内側には、外径が１００ｍｍ以下である円盤状の基板が嵌め込まれ、なお且つ、この基板とホルダ２７の孔部２９との間に形成される隙間Ｓが、半径方向に少なくとも１１ｍｍ以上ある。 （もっと読む）

【課題】スペースを有効利用し、品質低下を防止し、生産効率を向上させることのできる外段取り装置を提供する。
【解決手段】被成膜対象の基材５が装着されるとともに、成膜装置内に配置される基材ホルダ４を保持する保持部材２０と、この保持部材２０が取り付けられる移動可能フレーム１０と、この移動可能フレーム１０に取り付けられるとともに、基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段３０とを備えたことを特徴とする外段取り装置１。 （もっと読む）

【課題】高い精度で保持爪の位置を調整することができる保持爪位置の測定方法および測定具を提供する。
【解決手段】中心軸Ｃ２回りに測定具７１が回転すると、第１保持爪３１の先端や第２保持爪３２の先端は第１縁８１や第２縁８３に近づいていく。第１保持爪３１の先端が第１縁８１に接触すると、接触位置で目盛り８２が読まれる。目盛り８２は、中心軸Ｃ２回りの角位置に中心軸Ｃ２から第１縁８１までの距離を関連付けることから、第１保持爪３１および第１縁８１の接触位置の目盛り８２で第１保持爪３１の先端の位置が特定される。第２保持爪３２の位置は第１保持爪３１と同様に特定される。こうして第１および第２保持爪３１、３２の先端の位置は目盛り８２、８４に基づき測定されることから、作業者の相違によるばらつきは確実に回避される。第１および第２保持爪３１、３２の先端の位置は高い精度で調整される。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、処理中に半導体基板を支持するか、位置決めするか、または回転させる装置および方法を提供する。本発明の一実施形態は、サセプタの基板受取り表面上に基板を位置決めすることと、１つまたは複数の回転ポートから流体の流れを送達することによってサセプタおよび基板を回転させることとを含む基板処理方法を提供する。
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