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国際特許分類[C23C14/50]の内容

国際特許分類[C23C14/50]に分類される特許

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【課題】同期駆動手段を不要とする簡単な機構で、ラックギヤとピニオンギヤとを円滑に噛み合わせることが可能なラック・アンド・ピニオン機構、及び、これを備えた真空処理装置を提供することにある。
【解決手段】本発明のラック・アンド・ピニオン機構は、被搬送物を搭載して搬送軌道上を移動する載置台に固定されたラックギヤと、駆動源に連結され、ラックギヤに噛合する複数のピニオンギヤと、を備え、ラックギヤを現工程のピニオンギヤから次工程のピニオンギヤへと受け渡して、載置台を搬送するものであって、載置台に固定された前記ラックギヤの歯先が、少なくとも1ヶ所で他の歯先と異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】真空チャンバ内で対象物を直接に温度制御でき、熱効率が高く、かつ小型で簡易的な温度制御装置、およびこの温度制御装置を備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】この温度制御装置は、真空チャンバ11内に設置されかつ対象物を配置する伝熱ステージ12の温度を制御するための温度制御装置であって、ピストン機構部13Aと冷凍機冷却部13Bを有し、冷凍機冷却部を伝熱ステージに直接に接触させるように当該冷凍機冷却部が真空チャンバの内部に配置されるようにされた冷凍機13と、冷凍機の冷却運転動作を制御する制御部17とを備えるように構成される。また真空処理装置10はこの温度制御装置を備えるように構成される。 (もっと読む)


【課題】反りの発生を抑制すると共に、膜厚分布の発生を抑制して、電池を組み立てた際に、初期短絡の発生やサイクル寿命の短命化を招かない電池用正極の製造方法を提供する。
【解決手段】基材の外周部を、基材ホルダーにより固定する基材固定工程と、固定された基材の表面に、気相成長法を用いて、正極層を成膜する成膜工程とを有する電池用正極の製造方法であって、基材を上下方向から保持する1対の中枠と、中枠を外側から保持し、かつ、開口部が基材面側から外側に向けて開口面積が大きくなるように形成される1対の外枠とを有する基材ホルダーを用い、基材ホルダーにより固定される基材のうち、開口部内に位置する基材の表面に、正極層を成膜する。 (もっと読む)


【課題】 被処理基板に傷や割れが発生することを抑制できると共に、部品点数が少なく、パーティクルが付着しにくい基板ホルダー及びこれを用いた基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板ホルダー1は、被処理基板Sの被処理面側の外周部に当接する当接部112と、被処理基板の被処理面を露出させる開口113とを有し、被処理基板の被処理面を露出させた状態で当接部で被処理基板を支持する支持部材を備え、当接部112には、被処理基板の端部に対向する位置に凹部14が設けてある。基板搬送装置は、これを備える。 (もっと読む)


【課題】水と反応すると危険な成膜原料で薄膜を形成する際、安全に成膜を実施できる成膜装置、および成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜対象である基材9を内部に収納する真空チャンバー2と、真空チャンバー2内で基材9を保持するホルダー4と、ホルダー4に対向する位置に設けられる蒸発源3と、ホルダー4内に冷媒を循環させる循環機構40とを備える成膜装置1である。そして、この成膜装置1においてホルダー4内に循環される冷媒を非水系冷媒とする。このような構成とすることで、ホルダー4に保持される基材9を冷却しつつ、蒸発源3で蒸発させた成膜原料を基材9の表面に成膜することができ、その成膜の際に安全性を確保することができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、基板の冷却効果及び、加熱効率を高めた、省スペースのロードロック室を提供する。
【解決手段】 ロードロック室は、未処理基板を搬入し、処理基板を搬入するロードロック室であって、ロードロック室内部の上方に設けられた基板加熱手段と、ロードロック室内部であって、かつ基板加熱手段の下方に対向配置された、基板冷却手段と、ロードロック室を区画するように設けられ、基板加熱手段に接近可能な第1ステージと、第1ステージに設けられ、基板を支持する複数の第1ピンと、基板冷却手段を備えた第2ステージと、前記第2ステージに設けられ、基板を支持する複数の第2ピンと、を備え、基板加熱手段によって基板を加熱する際には、第1ピンは第1ステージ内に収納されず、基板冷却手段によって基板を冷却する際には、第2ピンは第2ステージ内に収納されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】機能性微粒子の純度を高めつつ、機能性微粒子を含む機能膜を基材の表面に安定して形成すること。
【解決手段】開放型で不活性ガスを用いて雰囲気制御を行うヘッド24を用いて、液中の機能性微粒子4をミストジェット技術にて所望の分布で基板3上に吐出させる工程と、その後に大気圧プラズマ化学輸送法により薄膜8を成膜させる工程とを交互に繰り返す。 (もっと読む)


【課題】キャリアからの基板の脱落を防止すると共に、キャリアを高速で搬送することができるインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】第1の支持部材41の熱膨張による水平方向の伸びに応じて、この第1の支持部材41が支持台40の取付面S1に沿った方向に変位可能に支持され、第2の支持部材42の熱膨張による水平方向の伸びに応じて、この第2の支持部材42が第1の支持部材42の取付面S2に沿って、第1の支持部材41の熱膨張による水平方向の伸びを打ち消す方向に変位可能に支持され、ホルダ3の熱膨張による鉛直方向の伸びに応じて、このホルダ3が第3の支持部材43の取付面S3に沿って、第1及び第2の支持部材41,42の熱膨張による鉛直方向の伸びを打ち消す方向に変位可能に支持されている。 (もっと読む)


【課題】基板をセットする際に、基板の下辺が下辺支持部材に不適当に接触する事態を防止すると共に、搬送時に生じる振動による衝撃を確実に軽減することにより、基板の破損を可及的に低減し得る基板フォルダを提供する。
【解決手段】基板搬送装置でガラス基板を搬送するに際して、ガラス基板2の下辺を下辺支持部材4で支持した状態で前記基板を縦姿勢で保持する基板フォルダ1であって、下辺支持部材4が、ガラス基板2の下辺が載置されるし平面を有する載置部7と、該載置部7を下方から支持し且つ載置部7に載置されるガラス基板2の重量で弾性変形可能な弾性変形部8とを備えている。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、微粒子による汚染を減少させることのできる基板ホルダを提供することである。
【解決手段】本発明は、基板支持体と、第1の位置においては支持体上に配置された基板と係合し、別の位置においては基板から離れて配置されるように構成された可動クリッピング手段と、クリッピング手段を第2の位置から第1の位置へ動かすための位置決め手段とを備えた基板ホルダに関する。基板が支持体上に配置されていないときにクリッピング手段と支持体との接触を防止するために、弾性停止要素が使用され、この弾性停止要素は、クリッピング手段の運動を制限する。さらに本発明は、これらの基板ホルダおよびクリッピング装置を使用したクリッピング装置およびイオン注入装置に関する。 (もっと読む)


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