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国際特許分類[C23C18/20]の内容

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【課題】高精細かつ密着性に優れた金属配線を製造できると共に、ビアの接続信頼性に優れた多層配線基板を、高歩留まりで製造する製造方法を提供する。
【解決手段】(A)第1の導電層14を備える配線基板表面に、絶縁層、及び、所定の官能基を有するポリマーを含む層にエネルギー付与して得られる密着樹脂層20をこの順で備える積層体を形成する工程と、(B)前記密着樹脂層に対してめっき触媒を付与した後、めっきを行い、第2の導電層24を形成する工程と、(C)レーザ加工又はドリル加工により、第2の導電層、絶縁層を貫通し、前記第1の導電層に達するようにビアホール26を形成する工程と、(D)デスミア処理を行う工程と、(E)前記ビアホール壁面に対して、カーボンブラックまたはグラファイトを付与した後、無電解めっきを行うことなく、電気めっきを行い、前記第1の導電層と前記第2の導電層とを電気的に接続する工程とを備える製造方法。 (もっと読む)


【課題】高周波回路用の疎水性基板であるPTFE基板表面に、均質かつ緻密な銅メッキ被膜を容易に形成させること。
【解決手段】本発明のメッキ方法では、PTFE基板をヘリウムガス存在下でプラズマ処理する工程(1)と、前記基板をアミノシランカップリング剤と反応させ、前記基板の表面に自己集積化単分子膜(SAM)を形成する工程(2)と、SAMを形成した前記基板を、パラジウム塩を含有する水溶液である無電解メッキ用触媒液で活性化処理する工程(3)と、前記基板に固定化されたパラジウムイオンを金属パラジウムに還元する工程(4)と、前記基板を無電解銅メッキ液で処理することにより、前記基板上に無電解銅メッキ被膜を形成する工程(5)と、前記基板を電解銅メッキ液で処理することにより、前記無電解銅メッキ被膜の上に電解銅メッキ被膜をさらに形成する工程(6)と、を順次行う。 (もっと読む)


【課題】樹脂基板上に銅配線パタ―ンを強い密着力で形成する。
【解決手段】回路基板の製造方法は、無機フィラー粒子の表面に、UVオゾン処理によりOH基を形成する工程と、前記OH基が結合した無機フィラーを、ビニル基を有するシランカップリング剤により処理する工程と、前記シランカップリング剤により処理した無機フィラー粒子に、トリアジンチオールあるいはトリアジンチオール系化合物を結合する工程と、前記トリアジンチオールあるいはトリアジンチオール系化合物を結合した無機フィラー粒子を樹脂前駆体中に混合する工程と、前記樹脂前駆体を硬化させることにより樹脂基板を形成する工程と、前記樹脂基板上に銅パタ―ンをメッキにより形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】金属光沢を有しながら、非導通性の金属膜を形成した樹脂製品を安価に提供する。
【解決手段】めっき触媒核となる金属を含む触媒成分を加圧二酸化炭素に分散させた加圧流体を用いて、表面から深さ1μmまでの表層領域1cmあたり、触媒成分を、触媒成分の金属換算で0.003〜0.05mg含有する樹脂成形体を作製し、触媒成分を含有する樹脂成形体を無電解めっき処理することにより非導通性金属光沢めっき膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、使用時のめっき剥がれに強く(めっきの密着性が高い)かつ、導電性が高い複合粒子の製造方法及び、更に無電解めっきを行う複合粒子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも、粒子表面に金属アルコキシ基を有する有機ポリマー粒子(A1)と、粒子表面に金属アルコキシ基を有する金属微粒子(B1)との混合物を加水分解・縮合させることを特徴とする複合粒子の製造方法である。更に無電解めっきを行う複合粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基材と銅めっき層の常態での初期密着力、及び耐熱エージング試験(大気中、150℃、168時間)での密着力が0.4kgf/cm以上となるフレキシブル基板用銅張り積層体に用いる無電解めっき前処理液、及び該無電解めっき前処理液を用いて作製されたフレキシブル基板用銅張り積層体を提供すること
【解決手段】フレキシブル基板用銅張り積層体の基材に用いる無電解めっき前処理剤であって、金属捕捉能を有するシランカップリング剤と、熱硬化性樹脂とを含み、該積層体の耐熱エージング試験(大気中、150℃、168時間)後の密着力(ピール強度)が0.4kgf/cm以上となることを特徴とする無電解めっき前処理剤。 (もっと読む)


【課題】無電解めっき処理において確実にめっきを析出し、樹脂基材の基材表面にオゾンガス処理を短時間かつ安価に行うことができるオゾンガス処理方法を提供する。
【解決手段】樹脂基材の基材表面にオゾンガスを接触させることにより、前記基材表面にオゾンガス処理を行う方法であって、前記オゾンガスを生成するオゾンガス生成工程S12と、該生成されたオゾンガスを加湿するオゾンガス加湿工程S13と、該加湿されたオゾンガスに前記樹脂基材の基材表面を曝露するオゾンガス曝露工程S14と、を少なくとも含む。 (もっと読む)


【課題】第一固体層(first solid layer)上に第二層(second layer)を形成するための化学反応を活性化することのできる第一固体層を基板の表面に形成する方法を提供する。
【解決手段】この方法は基板の表面と、硬化性組成物及び第二層形成の化学反応のための活性化剤を含む第一液を接触させ、そして硬化性組成物を硬化させて基板の表面へのその材料の付着度を増し、それにより基板の表面に第一固体層を形成して付着させ、第二流体(second fluid)と接触させた後に第二層の形成の化学反応を活性化させうることを含む。 (もっと読む)


【課題】めっき皮膜に良好な密着性及び導電性を備えさせることができる高分子繊維のめっき液並びにこれを用いた高分子繊維のめっき方法及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高分子繊維のめっき液は、(1)導電性皮膜として形成される金属を含有する成分としてCuSO・5HOを所定量と、(2)キレート剤としてEDTA−4Naを所定量と、(3)pH調整剤としてNaOHを所定量と、(4)還元剤としてHCHOを所定量と、(5)界面活性剤としてノニオン系界面活性剤又はポリエチレングリコールを所定量と、(6)分解抑制剤としてKCN、0−フェナントロリン、ネオクプロイン又は2,2−ビピリジルを所定量と、(7)添加剤としてNiSO4・6HO、CoSO・7HO、ZnSO・7HO、SnSO、及び、NaSn・3HOから選ばれるいずれか一種又は二種以上を所定量とからなる。 (もっと読む)


【課題】所望の基板表面に、めっき触媒若しくはその前駆体の受容性が良好なめっき受容層を形成しうるめっき受容性フィルム及びこれを用いた、金属層と基板との密着性に優れた金属層付き基板を、容易に形成することができる金属膜材料の製造方法を提供する。
【解決手段】めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する官能基を有する樹脂層の一方の表面に、分子内に少なくとも2つの反応性基を有する低分子化合物を付与してなるめっき受容性フィルム。 (もっと読む)


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