説明

国際特許分類[C23C18/28]の内容

国際特許分類[C23C18/28]の下位に属する分類

国際特許分類[C23C18/28]に分類される特許

41 - 50 / 54


【課題】基体、例えば、光学基体への金属層の接着を改善する方法の提供。および、かかる方法によって製造される装置の提供。
【解決手段】本発明の方法は、金属堆積に先立ち、メッキ触媒を含む接着促進組成物の層を基体上で用いる。本発明は、基体上に金属膜を堆積する方法であって、基体を準備する工程、基体上に接着促進組成物の層を堆積する工程、および接着促進組成物上に金属層を堆積する工程を含み、接着促進組成物が膜形成ポリマー、メッキ触媒およびポロゲンを含有する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 めっきの密着強度が大きく、外観も美しい、めっき樹脂成形体の製造方法の提供。
【解決手段】 熱可塑性樹脂成形体を、重金属を含まない酸又は塩基で接触処理する工程、触媒付与液で処理する工程、熱可塑性樹脂成形体の表面に、ダイレクトプレーティング法により導電性層を形成させる工程、及び電気めっきする工程とを具備しており、重金属を含む酸によるエッチング工程を含まないめっき樹脂成形体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基材との密着性に優れ、且つ基板との界面における凹凸が少ない金属膜を簡便な工程により形成しうる金属膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 表面の凹凸が500nm以下の基板上に、無電解メッキ触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を有するポリマーを直接化学的に結合させたポリマー層を有し、該ポリマー層上に無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与した後、無電解メッキを行うことで設けた金属膜であって、該基板と該金属膜との密着性が0.2kN/m以上であることを特徴とする金属膜、及び、(a)表面の凹凸が500nm以下の基板上に、無電解メッキ触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を有し且つ該基材と直接化学的に結合するポリマーを導入する工程と、(b)該ポリマーに無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与する工程と、(c)無電解メッキを行う工程と、を有することを特徴とする金属膜の形成方法。 (もっと読む)


本発明は、絶縁性基体上への金属付着のための粘度調整可能な感光性分散液に関し、該感光性分散液は、光照射下に酸化−還元特性を与える顔料、金属塩、該金属塩の封鎖剤、液状膜形成性高分子配合物、塩基性化合物、有機溶媒および水を組み合せて含む。本発明はまた前記分散液の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】 熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を基材に用いた高精細且つ高周波用途に適した配線基板用フィルム基材を提供すること。
【解決手段】 ポリイミドまたは液晶ポリマー(LCP)からなる樹脂フィルム11と、樹脂フィルム11上に塗布された有機SOG溶液の塗布膜を硬化させたシロキサンポリマーを含むポリマー膜12と、ポリマー膜12を下地層としてNi−B無電解メッキ液に浸漬してメッキ処理により形成された金属膜13と、を有する配線基板用フィルム基材10。
(もっと読む)


自己触媒析めっきは、金属、例えばコバルト、ニッケル、金、銀または銅が化学還元工程を介して基板上に析出される無電解めっき形式である。通常、この工程から導入される被覆は、他の工程から導入されるものと比べて、より均質で、より接着性があり、それを、通常、普通とは違った形状の表面に適用することができる。通常、非金属表面を、基板の適切な増感に続くこの工程を介してのみ、被覆することができる。したがって、本発明は、印刷可能なインク配合物内に適切な充填剤を備える還元可能な銀塩を使用することによって、表面調製のための必要を低減する金属被覆の後続の自己触媒析出用の基板材料を調製する方法を提供する。自己触媒析出を、全表面を被覆するために使用することができ、または所定のパターンを、知られている印刷方法によって、析出させることができる。 (もっと読む)


【課題】従来の方法と比べて少ない工程を有し、短時間で容易に、集積回路用基板等の各種基材上に金属パターンを形成することのできる方法を提供する。
【解決手段】(A)加水分解性シラン化合物、その加水分解物及び該加水分解物の縮合物からなる混合物と、(B)光酸発生剤と、(C)無電解メッキの触媒となり得る、金属原子を有する化合物とを含む感光性樹脂組成物を調製する。基材1上にこの感光性樹脂組成物を塗布して、塗布層2を形成した後、塗布層2の一部に選択的に光を照射して、塗布層2を部分的に硬化させる。その後、塗布層2を現像処理して、未硬化部分を除去し、所定のパターン形状を有する樹脂硬化物5を得る。樹脂硬化物5と無電解メッキ液6とを接触させると、樹脂硬化物5の表面に金属薄膜層7を形成してなる金属パターン10が得られる。 (もっと読む)


【課題】 高い導電性及び密着性を有し、且つ導電性素材の保持性及びその持続性に優れた導電膜の製造方法、及び該導電膜の製造方法により得られた導電膜を提供すること。
【解決手段】 基材上に、無電解メッキ触媒又はその前駆体と相互作用しうる官能基及び架橋性官能基を有するグラフトポリマーを直接結合させる工程と、該グラフトポリマーに無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与して無電解メッキ触媒含有層を形成する工程と、該無電解メッキ触媒含有層にエネルギーを付与することにより、該無電解メッキ触媒含有層中に架橋構造を形成する工程と、無電解メッキを行う工程と、を有することを特徴とする導電膜の製造方法、及び、該導電膜の製造方法により得られた導電膜である。 (もっと読む)


【課題】 本発明では、基板の表面に選択的にめっき触媒を付着させることができ、所望パターンで付着しためっき触媒によって所望パターンの配線を形成することができる技術を実現する。
【解決手段】 本発明の方法は、基板の上に選択的に導体をめっきすることによって配線を形成する方法であって、自己組織化単分子膜を基板の表面に形成する成膜工程と、前記自己組織化単分子膜に選択的に光を照射する露光工程と、前記自己組織化単分子膜の露光部を除去する洗浄工程と、前記基板の上にめっき触媒を付与する触媒付与工程と、前記基板の上に導体を無電解めっきする無電解めっき工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は選択的にめっきすることによって配線を形成しながら、基板と配線の間で高い密着性を得ることができるめっき配線形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、樹脂基板の上に選択的に導体をめっきすることによって配線を形成する方法であって、基板の表面にオゾン水を接触させるオゾン水処理工程と、基板の表面に選択的に光を照射する露光工程と、基板の表面にアルカリ処理液を接触させるアルカリ処理工程と、基板の表面にめっき触媒を付与する触媒付与工程と、基板の表面に導体を無電解めっきする無電解めっき工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


41 - 50 / 54