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国際特許分類[C23C14/50]の内容

国際特許分類[C23C14/50]に分類される特許

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【課題】何らかの処理を行う処理装置のチャンバ内部で、機械的な駆動機構を用いることなく物体を回転させることができる新規なチャンバ内基体回転装置と方法を提供すること。
【解決手段】内部が所定の処理雰囲気に保持されるチャンバ4と、チャンバ4内部に回転自在に配置されるサセプタ8と、チャンバ4の外部に配置され、サセプタ8に対して高周波の電磁場を作用させて、サセプタ8を回転させるモーメントを発生させる高周波コイル20と、を有する。サセプタ8は、基体本体16と、その表面を覆う被膜18とを有する。 (もっと読む)


【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置2は、基板Gを垂直姿勢で保持して、搬送レール6上を搬送可能なキャリア部材4を備えており、キャリア部材4に取付けられたキャリア側ガイドマグネット15,16,17,18が、搬送レール側6に取付けられたレール側ガイドマグネット21,22,23,24から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材4は左右の搬送レール6側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット21,23を、搬送空間Tとプロセス空間Pとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 (もっと読む)


【課題】光学素子の両面へ同時に膜厚分布の均一性に優れた薄膜を形成する。
【解決手段】対向する一対のターゲット間の成膜空間に、光学素子12を保持する保持手段4が配置される。保持手段4は、光学素子12を保持するパレット11と、パレット11を保持するキャリア5と、キャリア5の外周部5aのみを保持して回転駆動力を伝達するベース6と、を有する。駆動ギア8によってキャリア5を回転させて各パレット11を公転させると同時に、各パレット11の外周部11aをベース6の内周部6aに接触させることによって、パレット11を自転させる。このようにしてパレット11を自公転させながら、光学素子12の両面に同時にスパッタリング成膜を行なう。 (もっと読む)


【課題】高品質のリチウム金属薄膜および無機固体電解質薄膜を製造することのできる方法を提供する。
【解決手段】リチウム金属薄膜または無機固体電解質薄膜積を製造する方法が提供され、該方法は、薄膜製造工程においてアルカリ金属または無機固体電解質もしくはその原料と接触する雰囲気の露点を−40℃以下とすることを特徴とする。露点が−40℃以下の環境において、薄膜作製のための原料や基材あるいは製造した薄膜を取り扱えば、リチウム金属や硫化物系の無機固体電解質の劣化を効果的に防止できる。 (もっと読む)


【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における成膜速度を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット101の表面に対向するように配置され、基板100を設置する基板ホルダ6と、基板100上の成膜環境を測定可能なセンサ部8とを備え、対象物ホルダ6は、ターゲット101に対して移動可能に構成されるとともに、基板ホルダ6の移動量及び移動方向と、センサ部8の移動量及び移動方向とが同一に設定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】チャンバ内の真空状態を保ったまま連続的にワークの表裏に蒸着を施すことができる真空蒸着装置を提案するものである。
【解決手段】真空蒸着装置のチャンバ内に配置されたドームの傾斜面に形成された複数のワーク装着部18にワーク装着ユニット20が装着される。ワーク装着ユニット20は、ガラス板21が固定されたワークホルダ22を一対の回転軸によって回転自在に支持したホルダ支持枠25と、ホルダ支持枠25の回転を係止する係止部材60を備えたボールガイド枠50とから構成される。ボールガイド枠50には鋼球58が載置され、リブ56によって載置された位置に保持される。ドームの回転速度を速くすると、遠心力によって鋼球58がリブ56を乗り越え、係止部材60のボール衝突部62に衝突すると、係止爪63がワークホルダ22の係止位置から移動してワークホルダ22が反転する。 (もっと読む)


【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具14と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 (もっと読む)


【課題】真空処理遊星システム工作物キャリヤを発展させる。
【解決手段】真空処理遊星システム工作物キャリヤは、駆動装置1と連結可能で太陽システム軸7の周りを回転可能な、太陽車9を有する太陽システム9,9′と、その周りを回転するよう回転可能に連結され、遊星軸11の周りを回転可能な遊星システム17,17′とを含み、前記遊星システム17,17′は、駆動連結部15,13を有する。前記キャリヤはさらに、太陽システム7,9,9′への駆動接続を有し、少なくとも一つの月システム29,31を含むキャリヤであって、前記月システムは、前記月軸19に沿って重なって互い違いに配置される少なくとも2つの月車29を有し、前記月車29の各々は少なくとも1つの工作物のための受容部を有し、前記太陽システムへの前記月システムの駆動接続は、少なくとも操作中は中断されることなく成立する。 (もっと読む)


【課題】熱の伝達効率が悪いテンションマスクを効率的に冷却し、高精細なパターン形成を可能にする。
【解決手段】マスク箔を用いるテンションマスクであるマスク5を介して基板4に成膜材料を付着させることによりパターン形成を行う蒸着方法において、蒸着後のマスクを冷却することなく再使用可能であるか否かを判定する工程を設ける。再使用可能である限り複数枚の基板に対して同じマスクを繰り返し使用し、再使用不可と判定した場合は、冷却ユニット14を有するマスクストック室2に搬送し、冷却した後に蒸着室1に戻して再使用する。 (もっと読む)


【課題】スパッタ装置において、スパッタ堆積膜(スパッタ膜)の剥がれを防止する防着板を改良し、スパッタ膜の剥がれ起因のパーティクルを低減する。
【解決手段】基板101周部に、ターゲット104に対向するように防着板107を設置し、この防着板107の表面に、複数の凹面105a,105b,108,110を形成すると共に各凹面105a,105b,108,110のつなぎ目に溝106a〜106cを形成し、スパッタ膜を各凹面105a,105b,108,110と各溝106a〜106cの内部に堆積させ、スパッタ終了後にスパッタ膜が各凹面105a,105b,108,110の内側に囲われ圧縮されるようにすることにより、スパッタ膜の防着板107からの剥がれを防止する。 (もっと読む)


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