【課題】成膜装置用部品に対してパーティクル量を低減したプレコート層を効率よく形成することができる成膜装置用部品の前処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置用部品の前処理方法は、成膜装置用部品を成膜装置に用いるに先立って、該成膜装置用部品に対して、溶射によって金属溶射層を形成する工程、及び、金属溶射層が形成された成膜装置用部品に対し振動を与えた後、エアブローする工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な操作により基板ｓと基板ホルダ１の急速冷却を可能とし、基板処理のスループットの向上を図る。
【解決手段】基板加熱冷却装置は、基板ホルダ１とこれに装着された基板ｓを加熱するヒータ５と、このヒータ５から発射される熱を基板ホルダ１と基板ｓ側に反射する反射鏡６とを有し、前記反射鏡６に基板ｓが配置される真空チャンバ２４の外側で冷却される冷媒を流通させる冷媒通路８を設け、前記基板ｓを装着した基板ホルダ１を移動させ、同基板ホルダ１を弾性部材１１を介して押し上げ、前記反射鏡６に当接し、離間する移動機構を備える。 （もっと読む）

【課題】取り扱いが容易で、複数の面に膜を簡便に形成することが可能な光学部品を提供する。
【解決手段】光学部品１は枠体２を有する。枠体２の内側には、複数の光学機能部５が向きを揃えて互いに所定間隔の距離をおいて配列されている。各光学機能部５の両端部にはそれぞれツバ部６が設けられている。ツバ部６において光学機能部５とは反対側に、連結部７が設けられている。連結部７の一方の端部はツバ部６に接続され、他方の端部は枠体２に接続されている。これにより、連結部７は、ツバ部６と枠体２とを連結する。 （もっと読む）

【課題】特に成膜基板の大きさに対して成膜領域が十分に小さい場合に成膜領域以外に対する成膜材料の消費量が大きく、生産コストが高くなり、生産性を高める必要があった。
【解決手段】成膜領域を有する複数枚の成膜基板を保持する成膜基板ホルダであって、ホルダ基体（１１ａ，１２ａ，１３ａ）と保持部材（１１ｃ、１１ｄ、１２ｃ、１２ｄ、１３ｃ、１３ｄ）を有し、ホルダ基体は、複数枚の成膜基板の成膜領域を露出するための複数個の開口部（１１ｂ、１２ｂ、１３ｂ）が形成され、成膜領域を除く領域をマスクする部材となり、保持部材は、ホルダ基体の一方の面上に設けられ、開口部からホルダ基体の他方の面側に成膜領域が露出し、成膜領域を除く部分において他の成膜基板と重なり領域を有し、かつ他の成膜基板と接しないようにホルダ基体に対して所定の傾きを有するように、複数枚の成膜基板をホルダ基体の一方の面上に保持する構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部と中心部の温度管理・温度制御をそれぞれ独立して精密に行うことが可能であり、かつ配管構成を簡素化した基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を真空処理空間において処理する基板処理装置であって、少なくとも２枚以上の基板を載置する基板載置台を備え、前記基板載置台は載置される基板の数に対応する数の基板載置部から構成され、前記基板載置部には載置された基板の中央部を冷却させる中央温調流路と、基板の周縁部を冷却させる周縁温調流路と、が互いに独立して形成され、前記基板載置台には前記周縁温調流路に温調媒体を導入させる温調媒体導入口が１つ設けられ、前記周縁温調流路から温調媒体を排出させる温調媒体排出口が載置される基板の数に対応する数だけ設けられる、基板処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】微粒子の表面全体に均一厚さのＰＶＤ皮膜を形成することができるようにする。
【解決手段】真空チャンバ１内に蒸着源２及びこれと一定の位置関係に保持された処理容器３を配置して、処理容器３内において微粒子にこれを運動させつつＰＶＤ皮膜を形成するようにした微粒子の皮膜形成方法において、処理容器３を、これが回転盤６の外周部に複数のバケット７を周方向に並列配置してなるものとして、回転盤表面６ａの水平面１２に対する角度αが１°〜７５°となる傾斜状態で回転盤表面６ａに直交する軸線１４回りで一定方向Ｒに回転させることにより、上方へと回行したバケット７から回転盤表面６ａ上に放出された微粒子が当該表面６ａ上を転動しつつ流下して下方に位置するバケット７に流入するようにして、微粒子に、これが回転盤表面６ａ上を転動，流下する間において、PVD皮膜を形成するようにする。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させる機構のコスト低減に寄与する基板回転装置を提供する。
【解決手段】センタ孔を有する基板９を回転させてキャリアに支持された基板９の支持位置を変化させる基板回転装置は、駆動源に連結され、進退動、上下動及び左右動が可能なシャフトと、シャフトの端部側に固定され、センタ孔内側の縁部分を載せて基板９を鉛直姿勢で支持するための、上方に開放された支持溝が形成されたピック３２とを有してなり、ピック３２の回転中心とピック３２との距離は、シャフトの上下動に伴い変化させることでピックの回転前後でキャリアに対する基板の位置の変化を抑え、基板９のワイパー動作を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構造で、被蒸着物の装着位置による膜厚差を低減することができる蒸着治具及びこれを備えた蒸着装置等を提供すること。
【解決手段】可動ホルダ３４が、基板ホルダ３１の外周側において、装着された基板２０を周方向に所定の角度に傾斜させているため、平板では球面から距離が離れやすい外周側であっても基板ホルダ３１内の基板２０に設けられた被蒸着物ＤＳに略均一な膜厚で蒸着することができる。また、可動ホルダ３４によって基板２０を傾斜させる構造であるため、簡単な構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】加熱時にヒーターからの輻射熱を遮ることなく、冷却時に被処理物との間に周辺から流れ込む冷気によって発生する被処理物の端部の温度ムラを低減できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】加熱時に被処理物１１に接することなく被処理物１１の周囲を囲うように可動板１４を配設し、冷却時には可動板１４が回転して被処理物１１の周囲および被処理物１１の周縁部に接することなく囲うように、被処理物１１の面１１ｂとの隙間を形成することで、冷却時における被処理物の端部をガス流れ抵抗を大きくして、ガス流れによる被処理物の端部の温度変化を抑える。 （もっと読む）

【課題】成膜工程において微細な粉末が発生し得る成膜装置において、成膜室内の粉末の付着を抑制する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板保持具２２上に載置された基板２１の表面に対して成膜材料を吹き出すノズルを備えた成膜室１を有し、成膜室内の粉末が付着する部分を選択的に加熱する加熱手段を設け、また基板２１の表面に存在する段差について、基板２１から段差が立ち上がる点を中心とし、段差の高さまでの段差端部と、段差が立ち上がる点から段差の高さとほぼ同じ距離離れるまでの基板２１の表面の範囲を選択的に加熱する加熱手段３０を設けた。 （もっと読む）